JPS61208073A - ホログラム転写箔 - Google Patents

ホログラム転写箔

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JPS61208073A
JPS61208073A JP4784285A JP4784285A JPS61208073A JP S61208073 A JPS61208073 A JP S61208073A JP 4784285 A JP4784285 A JP 4784285A JP 4784285 A JP4784285 A JP 4784285A JP S61208073 A JPS61208073 A JP S61208073A
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weight
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綿引 英一
Sadaichi Nishioka
西岡 貞一
Kazuhisa Hoshino
星野 和久
Takahiro Fujio
藤生 隆弘
Toshiaki Kondo
利昭 近藤
Tsutomu Asano
浅野 勉
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Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H1/028Replicating a master hologram without interference recording by embossing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2250/00Laminate comprising a hologram layer
    • G03H2250/10Laminate comprising a hologram layer arranged to be transferred onto a carrier body

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 出版・印刷業においては、書籍・雑誌の表紙、挿し絵と
して、あるいはギフトノベルティとして。
そして有価証券・クレジットカード・IDカードの偽造
防止としてホログラムが利用されている。
また、広告・ディスプレイの分野でも虹色に光るその装
飾性、立体感による意外性からホログラムが利用されて
いる。
本発明は該ホログラムに関し、さらに詳細には表面レリ
ーフ型ホログラムをエンボス成形技術によって成形し、
被転写体にホログラムを転写することを目的としたホロ
グラム転写箔に関するものである。
〔従来の技術〕
従来ホログラムを複製・実装する方法は基板上に塗布さ
れた樹脂層に対して1表面レリーフ型ホログラムが形成
されているスタンバを用いて、エンボス成形を行い、樹
脂上に表面レリーフ型ホログラムを形成し、その表面に
アルミニウム蒸着を施し、感熱接着剤を塗布し、ホット
スタンプにより被転写体に転写するものであり、これに
ホログラム転写箔が用いられていた。この方法は光学的
方法によらず8機械的にホログラムを複製するため低ス
コトで大量生産に通しており、シール形成とは異なる転
写方式であるため、ホログラムの厚みをほとんど感じさ
せない形で実装が行なえる。
〔発明が解決しようとしている問題点〕ホログラム転写
箔では、まず第1段階でホログラムのエンボス成形が行
われ5次に第2段階でホットスタンプによる転写が行わ
れるため、エンボス成形時の基材と樹脂との密着性と、
転写を行なう際の剥離性といった一見矛盾した性能が要
求される。従来の転写箔では、エンボス成形は可能であ
るが転写性がきわめて悪いとか、転写時の剥離性は良い
がエンボス時に樹脂が基材から剥れやすいという問題が
あった。また、エンボス成形、転写とも一応行える転写
箔の中にも樹脂の樹脂の耐熱温度を上げたため。
ホログラムの成形性が悪く、再生像が暗くなってしまう
ものもある。ホットスタンプを行なうため、基材の厚み
に制限があり、20〜50μm程度の薄い基材を使用せ
ざるをえず、エンボス成形時にプレスムラが生じやすく
、外観上の品質が低下するという問題がある。
また1反射型ホログラムとして使用するために行なうア
ルミニウム蒸着によって樹脂が白化してしまったり、ア
ルミニウムと樹脂との密着力が弱いなどの問題もあった
。また、ホットスタンプのための感熱接着剤により樹脂
がダメージを受けてしまうという問題もあった。
さらに、ホットスタンプの際の熱で樹脂が変質してしま
う問題、転写の際にフクレが生じたり、パリが多いなど
の問題があった。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は以上の事情に鑑み1種々検討の結果得られたも
のである。
すなわち1本発明は基材フィルムの片面に設けた樹脂層
表面に1表面レリーフ型ホログラムスタンパにて、加熱
、加圧によりホログラムを形成した後。
蒸着による金属反射層および感熱接着剤層を順次重ねて
なる転写箔において、当該樹脂構成が、基材フィルム側
から剥離ニス層、ホログラム形成樹脂層の2層構成から
なり、かつホログラム形成樹脂層として酸価を有するア
クリル樹脂を用いることにより。
エンボス時の成形性および転写性に優れたホログラム用
転写箔が得られることを見出した。
以下1本発明を図面を用いて詳細に説明する。
第1図から第3図は本発明に述べるホログラム転写箔が
表面レリーフ型スタンバにてエンボスされる時の状態を
わかりやすく図示したものである。すなわち第1図にお
いて(1)は基材フィルムを示し。
(2)は剥離ニス層、 (3)はホログラム形成樹脂層
を示し、 (1)〜(3)が本発明のホログラム転写箔
の基礎部分の構成である。(4)は表面レリーフ型ホロ
グラムスタンパを示し、プレス上部定盤(5)に固定さ
れる。プレス上部定盤にはエンボス成形に必要な加熱冷
却機構が内蔵されている。(6)はプレス下部定盤を示
し、プレス定ffi (5) 、  (6)により一定
時間、加熱、加圧され、その後、加圧状態のまま冷却さ
れ、ホログラムスタンパのレリーフ模様がホログラム形
成層にエンボスされる。第2図はこのようにしてエンボ
スされた後のホログラム転写箔の基礎部分を示したもの
で、 (7)はホログラム形成樹脂層(3)にホログラ
ムのレリーフ模様がエンボスされた後の状態を示す。さ
らに、第3図は本発明のホログラム転写箔の全体像を示
す概念断面図で、 (8)は樹脂層(7)上に施された
蒸着金属反射層を示し、 (9)は蒸着金属反射層(8
)の上に設けられた感熱接着剤層を示す。
本発明に述べる基材フィルム(1)としては、耐熱性を
有したポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム
、ポリカーボネートフィルム、セロファンなどの使用が
可能で、厚み10〜50μm程度のものが好ましく、な
かでもポリエステルフィルムは耐熱性、物理的強度、平
滑性、フィッシュアイが少ないなどの点で最も良好な結
果が得られる。 4本発明に述べる剥離ニス層(2)は
ホログラム形成樹脂層がより効果的に被転写体に転移す
るために設けられたもので、生産の効率をアップするた
めに不可欠なものであり、熱可塑性アクリル樹脂、塩化
ゴム系樹脂および該樹脂と併用し得る樹脂としてニトロ
セルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテー
トブチレート、ポリスチレン、塩化ビニル。
塩酢ビ系樹脂などが使用できる。さらにはメラミン樹脂
、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、アクリル樹
脂などの熱硬化型樹脂の単独または混合系での使用も可
能であり、シリコーン樹脂、パラフィンワックス、反応
型フッ素樹脂などの使用も可能である。
本発明に述べるホログラム形成樹脂層(3)に適する樹
脂としては、酸価を有するアクリル樹脂を使用すること
によりきわめて良い結果が得られる。すなわち酸価を有
するアクリル樹脂はホログラムのエンボス成形性が良好
で、ブレスむらが生じ難り、明るい再生像が得られ、そ
のエンボス成形時の基材への密着性が良好で、さらに金
属反射層との接着性も良好で、かつ被転写体に転写する
際の剥離性がきわめて良い。本発明者らは、各種のアク
リル樹脂に・ついて鋭意検討の結果、ホログラム形成樹
脂層の良否を決定する因子が、酸価を有するアクリル樹
脂であることに加え、そのガラス転移点(T、G、)お
よび分子量にあることをつきとめた。
すなわち1本発明に述べるホログラム形成樹脂層として
、耐溶剤性、耐熱性、加工適性、金属反射層との接着性
などの諸物性から、酸価を有するアクリル樹脂が適当で
あるが、なかでもガラス転移点が90〜105℃の範囲
でかつ分子量が10万〜50万の範囲にあり、かつ30
〜80の酸価を有するアクリル樹脂が、塗工通性も良好
で、前記ホログラム転写箔に要求されるエンボス成形性
、基材フィルムとの剥離性がきわめて良好な転写箔を得
ることができることが判明した。
また、塗工通性の向上、転写性の調整剤として。
ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースア
セテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネ
ート、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロ
ース系樹脂を酸価を有するアクリル樹脂に対し、最大で
30重量%併用添加することにより、さらに良結果が得
られる。
このようなホログラム形成樹脂層を塗工する方法として
、塗料化した樹脂をロールコート、ブレードコートなど
の方法により塗布、乾燥させて0.5〜5μmの膜厚の
樹脂層を形成させればよい。
こうして得られたホログラム形成樹脂層は、剥離ニス層
が塗工された基材フィルムと適度に接着し。
エンボス成形時の加熱、加圧により優れた成形性を示し
、しかも表面にニッケル、金、クロム等のメッキを施し
たスタンバへ接着せず、かつ酸価を有するアクリル樹脂
の最大の特長は、酸価を有しないアクリル樹脂に比べ、
金属反射層と良好な接着性を示し。
しかも皮膜の切れが良好である。
さらにホットスタンプ時の金属反射層の剥離不良や転写
ムラ、パリ、フクレの発生などのない確実な転写が可能
となり、アクリル樹脂の優れた耐熱性により、蒸着工程
やホットスタンプ時の熱によって発生する収縮によるひ
び割れ、白化、ホログラムの破壊など、外観上の品質低
下を防ぐことができる。
エンボス成形は、プレス機(上部定盤(5)および下部
定盤(6))にて、ホログラム成形樹脂層(3)とレリ
ーフ型ホログラムスタンパ(4)とを重ね合わせ、90
〜150℃の条件にて加熱、加圧した後、冷却を行なう
ことにより樹脂層(3)の表面にホログラムが形成され
る。
本発明に述べる金属反射層(8)すなわち金属蒸着層は
1表面の反射率が高い金属が好ましく、具体的にはアル
ミニウム、金、銀、銅等およびこれらの金属を含む合金
を使用することができ2通常よく知られている真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法などの
方法によって設けることができる。厚みとしては100
〜10000人の範囲が適当である。
本発明に述べる感熱接着剤層(9)はポリエステル樹脂
、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル
共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂等の熱
可塑性樹脂が使用でき、金属反射層および被転写物の材
質との接着性を考慮し任意の樹脂が選定され、適当な溶
剤にてフェス化したものを、グラビアコート法、ロール
コート法、ブレードコート法など公知の手法にて塗布形
成させるものであり、膜厚は1〜20μmが好ましい。
”第4図はこうして得られたホログラム転写箔を。
紙、塩ビシート、ポリエステルシートなど任意の被転写
体(10)に転写する時の状態をわかりやすく図示した
ものである。
すなわち被転写体(10)に感熱接着剤層(9)塗工面
を合わせ、基材フィルム(1)側から、加熱。
加圧(ホットスタンピング)をし、感熱接着剤層(9)
を被転写体(10)に接着させた後、基材フィルム(1
)を剥離させて転写が完了する。ここで基材フィルム(
1)を剥離させる場合に、剥離ニス層(2)に使用され
る樹脂の種類により次の2つのケースが考えられる。す
なわち第4図(イ)に示すように剥離時に剥離ニス層が
基材フィルム側に接着したまま剥離するものと、第4図
(ロ)に示すように剥離時に剥離ニス層(2)がホログ
ラム、形成樹脂Jii (3)側に接着剤したまま剥離
する場合が考えられる。具体的には剥離ニス層に用いる
樹脂として。
熱可塑性アクリル樹脂や塩化ゴム系など、ポリエステル
フィルムなどの基材フィルムに接着性の良い樹脂を用い
た場合、第4図(イ)に示す前者の剥離状態を示し、熱
硬化型のメラミン樹脂、アルキド樹脂。
エポキシ樹脂、尿素樹脂などの単独または混合系にて使
用した場合や、シリコーン樹脂、パラフィンワックス類
2反応型フッ素樹脂などを用いた場合には。
ポリエステルフィルムなどの基材フィルムへのff1f
力が小さく、剥離時に容易に基材フィルムから剥れ。
第4図(ロ)に示す後者の剥離状態を示す。
いずれの場合においても、前述のように剥離ニス層は、
ホログラム形成樹脂層がより効果的に被転写体に転移す
るために設けられるもので、その塗布量は微量でよく、
特に第4図(ロ)に示すように剥離ニス層がホログラム
形成樹脂層に残るような構成の場合、ホログラムに悪影
響を及ぼす程多量であることは好ましくない。
以上のように9本発明に述べるホログラム転写箔を用い
ることで、これまでのホログラム転写箔のかかえていた
種々の問題点を解決することができた。
〔実 施 例〕
以下1本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明する。
実施例1 厚み25μmのポリエステルフィルム面に下記組に下記
組成(b)のワニスにて約1μm6樹脂層を設け、プレ
ス機にて樹脂層とスタンパのレリーフホログラム形成面
を重ね合わせ、90〜160℃の加熱、加圧を行い樹脂
表面へレリーフホログラムを形成させた。
次に該樹脂層面に約500人の厚みにアルミ蒸着ム転写
箔を得た。
(a)ワニス 熱可塑性アクリル樹脂(酸価なし、T、G100℃。
分子1!300X10)          9重量%
セルロースアセテートブチレート(ブチリル基37%、
T、0130℃)          1重量%トルエ
ン              35重量%メチルエチ
ルケトン         35重量%酢酸イソブチル
           20重量%(b)ワニス 酸価を有するアクリル樹脂(酸価50゜T、G100℃
2分子量300X10)  8重量%ニトロセルロース
樹脂(窒素含有量12%。
平均重合度55.粘度A秒※)     2重量%トル
エン              35重量%メチルエ
チルケトン         35ii量%酢酸イソブ
チル           20重量%(c)ワニス 塩酢ビ樹脂(塩化ビニル/酢酸ビニル−86/14゜平
均重合度600〜700)       15重量%ア
クリル樹脂(T、G80℃1分子量150X10”) 
                 10重量%メチル
エチルケトン         38重量%トルエン 
             37重量%(※JISK6
703に準する樹脂粘度測定法による)次に得られた転
写箔を157g/rrrのアート紙に120℃、0.5
秒の条件にてホットスタンプし、レリーフホログラムを
転写したところ、白化、ひび割れ、ふくれなどの不良の
ないホログラムを忠実に再現した転写物が得られた。
また、ホログラム成形樹脂層へのエンボス加工において
は、スタンパへの接着トラブルもなく、加工性に優れた
ものであった。
実施例2 厚み25μmのポリエステルフィルム面に下記組に下記
(cl)に示すガラス転移点(T、 G) 、分子の樹
脂層を設けた後プレス機にて樹脂層とスタンパ−のレリ
ーフホログラム形成面を重ね合わせ、エンボス加工を1
30℃、40kg/CIAの加熱、加圧条件にて行ない
樹脂表面にホログラムを形成させた。次に実施例1と同
様、該樹脂層面に約500人の厚み着剤層を形成させ各
種のホログラム転写箔を得た。
次にこうして得られた転写箔を157g/rrfのアー
ト紙に120℃、0.5秒の条件にてホットスタンプす
ることにより、転写適性の比較を行った。その結果、結
果欄に示すごとく、酸価を有しない、またはガラス転移
点が90〜105℃の範囲外である。
または分子量が10〜50万の範囲外にあるアクリル樹
脂を用いた場合、いずれもエンボス適性、転写性1画像
再現性などの点で不満足な結果を得た。
(d)ワニス(剥離ワニス) アデカブレンCR−2030重量% (旭電化社製塩化ゴム系樹脂) MEK/)ルエン          70重量%(6
)ワニス■〜■(ホログラム形成樹脂N)アクリル樹脂
※※           8重量%ニトロセルロース
樹脂(窒素含有量12%、平均重合度45.粘度A秒)
        2重量%メチルエチルケトン    
     35重量%酢酸イソブチル        
   20重量%トルエン             
 35重量%※※アクリル樹脂の酸価、ガラス転移点(
T、G)(f)ワニス(感熱接着剤層) 塩酢ビ樹脂(塩化ビニル/酢酸ビニル=86/14゜平
均重合度600〜700)      15重量%アク
リル樹脂(T、G80℃1分子量150X103)  
               10重量%MEK  
              38重量%トルエン  
            37重量%結果欄 実施例3 厚み25μmのPTセロファン面に下記組成(g)60
℃、72時間の養生を行なった後、プレス機にて樹脂層
とスタンパのレリーフホログラム形成面を重ね合わせ、
エンボス加工を130℃、  40kg/crAの加熱
、加圧条件にておこない樹脂表面へホログラムを形成さ
せた。
次に該樹脂層面に約500人の厚みにアルミ蒸着を施し
、さらに下記組成(i)のワニスをロールコータ−にて
塗布し、約3μm弘感熱接着剤層を形成させホログラム
転写箔を得た。
(g)ワニス エポトートYD−01125重量% (東部化成社製エポキシ樹脂) n−ブタノール           25重量%キシ
レン              25重量%Vers
amidl 15           25重量%(
第一ゼネラル社製ポリアミド樹脂) (h)ワニス アクリルポリオール樹脂(T、 G 75 ”C,酸(
ii50゜分子量300X10)          
25重量%ニトロセルロース樹脂(窒素含有量12%、
平1句重合度45.粘度A秒)          5
重量%キシレンジイソシアネー)        5m
!t%トルエン              25重量
%酢酸イソブチル           20重量%M
EK                20重量%(※
JISK6703に準する樹脂粘度演1定法Gこよる) (i)ワニス 塩酢ビ4111 (i化?”ニル/酢酸ビニル=86/
14゜平均重合度600〜700)       15
重量%アクリル樹脂(’r、a8o℃2分子量150X
10)10重量% MEK                38重量%ト
ルエン              37重量%次に得
られた転写箔を120℃、0.5秒の条(牢番こてホ・
ノドスタンプすることにより700μm厚の塩ビシート
にレリーフホログラムを転写したところ。
白化、ひび割れ、ふくれなどの不良のな(、′Iホロク
゛ラムを忠実に再現した転写物が得られた。
また、ホログラム成形樹脂層へのエンボス加工において
は、スタンバへの接着トラフ゛ルもなく、加工性に優れ
たものであった。
〔発明の効果〕 本発明によるホログラム用転写箔しよ、争[離層を設け
、かつホログラム形成層である樹月旨層(3)として酸
価を有するアクリル樹脂、またしよセルロース系樹脂を
混合した樹脂を用し)たことにより2表面しIJ−フホ
ログラムを転写箔としてエンボス成形方式で歩留りよく
生産できるようになり、成形1生の向上により明るい再
生像が得られ、金属蒸着特噌生、ホットスタンプによる
転写性などの向上刃(実現した。
このことから1本発明はホログラム形成層の品質向上、
加工性の向上、経済性の向上に効果力(あるものであり
、書籍・雑誌の表紙、挿絵、ギフト、ノベルティ、パッ
ケージ、カードなどへのホログラム形成層の使用が容易
となり、偽造防止など本発明しま産業上有効なものであ
るといえる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示したもので、第1〜3図はホ
ログラム転写箔が表面しIJ−〕型スタンノ々番こてエ
ンボスされる伏態を示す断面で表わしたiQ明図であり
、第4図は剥離ニス層による剥離4欠態を示す断面で表
わした説明図である。 (1,)基材フィルム。 (2)剥離ニス層。 (3)ホログラム形成樹脂層。 (4)表面レリーフ型ホログラムスタンノ寸。 (5)プレス機上部定盤。 (6)プレス機下部定盤。 (7)ホログラムエンボス後の樹脂層(3)(8)金属
反射層。 (9)感熱接着剤層。 (10)被転写体。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基材フィルムの片面に設けた樹脂層表面に、表面レ
    リーフ型ホログラムスタンパにて、加熱、加圧によりホ
    ログラムを形成し、蒸着による金属反射層および感熱接
    着剤層を順次重ねてなる転写箔において、該樹脂層構成
    が基材フィルム側から剥離ニス層、ホログラム形成樹脂
    層の2層構成からなり、かつホログラム形成樹脂層が酸
    価を有するアクリル樹脂であることを特徴とするホログ
    ラム転写箔。 2、酸価を有するアクリル樹脂のガラス転移点(T、G
    )が90〜105℃の範囲で、かつ分子量が10万〜5
    0万の範囲であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のホログラム転写箔。 3、ホログラム形成樹脂層として、酸価を有するアクリ
    ル樹脂に対して、最大で30%重量部のセルロース系樹
    脂を併用することを特徴とする特許請求の範囲第1項お
    よび第2項記載のホログラム転写箔。 4、剥離ニス層に用いる樹脂が、熱可塑性アクリル樹脂
    または塩化ゴム樹脂のいずれか1種またはこれらの混合
    物であることを特徴とする特許請求の範囲、第1項、第
    2項および第3項記載のホログラム転写箔。 5、剥離ニス層に用いる樹脂が、熱硬化型樹脂であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項および第
    3項記載のホログラム転写箔。 6、基材フィルムがポリエステルフィルムであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第
    4項および第5項記載のホログラム転写箔。
JP4784285A 1985-03-11 1985-03-11 ホログラム転写箔 Granted JPS61208073A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6396689A (ja) * 1986-10-13 1988-04-27 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔の製造方法
JPS63106779A (ja) * 1986-10-24 1988-05-11 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔の製造方法
US20110159409A1 (en) * 2009-12-30 2011-06-30 Sipix Chemical Inc. Decorated device and method of fabricating the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55121092A (en) * 1979-03-13 1980-09-17 Toyo Metaraijingu Kk Transcription sheet having pattern
JPS5988780A (ja) * 1982-11-08 1984-05-22 アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− 光回折記録体及び光回折パタ−ンを作る方法
JPS59178661U (ja) * 1983-05-13 1984-11-29 大日本印刷株式会社 ホログラム製品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55121092A (en) * 1979-03-13 1980-09-17 Toyo Metaraijingu Kk Transcription sheet having pattern
JPS5988780A (ja) * 1982-11-08 1984-05-22 アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− 光回折記録体及び光回折パタ−ンを作る方法
JPS59178661U (ja) * 1983-05-13 1984-11-29 大日本印刷株式会社 ホログラム製品

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6396689A (ja) * 1986-10-13 1988-04-27 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔の製造方法
JPS63106779A (ja) * 1986-10-24 1988-05-11 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔の製造方法
US20110159409A1 (en) * 2009-12-30 2011-06-30 Sipix Chemical Inc. Decorated device and method of fabricating the same

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