JPS61201441A - ウエハのアライメント装置 - Google Patents

ウエハのアライメント装置

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Publication number
JPS61201441A
JPS61201441A JP60041080A JP4108085A JPS61201441A JP S61201441 A JPS61201441 A JP S61201441A JP 60041080 A JP60041080 A JP 60041080A JP 4108085 A JP4108085 A JP 4108085A JP S61201441 A JPS61201441 A JP S61201441A
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
point
rollers
optical system
alignment
Prior art date
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Pending
Application number
JP60041080A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiji Namiki
南木 美嗣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication of JPS61201441A publication Critical patent/JPS61201441A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体ウェハの加工工程において、該ウェハ
を精密に位置決めする為のアライメント装置に関するも
のである。
〔発明の背景〕
半導体ウェハlは一般に第3図に示すごとく、はぼ円形
の薄板に構成され、粗位置決め(プリアライメント)を
行う為の切欠(オリフラ)laが設けられている。
このウェハlを自動機器に供給して路光などの加工を行
う場合、精密な位置決めをする為の準備工程としてプリ
アライメントが行われる。
上記のプリアライメントの技術として、第4図に示すよ
うな3点ローラ式のプリアライメント装置が公知である
本第4図に仮想線で描いたlはウェハの外形を対比する
為に示したものであシ、所望のプリアライメント位置を
表わしている。
オリフラIaK&って3個のローラ2a、 2b、 2
Gが設けられている。詳しくは、両端のローラ2al 
2Cがオリフラ1 a K gし、中央のローラ2bは
オリフラlaから微小寸法dだけ離間するようにオフセ
ットされている。
左端のローラ2aは図の左回りに、中央のロー22bと
右端のローラ2Cとは右回シに、それぞれ回転せしめら
れる。
上記3個のローラ(3点ローラと呼ぶ) 2 a、 z
 b+20に対して適宜に離れた位置に、位置決め用の
ローラ3が設けられ、かつ、ウェハ1を矢印Aの如く(
即ち、位置決めローラと3点ローラとの中間に同かう方
向に)押動する手段が設けられる。
上記の矢印A方向の押動手段としては、プリアライメン
トの途中では例えばエアーを吹きつける方法が用いられ
、プリアライメントを終了する時点ではブツシャローラ
などの機械的部材が用いられる。
第5図に示すごとく、任意の姿勢にウェハlを供給して
矢印A方向に押しつけると(偶然にオリフラlaが3点
ローラ2a〜2Cに正対した場合を除き)ウェハlの周
囲の円弧部分が中央のローラ2bに接する。この状態(
第5図)において両端のローラ2a、2cはウェハ1に
指触しないので、ウェハlは中央のローラ2bによって
矢印りの如く図示左回)方向に回動せしめられる。
ウェハlが回動して、第4図に示したようにオIJ 7
うlaが3点ローラ2a〜2Cに正対する姿勢になると
、該オリフラ1aは中央のローラ2bから離間して、両
端のローラ2a、2Cの指触を受ける。ところが、この
状態(第4図)においては両端のローラ2aと同2Cと
がそれぞれ反対方向に回転しているので、ウェハlが受
ける回転駆動力が相殺され、該ウェハ1が静止するので
、両端のローラ2a、 2cを停止させ、矢印A方向の
押動によってウェハlをローラ2a、 2C@ 3に押
しつけてプリアライメントを完了する。
第6図に実線で示した1の如くプリアライメントを完了
したウェハは、回動アーム6によって吸着把持されてx
−Yテーブル4上に搬送される。
ウェハ1には精密位置決め用のアライメントパターンl
bが設けられており、x−Yテーブル4上に搬送、IR
置されたウェハ1′のアライメントパターンlb’ I
c対向するように光学系(図示省略)の対物レンズ5が
設置されている。
X−Yテーブル4は、光学系によって7ライメントパタ
ーン1b’を拡大投影しつつ、その位置が所定の個所へ
来るようにX−Yテーブル4を図のx−x’方向、Y−
Y’方向にサブミクロンオーダで微動させる。これによ
ってウェハlの精密位置決め(アライメント)が完了す
る。
上に述べた精密位置決めの操作を迅速に、しかも、1j
lli1度で行うには、準備工程としてのプリアライメ
ントが出来る限シ梢密に行われることが望ましい。とこ
ろが、第6図に示した従来技術においては、プリアライ
メントを精密に行っても、これを吸着把持し、搬送し、
X−Yテーブル4上の吸着手段(図示せず)に受渡す途
中で位置ずれを生じるという問題が有る。その上、ウェ
ハlを吸着把持して搬送することは、ウェハの清浄を維
持する為にも余シ好ましくない。
上記の不具合を解消するため、本発明者は第7図に示す
ようなアライメント装置を創作した(以下、試案と言う
)。
7はX−Yテーブルで、 7aはそのベース部分である
。このベース部分である下段7aの上に、X−X′方向
の移動可能な中段のテーブル(本図において隠れている
)を介して、Y−Y’方向の移動可能な上段のテーブル
7bが搭載されていて、この上段のテーブル71は水平
面内で直又2軸X、YiCiつてN@に駆動される。ウ
ェハlは上記の上段7b上に供給される。
上記のX−Yテーブル7のベース部材である下段7aを
往復矢印B−B’の如く水平に一定距離だけ往復動せし
めるように案内手段及び駆動手段(共に図示せず)を設
ける。
実線で示した7は矢印B方向に移動した状態のX−Yテ
ーブル、鎖線で示した7′は同じ<B′方向に移動した
状態のX−Yテーブルである。
7位置のX−Yテーブル上にウェハ1をプリアライメン
トするように3点ローラ2a# 2bl 2C及び位置
決めローラ3を設ける。8は上記3点ローラ2a、 2
b、 2Cの駆動手段である。
7位置のX−Yテーブル上にプリアライメントしたウェ
ハを実線lで示す。1aはオリフラ、lbはアライメン
ト用のパターンである。
上記のX−Yテーブル7を7′位置に駆動したとき、そ
の上に位置決めされたウエノ%を鎖線1′で示す。lb
’はこの状態におけるアライメント用のパターンである
上記の状態のアライメント用パターンlb′に対向する
よう、光学系(図示せず)の対物レンズ5を位置せしめ
て、該光学系を当該アライメント装置の固定部分に設置
する。
以上のように構成した試案の7ライメント装置(第7図
)によれば、7位置のX−Yテーブル上でウェハを1位
置にプリアライメント済、これをX−Yテーブルの上段
7bに対して吸着固定し、XYテーブルを7′位置に移
動せしめる。すると、搭載固定さ゛れたウエノ、 1/
は、そのパターン1b’lt物レンズ5に正対せしめら
れる。
この試案の装置によると上述の構造機能から明らかなよ
うに、ウエノ・lがその表面を吸着把持されないので汚
染される虞れが無く、また、吸着把持→搬送→受渡しと
いった工程を含まないので、搬送・受渡しによる位置ず
れを生じる虞れが無い。
ところが、上記の試案(第7図)において、X−Yテー
ブル7を7′位置に移動させるとき、該X−Yテーブル
7に搭載されている3点ローラが光学系(対物レンズ5
を支承している。図示省略)に干渉するという問題が有
る。
上記の3点ローラ2L 2b、 2cは駆動手段8に取
シ付けられていて容易に着脱できないので、該3点ロー
ラを退避させようとすると、該3点ローラに比して大形
、大重量の機器である駆動手段8を一緒に退避させる必
景かあシ、かつ、退避の後に元位置に復帰したとき、精
密に原位置と一致しなければならない。
〔発明の目的〕
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので、X−Yテ
ーブルをプリアライメント位置から光学系を設けた位置
に移動させる際、上記X−Yテーブルに搭載した3点ロ
ーラが光学系機器と干渉しないように迅速、容易に退避
することができ、しかも精密に原位置に復元せしめ得る
、ウエノ・のアライメント装置を提供しようとするもの
である。
〔発明の概要〕
前記の目的を達成するため、本発明に係るウェハのプリ
アライメント装置は、水平な直交2軸に旧って精密に移
動する機能を備えたX−Yテーブル上にプリアライメン
ト装置を搭載し、上記のプリアライメント装置はウェハ
のオリ7うに当接する3点ローラと、該9エノ1の円周
に当接する位置決めローラとを設けたものとし、かつ、
前記プリアライメント装置に載置したプリアライメント
済みのウェハが光学系の対物レンズに正対するように前
記のX−Yテーブルのベース部材を移動せしめる構成の
ウェハ用アライメント装置において、前記の3点ローラ
は、これを上下移動架台に搭載したものとし、かつ、該
上下移動架台はX−Yテーブルのベース部材に設置した
垂直なレールによって摺動自在に案内されるとともに、
上下駆動手段を設けたものとして、X−Yテーブルを移
動させる際、該X−Yテーブルに搭載された3点ローラ
が光学系と干渉しないように下方へ退避できるように構
成したことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
次に、本発明の1実施例を第1図及び第2図について説
明する。
本実施例は第7図に示した試案の装置に本発明を適用゛
して改良した1例であって、第7図(試案)におけると
同一の図面参照番号を付した部材は試案の構成部材と同
様乃至類似の構成部材である。
上下移動架台を構成して3点ローラ駆動手段8および3
点ローラ2a、 2b、 2Cを搭載する。
一方、第2図に示したようにX−Yテーブル7は、X−
Yテーブルのベース部材7aに対してY軸方向(B −
B’方向と同じ)に精密に駆動される中段のテーブル(
Xテーブル7Cの上に、Y軸方向(第2図において紙面
と垂直)に精密に駆動される上段のテーブル(Yテーブ
ル)7bを搭載して構成されている。
上記の下段テーブルであるベース部材7aは水平案内手
段11(第2図)上に載置されて往復矢印B−B’方向
に往復駆動される。
上記X−Yテーブルのベース部材7aに2対の垂直な案
内レール12を植設する。
本発明を実施する場合、上記の案内レール12の設置個
数は任意に設定することができる。
前記の上下移動架台10を上記垂直案内レールLによっ
て上下動を案内するとともに、駆動手段(図示省略)を
設け、3点ローラ2a、 2b、 2Cを支承している
3点ローラ駆動手段8を上下に駆動し得るように構成す
る。
以上のように構成したウェハのアライメント装置(第1
図、第2図)においては、X−Yテーブル7を矢印B′
方向に移動させる際、ウェハ1(仮想線で示す)の直上
部に位置する光学系(図示せず)との干渉を避けるよう
、上下移動架台10を下降させて3点ローラ2a、 2
b、 2c t−下方に退避せしめる。
上記の回避作動は3点ローラ駆動手段8を一緒に動かし
て行なうが、該駆動手段8を搭載した上下移動架台10
は2対の垂直案内レール12によって支承・案内されて
いるので、迅速、容易に行うことができ、更に該上下移
動架台10を上昇せしめて3点ローラ2al 2b、 
2Cを原位置に復元させることも容易である。
その上、3点ローラ2 a+ 2 b * 2 cの退
避、復元作動は垂直案内レールしに案内されて垂直上下
方向に行われるので、該3点ローラ2al 2bl 2
Cは退避。
復元作動に際してその平面位置(水平投影面上における
位置)が変化しない。従って、その上下駆動における停
止位置に若干の誤差が有っても、ウェハ1のプリアライ
メント作用に誤差を生せしめる虞れが無い。
〔発明の効果〕
以上詳述した如く、本発明に係る装置によれば、3点ロ
ーラ式プリアライメント装置を備えたウェハ用の7ライ
メント装置において、x−Yテーブルをプリアライメン
ト位置から光学系を設けた位置に移動させる際、上記X
−Yテーブルに搭載した3点ローラが光学系機器と干渉
しないように迅速、容易に退避することができ、しかも
精密に原位置に復元せし゛め得るという優れた実用的効
果を奏する。
1面の簡単な説明 点ローラ式ダリアライメント装置のローラ配置を示す平
面図、第5図は同じく作動説明図、第6図は従来のアラ
イメント装置の1例を示す平面図である。第7図は試案
の装置の説明図である。
1.1′・・・ウェハ、1a・・・オリフラ、1b、I
b’・・・アライメント用のパターン%  2al 2
b、 2C・・・3点ローラ、2a’、 2b’+ 2
c’−3点ローラ、3,3’・・・位置決めローラ、4
・・・X−Yテーブル、5・・・対物レンズ。
6−DO駆動−A、  7.7’−X−Yテーブル、7
a。
7a′・・・ベース部材である下段、7b、7b′・・
・上段、7C・・・中段、8・・・3点ローラの駆動手
段、10・・・上下移動架台、11・・・水平案内手段
、12・・・垂直案内レール。
特 許 出 願 人 日立電子エンジニアリング株式会
社代理人 弁理士 秋  本  正   実第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水平な直交2軸に沿つて精密に移動する機能を備えたX
    −Yテーブル上にプリアライメント装置を搭載し、上記
    のプリアライメント装置はウェハのオリフラに当接する
    3点ローラと、該ウェハの円周に当接する位置決めロー
    ラとを設けたものとし、かつ、前記プリアライメント装
    置に載置したプリアライメント済みのウェハが光学系の
    対物レンズに正対するように前記のX−Yテーブルのベ
    ース部材を移動せしめる構成のウェハ用アライメント装
    置において、前記の3点ローラは、これを上下移動架台
    に搭載したものとし、かつ、該上下移動架台はX−Yテ
    ーブルのベース部材に設置した垂直なレールによつて摺
    動自在に案内されるとともに、上下駆動手段を設けたも
    のとして、X−Yテーブルを移動させる際、該X−Yテ
    ーブルに搭載された3点ローラが光学系と干渉しないよ
    うに下方へ退避できるように構成したことを特徴とする
    、ウェハのアライメント装置。
JP60041080A 1985-03-04 1985-03-04 ウエハのアライメント装置 Pending JPS61201441A (ja)

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