JPS6122612A - モノリシツクコンデンサの縁端処理方法 - Google Patents
モノリシツクコンデンサの縁端処理方法Info
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- JPS6122612A JPS6122612A JP60078628A JP7862885A JPS6122612A JP S6122612 A JPS6122612 A JP S6122612A JP 60078628 A JP60078628 A JP 60078628A JP 7862885 A JP7862885 A JP 7862885A JP S6122612 A JPS6122612 A JP S6122612A
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T29/435—Solid dielectric type
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコンデンサの構造を完成させることに関するも
ので、更に詳しく言えば、モノリシックコンデンサの電
極層の縁端に電気的接続を行うことに関する。
ので、更に詳しく言えば、モノリシックコンデンサの電
極層の縁端に電気的接続を行うことに関する。
本願は、1984年4月16日に提出された米国特許出
願第600618号の継続出願である。
願第600618号の継続出願である。
現在、交互に配置された電極材料層および誘電体層を有
しかつ各層は極めて薄いがその総数は数千にも達するよ
うな小形のモノリシックコンデンサを製造することが可
能になっている。1983年12月19日に提出された
[小形化モノリシック多層コンデンサ並びにそれの製造
装置および製造方法」と称する米国特許出願第5627
79号明細書中には、コンデンサの極板を成す電極層が
200〜500オングストロームの厚さを有しかつそれ
らの電極層が厚さ約1ミクロンの誘電体被膜によって隔
離されているようなコンデンサが開示されている。この
ような構造を持ったコンデンサの縁端処]IJjは困難
である。なぜなら、かかる極めて薄い電極層には端面が
実質的に存在せず、また電極層を部分的に露出させても
その露出端部は補選的に弱いからである。
しかつ各層は極めて薄いがその総数は数千にも達するよ
うな小形のモノリシックコンデンサを製造することが可
能になっている。1983年12月19日に提出された
[小形化モノリシック多層コンデンサ並びにそれの製造
装置および製造方法」と称する米国特許出願第5627
79号明細書中には、コンデンサの極板を成す電極層が
200〜500オングストロームの厚さを有しかつそれ
らの電極層が厚さ約1ミクロンの誘電体被膜によって隔
離されているようなコンデンサが開示されている。この
ような構造を持ったコンデンサの縁端処]IJjは困難
である。なぜなら、かかる極めて薄い電極層には端面が
実質的に存在せず、また電極層を部分的に露出させても
その露出端部は補選的に弱いからである。
従って本発明の目的の1つは極めて薄い電極層および樹
脂誘電体を有する小形のモノリシックコンデンサに対し
て好適に適用し得る改良された縁端処理方法を提供する
ことにある。それに付随して、望ましい強度特性および
電気的接触特性を有する縁端構造を具備した上記のごと
きコンデンサを提供することも本発明の目的の1つであ
る。
脂誘電体を有する小形のモノリシックコンデンサに対し
て好適に適用し得る改良された縁端処理方法を提供する
ことにある。それに付随して、望ましい強度特性および
電気的接触特性を有する縁端構造を具備した上記のごと
きコンデンサを提供することも本発明の目的の1つであ
る。
また、高い信頼度をもって機能す丞上記のごとき方法を
提供することも本発明の目的の1つである。更にまた、
経済的な材料を使用し得ると同時に精巧かつ特殊な設備
を必要としない点であまり経費のかからない−F記のご
とき方法を提供することも本発明の目的の1つである。
提供することも本発明の目的の1つである。更にまた、
経済的な材料を使用し得ると同時に精巧かつ特殊な設備
を必要としない点であまり経費のかからない−F記のご
とき方法を提供することも本発明の目的の1つである。
本発明のその他の目的および利点は、添付の図面を参照
しながら以下の詳細な説明を読むことによって自ら明ら
かとなろう。
しながら以下の詳細な説明を読むことによって自ら明ら
かとなろう。
以下、好適な実施の態様に関連して本発明を説明−する
が、本発明がそれらの実施の態様のみに限定されるもの
でないことは言うまでもない。それどころか、前記特許
請求の範囲によって規定された本発明のt!囲内に包含
され得る全ての変更態様を対象とすることが意図されて
いるのである。
が、本発明がそれらの実施の態様のみに限定されるもの
でないことは言うまでもない。それどころか、前記特許
請求の範囲によって規定された本発明のt!囲内に包含
され得る全ての変更態様を対象とすることが意図されて
いるのである。
図面を参照しながら説明すれば、導電性基板11、互い
違いにずらして積層状態に配置されたストリップ状の電
極層12、およびそれらの電極層を包囲しかつ結合して
いる硬化誘電体樹脂13からなるコンデン材料シート1
0が第1図に示されている。かかるシートを形成するた
めに使用し得る方法および装置は、前述の米国特許出願
562779号明細書中に開示されている。
違いにずらして積層状態に配置されたストリップ状の電
極層12、およびそれらの電極層を包囲しかつ結合して
いる硬化誘電体樹脂13からなるコンデン材料シート1
0が第1図に示されている。かかるシートを形成するた
めに使用し得る方法および装置は、前述の米国特許出願
562779号明細書中に開示されている。
第1図に例示されたシート10は10個の電極層しか有
していないから、形成される電極対の数は僅か5にすぎ
ない。しかし、前記特許出願明細書中に説明されている
通り、電極層の厚さは200〜500オングストローム
であり、かつそれらが厚さ約1ミクロンの樹脂被膜によ
って隔離されているから、実際のコンデンサ材料シート
は数千個の電極層を含み得る。
していないから、形成される電極対の数は僅か5にすぎ
ない。しかし、前記特許出願明細書中に説明されている
通り、電極層の厚さは200〜500オングストローム
であり、かつそれらが厚さ約1ミクロンの樹脂被膜によ
って隔離されているから、実際のコンデンサ材料シート
は数千個の電極層を含み得る。
シート10からコンデンサを製造するためには、処理す
べき]ンデンナ縁端16を規定するl1115に沿って
シート10が切断され、次いで横方向の切断を行うこと
によって所望寸法のコンデンサブロック17が形成され
る。本発明者等が行った実施例について述べれば、加工
すべきブロックの縁@i16間の距離は約14mmであ
り、縁端16は約5mmの幅および1mmの厚さを有し
、そして各縁端には約250オングストロームの厚さを
もった500個のアルミニウム電極層が露出していた。
べき]ンデンナ縁端16を規定するl1115に沿って
シート10が切断され、次いで横方向の切断を行うこと
によって所望寸法のコンデンサブロック17が形成され
る。本発明者等が行った実施例について述べれば、加工
すべきブロックの縁@i16間の距離は約14mmであ
り、縁端16は約5mmの幅および1mmの厚さを有し
、そして各縁端には約250オングストロームの厚さを
もった500個のアルミニウム電極層が露出していた。
基板11は厚さ約1.5ミクロンの銅から成っており、
また電極層同士は厚さ約1〜1.5ミクロンの樹脂13
によって隔離されていた。
また電極層同士は厚さ約1〜1.5ミクロンの樹脂13
によって隔離されていた。
コンデンサの製造に当っては、コンデンサの全幅にわた
って基板11に切欠き18を設けることにより、縁端1
6同士が電気的に分離される。好ましくは、不活性化層
兼防湿層として役立つ薄いエポキシ樹脂被覆19でコン
デンサ本体が被覆され、次いでそれを高温下で乾燥する
ことによって残留水分が除去される。前述の実施例にお
いては、かか−る目的のために60℃で13時間の乾燥
サイクルが有効であった。
って基板11に切欠き18を設けることにより、縁端1
6同士が電気的に分離される。好ましくは、不活性化層
兼防湿層として役立つ薄いエポキシ樹脂被覆19でコン
デンサ本体が被覆され、次いでそれを高温下で乾燥する
ことによって残留水分が除去される。前述の実施例にお
いては、かか−る目的のために60℃で13時間の乾燥
サイクルが有効であった。
本発明に従って述べれば、酸素プラズマ中で縁端16を
灰化して電極層12間の誘電体樹脂を(エツチングなど
によって)除去することにより、幅の狭い電極表面21
が露出される。次いで、縁端16上にニッケル被膜22
を蒸着することによって幅の狭い電極表面21が被覆さ
れる。更に、保護用の導電性材料層23が被膜22上に
設置される。詳しく述べれば、上記の沃化工程は真空環
境中において行われ(前述の実施例では約3X10”T
orrの真空を使用した)、そしてかかる沃化工程のた
めに発生される酸素プラズマはそれに暴露された樹脂を
焼却する(即ち、エツチングによって除去する)。前述
の実施例では、上記の真空中において100キロヘルツ
で発生させた50ワツトのプラズマにより、約1ミクロ
ンの樹脂が30分で除去された。
灰化して電極層12間の誘電体樹脂を(エツチングなど
によって)除去することにより、幅の狭い電極表面21
が露出される。次いで、縁端16上にニッケル被膜22
を蒸着することによって幅の狭い電極表面21が被覆さ
れる。更に、保護用の導電性材料層23が被膜22上に
設置される。詳しく述べれば、上記の沃化工程は真空環
境中において行われ(前述の実施例では約3X10”T
orrの真空を使用した)、そしてかかる沃化工程のた
めに発生される酸素プラズマはそれに暴露された樹脂を
焼却する(即ち、エツチングによって除去する)。前述
の実施例では、上記の真空中において100キロヘルツ
で発生させた50ワツトのプラズマにより、約1ミクロ
ンの樹脂が30分で除去された。
かかる沃化工程の後、縁@16上に薄いニッケル被膜2
2”を蒸着することにより、電極層12間に信頼可能な
電気的接続が達成され、かつ電極表面21を規定する露
出電極端部が補強される。ニッケルが選択された理由は
、それが安い価格、アルミニウムとの適合性、大きな強
度、S宿性および以後の工程との適合性を有することに
ある。かかる蒸着]l稈は真空環境中において行われる
のが通例であって、前述の実施例では厚さi ooo〜
1500オングストロームの被膜が得られた。
2”を蒸着することにより、電極層12間に信頼可能な
電気的接続が達成され、かつ電極表面21を規定する露
出電極端部が補強される。ニッケルが選択された理由は
、それが安い価格、アルミニウムとの適合性、大きな強
度、S宿性および以後の工程との適合性を有することに
ある。かかる蒸着]l稈は真空環境中において行われる
のが通例であって、前述の実施例では厚さi ooo〜
1500オングストロームの被膜が得られた。
保護用の導電性材PI層23を設置するためには3種の
技術が使用可能である。第一に、導電性材料層23は無
電解めっき法(即ち、溶解ニラクル浴中に縁端16を浸
漬する方法)によって設置することができる。前述の実
施例では、第7図に暗示されるごとく、100071の
シプレー・ニポジット(S hipley N 1p
osit) 468浴中に縁端16を70℃で15分間
浸漬することによって厚さ約3.5ミクロンの導電性材
料層が形成された。
技術が使用可能である。第一に、導電性材料層23は無
電解めっき法(即ち、溶解ニラクル浴中に縁端16を浸
漬する方法)によって設置することができる。前述の実
施例では、第7図に暗示されるごとく、100071の
シプレー・ニポジット(S hipley N 1p
osit) 468浴中に縁端16を70℃で15分間
浸漬することによって厚さ約3.5ミクロンの導電性材
料層が形成された。
かかる無電解めっきの後、処理済みのブロックは蒸留水
で洗浄され、それから10’Torrの真空中で乾燥さ
れた。第7図には、導電性材料層23がニッケル層24
の成長により形成されたものとして図示されている。
で洗浄され、それから10’Torrの真空中で乾燥さ
れた。第7図には、導電性材料層23がニッケル層24
の成長により形成されたものとして図示されている。
無電解めっき法が特に好適であるとはいえ、その他の方
法も使用可能である。例えば、第9図に暗示されるごと
く、導電性エポキシ樹脂を塗布することによって導電性
材料層23を形成することもできる。この場合、エポキ
シ樹脂中の導電性粒子25が保護層に導電性を付与する
ことになる。
法も使用可能である。例えば、第9図に暗示されるごと
く、導電性エポキシ樹脂を塗布することによって導電性
材料層23を形成することもできる。この場合、エポキ
シ樹脂中の導電性粒子25が保護層に導電性を付与する
ことになる。
前述の実施例においては、アミコン(Amicon )
CT−2523およびアミコン(Amicon ) C
−150−1として知られるエポキシ樹脂が手塗りによ
って塗布され、そして熱硬化が施された。
CT−2523およびアミコン(Amicon ) C
−150−1として知られるエポキシ樹脂が手塗りによ
って塗布され、そして熱硬化が施された。
あるいはまた、第8図に暗示されるごとく、通常の亜鉛
スクープ法(即ち、金属化フィルムコンデンサの縁端処
理に使用される金属被膜技術)によって導電性材料層2
3を形成することもできる前述の実施例においては、標
準的なスクープ法を用いて厚さ15II1mの亜鉛層が
形成された。詳しく述べれば、DCl 9ボルト140
アンペアで電極間にアークが発生され、そして75pS
iの窒素ガスにより8インチのアーク・ターゲット間隔
を通して金属が投射された。第8図においては、スクー
プ法によって付着した亜鉛粒子26が保護層の導電性を
組持J−ることになる。
スクープ法(即ち、金属化フィルムコンデンサの縁端処
理に使用される金属被膜技術)によって導電性材料層2
3を形成することもできる前述の実施例においては、標
準的なスクープ法を用いて厚さ15II1mの亜鉛層が
形成された。詳しく述べれば、DCl 9ボルト140
アンペアで電極間にアークが発生され、そして75pS
iの窒素ガスにより8インチのアーク・ターゲット間隔
を通して金属が投射された。第8図においては、スクー
プ法によって付着した亜鉛粒子26が保護層の導電性を
組持J−ることになる。
本発明に基づく縁端構造は導電性材料層23を含んでい
て、それの外面がコンデンサの縁端16に対する電気的
終端面を規定している。導電性材料層23は、金属被膜
22により、外部終端面に対してほぼ垂直に樹脂中から
伸び出ている幅の狭い電極表面21と電気的かつ物理的
に結合されている。即ら、N極表面21を規定する電極
層12の脆い端部は中間の金属被WA22を介してほぼ
垂直な導電性材料層23に結合されているものであるー
。このようにして得られた結合は、物理的に強固である
と同時に電v″(完全なものである。
て、それの外面がコンデンサの縁端16に対する電気的
終端面を規定している。導電性材料層23は、金属被膜
22により、外部終端面に対してほぼ垂直に樹脂中から
伸び出ている幅の狭い電極表面21と電気的かつ物理的
に結合されている。即ら、N極表面21を規定する電極
層12の脆い端部は中間の金属被WA22を介してほぼ
垂直な導電性材料層23に結合されているものであるー
。このようにして得られた結合は、物理的に強固である
と同時に電v″(完全なものである。
第7.8および9図のいずれの場合においても、導電性
材料層23は電極層12の露出#ii部および金属被膜
22を被覆すると同時に、金属被膜22とコンデンサの
終端面との間に導電性を確保するために役立っている。
材料層23は電極層12の露出#ii部および金属被膜
22を被覆すると同時に、金属被膜22とコンデンサの
終端面との間に導電性を確保するために役立っている。
導電性材料層23の設置後、蒸着法またはスクープ法に
より終端面をスズ層30で被覆してもよいし、あるいは
適当なリード線または結線に終端面を直接に接続しても
よい。このようにすれば、全ての電極層12は最終的に
得られる縁端構造と良好な電気的接触を保つことになる
。
より終端面をスズ層30で被覆してもよいし、あるいは
適当なリード線または結線に終端面を直接に接続しても
よい。このようにすれば、全ての電極層12は最終的に
得られる縁端構造と良好な電気的接触を保つことになる
。
以上、若干の好適な実施の態様に関連して本発明を記載
したが、本発明の範囲はもっばら前記特許請求の範囲の
みによって規定されるべきであることは言うまでもない
。
したが、本発明の範囲はもっばら前記特許請求の範囲の
みによって規定されるべきであることは言うまでもない
。
第1図は本発明方法によって処理すべきコンデンサを製
造するためのコンデンサ材料シートの一部分の概略斜視
図、第2図は縁端処理に先立って第1図のシートから切
出され・た1個のコンデンサブロックの斜視図、第3.
4および5図は本発明方法の様々な工程における第2図
のコンデンサブロックの一縁端を示す部分断面図、第6
図は完成した縁端構造の概略断面図、そして第7.8お
よび9図は本発明方法において使用可能な3種の縁端処
理技術を示す略図である。 図中、10はコンデンサ材料シート、11は導電性基板
、12は電極層、13は誘電体樹脂、17はコンデンサ
ブロック、19はエポキシ樹脂被膜、21は幅の狭い電
極表面、22は金属被膜、23は導電性材料層、24は
ニッケル層、25は導電性粒子、26は亜鉛粒子、そし
て30はスズ層を表ね一す。
造するためのコンデンサ材料シートの一部分の概略斜視
図、第2図は縁端処理に先立って第1図のシートから切
出され・た1個のコンデンサブロックの斜視図、第3.
4および5図は本発明方法の様々な工程における第2図
のコンデンサブロックの一縁端を示す部分断面図、第6
図は完成した縁端構造の概略断面図、そして第7.8お
よび9図は本発明方法において使用可能な3種の縁端処
理技術を示す略図である。 図中、10はコンデンサ材料シート、11は導電性基板
、12は電極層、13は誘電体樹脂、17はコンデンサ
ブロック、19はエポキシ樹脂被膜、21は幅の狭い電
極表面、22は金属被膜、23は導電性材料層、24は
ニッケル層、25は導電性粒子、26は亜鉛粒子、そし
て30はスズ層を表ね一す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、誘電体樹脂により隔離された状態で結合されている
複数の電極層を含むモノリシックコンデンサ用の縁端処
理方法において、酸素プラズマ中でコンデンサ縁端を灰
化して前記電極層間の前記誘電体樹脂を除去すると共に
幅の狭い電極表面を露出させ、前記縁端上に金属被膜を
蒸着させて前記幅の狭い電極表面を被覆すると共にそれ
らの電極表面同士を電気的に接続し、次いで前記金属被
膜上に導電性材料層を設置する諸工程から成ることを特
徴とする方法。 2、前記電極層がアルミニウムから成りかつ前記金属被
膜がニッケルから成る特許請求の範囲第1項記載の方法
。 3、導電性材料層を設置する前記工程が、無電解めっき
用の溶解ニッケル浴中に前記縁端を浸漬することから成
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、導電性材料層を設置する前記工程が、前記縁端に導
電性エポキシ樹脂を塗布し、次いで前記エポキシ樹脂を
硬化されることから成る特許請求の範囲第1項記載の方
法。 5、導電性材料層を設置する前記工程が、スクープ法に
よって前記縁端を亜鉛で被覆することから成る特許請求
の範囲第1項記載の方法。 6、前記導電性材料層がスズ層によって被覆される特許
請求の範囲第1項記載の方法。 7、誘電体樹脂により隔離された状態で結合されている
複数の電極層を含む小形のモノリシックコンデンサにお
いて、一方の表面が露出されて電気的終端面を規定する
導電性材料層、前記樹脂中から伸び出た前記電極層によ
って形成されかつ前記終端面に対してほぼ垂直に配置さ
れた幅の狭い電極表面、および前記幅の狭い電極表面と
前記導電性材料層との間に配置されて両者を電気的かつ
物理的に結合している金属被膜から成る縁端構造物を具
備することを特徴とする小形のモノリシックコンデンサ
。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60061884A | 1984-04-16 | 1984-04-16 | |
US691025 | 1985-01-14 | ||
US06/691,025 US4613518A (en) | 1984-04-16 | 1985-01-14 | Monolithic capacitor edge termination |
US600618 | 1990-10-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6122612A true JPS6122612A (ja) | 1986-01-31 |
Family
ID=27083654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60078628A Expired - Lifetime JPS6122612A (ja) | 1984-04-16 | 1985-04-15 | モノリシツクコンデンサの縁端処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4613518A (ja) |
EP (1) | EP0158971B1 (ja) |
JP (1) | JPS6122612A (ja) |
DE (1) | DE3578258D1 (ja) |
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US4613518A (en) | 1986-09-23 |
EP0158971A2 (en) | 1985-10-23 |
EP0158971A3 (en) | 1987-03-25 |
EP0158971B1 (en) | 1990-06-13 |
DE3578258D1 (de) | 1990-07-19 |
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