JPS61196551A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPS61196551A JPS61196551A JP3720285A JP3720285A JPS61196551A JP S61196551 A JPS61196551 A JP S61196551A JP 3720285 A JP3720285 A JP 3720285A JP 3720285 A JP3720285 A JP 3720285A JP S61196551 A JPS61196551 A JP S61196551A
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- JP
- Japan
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- channel
- circuit
- mos transistors
- output
- lsi
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
- H01L27/118—Masterslice integrated circuits
- H01L27/11803—Masterslice integrated circuits using field effect technology
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路に関するものであシ、具体的
には、高速ディジタル信号のスイッチングを行うディジ
タル空間スイッチLSI等において、伝送特性を向上さ
せるためのトリミング回路に関するものである。
には、高速ディジタル信号のスイッチングを行うディジ
タル空間スイッチLSI等において、伝送特性を向上さ
せるためのトリミング回路に関するものである。
′高速信号を伝達する場合、波形の再現性が重要視され
る。例えば高速ディジタル信号のスイッチングを行う空
間スイッチLSIではクロックで同期をとる方式を用い
ていないので、通話路内をパルスが伝搬していくとき、
パルス幅変動を抑えることが重要となる。
る。例えば高速ディジタル信号のスイッチングを行う空
間スイッチLSIではクロックで同期をとる方式を用い
ていないので、通話路内をパルスが伝搬していくとき、
パルス幅変動を抑えることが重要となる。
第2図(G)、(6)に空間スイッチLSIの構成方式
を示す。ら)はスイッチマトリクス方式で、スイッチ素
子をマトリクス状に配置している。(b)はセレクタ方
式で、m本の入線のうちから1本を選択するセレクタ(
1/4セレクタと呼ぶこととする)をm個配置して、(
ロ))と同じ機能を実現している。第2図において、1
0〜lm−1は入線、θ。〜θト1は出線。
を示す。ら)はスイッチマトリクス方式で、スイッチ素
子をマトリクス状に配置している。(b)はセレクタ方
式で、m本の入線のうちから1本を選択するセレクタ(
1/4セレクタと呼ぶこととする)をm個配置して、(
ロ))と同じ機能を実現している。第2図において、1
0〜lm−1は入線、θ。〜θト1は出線。
Stjはスイッチ要素、 SE0〜SEシ1は1/l
nセレクタを示す。m本の入線の1本のディジタル信号
は、n本の出線の1本あるいは複数本(最大3本)上に
出力される。第2図において、ディジタル信号が伝搬し
ていく通話路は組合せ回路のみで形成され、模式的には
第3図で示されるように多段インバークで表すことがで
きる。第3図は1つの通話路がLSI中で形成された場
合を示しており、riは入線、θ・は出線、B0〜Ek
はインバータであジLSI中の入出力回路、スイッチ回
路を模式的に示している。インバータの段数(&+1)
は偶数、奇数をとシ得るが、議論を簡単化するため偶数
を仮定する。このとき、入力と出力の波形の再現性が重
要であシ、パルス幅変動を抑える必要がある。第4図に
パルス幅変動の説明図を示す。パルス幅変動はl T*
−7’l Iで表され、この値を0とするためには1
=1 とする必要がある。ここでtpdrは立
pdr pdf 上シ伝搬遅延時間= tPtfは立下シ伝搬遅延時間
である。’pdr ” ’pifとするために、第3図
の通話路について、詳細な回路シミュレーションを実行
し、インバータ列の各段ごとに’pcLrとtPLfを
チェックし、MOSトランジスタの最適な回路定数を決
定していく設計がなされる。以上のように注意深く設計
していったとしても、回路シミュレーションは100
% LSIの動作をシミュレートできず、プロセス上の
変動は必ず出て来るものである。従って、回路シミュレ
ーションのみでtpdr ” ’pdfの条件を満足さ
せるには極めて不充分であった。
nセレクタを示す。m本の入線の1本のディジタル信号
は、n本の出線の1本あるいは複数本(最大3本)上に
出力される。第2図において、ディジタル信号が伝搬し
ていく通話路は組合せ回路のみで形成され、模式的には
第3図で示されるように多段インバークで表すことがで
きる。第3図は1つの通話路がLSI中で形成された場
合を示しており、riは入線、θ・は出線、B0〜Ek
はインバータであジLSI中の入出力回路、スイッチ回
路を模式的に示している。インバータの段数(&+1)
は偶数、奇数をとシ得るが、議論を簡単化するため偶数
を仮定する。このとき、入力と出力の波形の再現性が重
要であシ、パルス幅変動を抑える必要がある。第4図に
パルス幅変動の説明図を示す。パルス幅変動はl T*
−7’l Iで表され、この値を0とするためには1
=1 とする必要がある。ここでtpdrは立
pdr pdf 上シ伝搬遅延時間= tPtfは立下シ伝搬遅延時間
である。’pdr ” ’pifとするために、第3図
の通話路について、詳細な回路シミュレーションを実行
し、インバータ列の各段ごとに’pcLrとtPLfを
チェックし、MOSトランジスタの最適な回路定数を決
定していく設計がなされる。以上のように注意深く設計
していったとしても、回路シミュレーションは100
% LSIの動作をシミュレートできず、プロセス上の
変動は必ず出て来るものである。従って、回路シミュレ
ーションのみでtpdr ” ’pdfの条件を満足さ
せるには極めて不充分であった。
本発明はこれらの欠点を解決するものであり、本発明は
、通話路をLSIにて構成し、入出力特性を測定して特
性を改善するためトリミングできる配線接続回路を挿入
することを目的とする。以下図面について詳細に説明す
る。
、通話路をLSIにて構成し、入出力特性を測定して特
性を改善するためトリミングできる配線接続回路を挿入
することを目的とする。以下図面について詳細に説明す
る。
第1図は本発明の実施例であって、INは入力端子、
OUTは出力端子、r、、r、は負荷MOSトランジ
スタ、W、、W、は駆動MOSトランジスタ、A1〜A
4は最上層配線を示す。ここで、A1−A4はトリミン
グの対象となっておシ、レーザリペア装置等を用いて、
LSIの入出力波形を測定した後切断出来る構造となっ
ている。第1図社)の回路を第3図の通話路に挿入する
。その場合、通話路内のインバータを第1図れ)でその
tま置換できる場合は第5図(−の形となシ、新たに挿
入する場合は出力の位相を合わせるためインバータをも
う1段追加した第5図(b)の形をとる。第5図b)、
(6)においてち・が第1図(α)の回路を示し、第5
図の)においてB&+1が新規追加のインバータである
。LSI設計時に第5図(ロ))〔6)の状態で回路シ
ミュレーションを実施し、シミュレーション上では’p
dr =tpdf となるように各MOSトランジスタ
の定数の最適化を図る。第1図(α)のA1−A4の切
断方法によって合計6種類の回路定数の異なるインバー
タが実現できるが、そのうちの3種類を第1図(b)、
(c)、(Φに示す。
OUTは出力端子、r、、r、は負荷MOSトランジ
スタ、W、、W、は駆動MOSトランジスタ、A1〜A
4は最上層配線を示す。ここで、A1−A4はトリミン
グの対象となっておシ、レーザリペア装置等を用いて、
LSIの入出力波形を測定した後切断出来る構造となっ
ている。第1図社)の回路を第3図の通話路に挿入する
。その場合、通話路内のインバータを第1図れ)でその
tま置換できる場合は第5図(−の形となシ、新たに挿
入する場合は出力の位相を合わせるためインバータをも
う1段追加した第5図(b)の形をとる。第5図b)、
(6)においてち・が第1図(α)の回路を示し、第5
図の)においてB&+1が新規追加のインバータである
。LSI設計時に第5図(ロ))〔6)の状態で回路シ
ミュレーションを実施し、シミュレーション上では’p
dr =tpdf となるように各MOSトランジスタ
の定数の最適化を図る。第1図(α)のA1−A4の切
断方法によって合計6種類の回路定数の異なるインバー
タが実現できるが、そのうちの3種類を第1図(b)、
(c)、(Φに示す。
6種類のインバータについて、設計時に回路シミュレー
ションを前もって実施しておき、出力波形の’pdr
、’pifの変化の方向とそのずれの値を見積った設計
データを準備する。LSI製造後、出力波形の’pdr
、tpdfを試験した後、パルス幅変動の大きいLS
Iに対し、設計データと実測データとから、第1図□□
□)のインバータに?いて、切断箇所を定めトリミング
を実施する。
ションを前もって実施しておき、出力波形の’pdr
、’pifの変化の方向とそのずれの値を見積った設計
データを準備する。LSI製造後、出力波形の’pdr
、tpdfを試験した後、パルス幅変動の大きいLS
Iに対し、設計データと実測データとから、第1図□□
□)のインバータに?いて、切断箇所を定めトリミング
を実施する。
前述した如く、第5図(a) (6)において、ちを第
1図(ロ))の回路又はA1−A4を適当に切断した同
図(6) Cd(−の如くすれば、第5図(ロ)(b)
の多段インバータ回路は論理的に成立し、しかもトリミ
ングによシ回路定数、立上シ時間、立下シ時間を微妙に
変化し得るので伝送特性を向上させることができる。こ
のように、トリミングを実施するととでLSIの波形伝
送特性を大幅に向上させることが期待できる。
1図(ロ))の回路又はA1−A4を適当に切断した同
図(6) Cd(−の如くすれば、第5図(ロ)(b)
の多段インバータ回路は論理的に成立し、しかもトリミ
ングによシ回路定数、立上シ時間、立下シ時間を微妙に
変化し得るので伝送特性を向上させることができる。こ
のように、トリミングを実施するととでLSIの波形伝
送特性を大幅に向上させることが期待できる。
以上、本発明の実施例としてMOS トランジスタを2
個並列に接続したインバータを用いて作用の説明をして
きたが、さらに多数のMOS トランジスタを並列に接
続したインバータでも同様の効果を発揮できる。
個並列に接続したインバータを用いて作用の説明をして
きたが、さらに多数のMOS トランジスタを並列に接
続したインバータでも同様の効果を発揮できる。
また、切断箇所はMOS トランジスタ等から光分離し
て配置することで、LSI内部への悪影響を防止できる
のでレーザリペア装置等を用いてA1を切断することは
何ら問題ない。
て配置することで、LSI内部への悪影響を防止できる
のでレーザリペア装置等を用いてA1を切断することは
何ら問題ない。
本発明のトリミング回路をLSI中に導入することで、
極めて伝送特性の良好なLSIを実現するととができる
。例えば空間スイッチLSIに本発明を適用し、大規模
な交換機を構成する場合、空間スイッチLSIを波形再
成装置なしで多段構成とすることで規模を拡張できるた
め、小形で経済的な交換機の実現に多大な貢献をするこ
とが期待される。
極めて伝送特性の良好なLSIを実現するととができる
。例えば空間スイッチLSIに本発明を適用し、大規模
な交換機を構成する場合、空間スイッチLSIを波形再
成装置なしで多段構成とすることで規模を拡張できるた
め、小形で経済的な交換機の実現に多大な貢献をするこ
とが期待される。
第1図−) (b) (c)(社)は、本発明の実施例
回路を示す。 第2図(α)(b)は空間スイッチの構成法を示し、同
図(α)はスイッチマトリクス方式、ノ)はセレクタ方
式を示し、 第3図は空間スイッチLSIの1つの通話路の模式図、 第4図はパルス幅変動の説明図を示す。 第5図(c) (6)は空間スイッチLSIに本発明を
導入した例を示す。 図において、 I0〜Iシト・・入線 θ。〜θn−1・・・出線 Sij ・・・スイッチ要素 5Eo−5En−1・・・1//MnセレクタE6−
B &+1・・・インバータ IN・・・入力端子 OUT ・・・出力端子 Wl、^ ・・・負荷MOSトランジスタF、 、 F
、 ・・・駆動MOSトランジスタ11〜A4・・・
最上層配線
回路を示す。 第2図(α)(b)は空間スイッチの構成法を示し、同
図(α)はスイッチマトリクス方式、ノ)はセレクタ方
式を示し、 第3図は空間スイッチLSIの1つの通話路の模式図、 第4図はパルス幅変動の説明図を示す。 第5図(c) (6)は空間スイッチLSIに本発明を
導入した例を示す。 図において、 I0〜Iシト・・入線 θ。〜θn−1・・・出線 Sij ・・・スイッチ要素 5Eo−5En−1・・・1//MnセレクタE6−
B &+1・・・インバータ IN・・・入力端子 OUT ・・・出力端子 Wl、^ ・・・負荷MOSトランジスタF、 、 F
、 ・・・駆動MOSトランジスタ11〜A4・・・
最上層配線
Claims (1)
- 複数の負荷MOSトランジスタと、複数の駆動MOS
トランジスタとから1つの並列インバータを構成し、上
記並列インバータの出力と上記並列インバータを構成す
る任意のMOSトランジスタとの配線接続を、集積回路
製作後に切断して伝送特性をトリミングできる構成とし
たことを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3720285A JPS61196551A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3720285A JPS61196551A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61196551A true JPS61196551A (ja) | 1986-08-30 |
Family
ID=12490995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3720285A Pending JPS61196551A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61196551A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5547773A (en) * | 1991-07-23 | 1996-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetooptic recording medium |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS594150A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-10 | Fujitsu Ltd | 論理集積回路の特性変化方法 |
-
1985
- 1985-02-26 JP JP3720285A patent/JPS61196551A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS594150A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-10 | Fujitsu Ltd | 論理集積回路の特性変化方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5547773A (en) * | 1991-07-23 | 1996-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetooptic recording medium |
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