JPS61195993A - アモルフアス合金のメツキ方法 - Google Patents

アモルフアス合金のメツキ方法

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JPS61195993A
JPS61195993A JP3663985A JP3663985A JPS61195993A JP S61195993 A JPS61195993 A JP S61195993A JP 3663985 A JP3663985 A JP 3663985A JP 3663985 A JP3663985 A JP 3663985A JP S61195993 A JPS61195993 A JP S61195993A
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JP
Japan
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plating
alloy
amorphous alloy
amorphous
plated
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JP3663985A
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Masami Kobayashi
正巳 小林
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 アモルファス合金は優れた磁性材料であるがガラスに似
た結晶構造であるため、メッキを施すことが困難であシ
、従って半田付は性が無い。
このため、この合金の応用範囲は限定されており、現在
、トランスなどのコアー材に利用されているにすぎない
また、アモルファス合金は磁気特性を高め、かつ、安定
させるために焼鈍を行う必要があるが、焼鈍を行うと、
この合金の表面は、無酸化の雰囲気で行っても強固な不
動態化皮膜を形成し、半田付けもスポット溶接も不可能
な表面状態となる。
すなわち、アモルファス合金は、素材においても半田付
けができないが、この合金を焼鈍すると更にメッキも半
田付けも不可能な表面状態の合金となる。
しかし、アモルファス合金をコアー以外の電子材料とし
て利用する場合、焼鈍後接続するためのリード線の半田
付けや組合せ部品等の半田による結合が必要となる。
また、この合金は厚い板材を作ることができず、通常2
5μm位が厚さの限界だが、この薄板では利用範囲が限
定されるので、これを重ね合せて任意の厚みにすると、
アモルファス合金の利用範囲が拡大できるので、この目
的のためにも焼鈍後の半田性を必要とし、これを解決せ
ぬ限シアモルファス合金の利用は限定された狭い範囲に
止まり、需要の拡大は望めない。
本発明者は、アモルファス合金を最高450℃、3時間
で焼鈍後、この合金表面に半田付けが可能なメッキを施
せば、電気工業の部品材料としての利用範囲が急速に拡
がるものであるとの知見に基づき本発明を成功させた。
先ず、アモルファス合金素材にメッキができない理由は
、その表面に不動態化皮膜があり、この皮膜は除去して
も急速に再形成する性質がある。次にSi、 B、 C
,などの半金属に合金組成が存在するため、電導性が極
めて悪く、電解メッキ作業時のアモルファス合金への給
電が難しい0 本発明の目的は、高温、長時間の焼鈍後、半田付けがで
きることであるが、この目的を達成するためには、アモ
ルファス合金に、密着性に優れた金属メッキを施し、こ
のメッキを施したアモルファス合金は焼鈍作業後もメッ
キ金属表面は変化せず、また、高温のためフクレや剥離
を起こさぬ金属メッキであシ、一般の方法による半田作
業で半田付けができることを条件とする0 本発明者は、前記設定条件に基づき、アモルファス合金
の耐熱メッキ方法を研究し、試行錯誤の結果、500℃
で3時間焼鈍した後も容易に半田付けのできる電解メッ
キプロセスを実験的に発見した。
この電解メッキプロセスは、アモルファス合金素材を特
殊な方法により表面処理を行い、先ず、金。パラジウム
、パラジウム・ニッケル合金またはロジウムの極薄下地
メッキを行う。この下地メッキの厚さは0601μm〜
1μmの範囲で効果を発揮するが、経済的には0.02
μm〜0.1μmが好ましい。この上に銀を1μm〜1
0μmメッキし二層メッキとするが、銀メッキの厚さは
経済的に2μm〜5μmが好ましい。
このようにして得られたメッキしたアモルファス合金は
無酸化の雰囲気または大気中での高温焼鈍後も、メッキ
表面は変化せず容易に半田付けが可能であシ、錫9:鉛
1の溶融半田中に浸漬しても100%の濡れ性を示し、
市販の糸半田での半田付けも優れた半田性を示した。
以下実施例によシ説明する。
実施例1 厚さ25μm N幅20目、長さ500mのFe44.
5To、 Ni 44.2To、 Mo7.9チ、B3
.6チの組成のアモルファス合金フープ材を次の工程゛
を経て金の極薄メッキの上に銀メッキを行った。
■トリクレン脱脂工程 通常の方法により脱脂を行った。
■アルカリ脱脂工程 通常の方法により脱脂を行った。
■化学研摩工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸(55
チ溶液)20容量チ、硫酸(85チ溶液)10容量チ、
クエン酸(粉末)10重量%、酢酸(90チ溶液)1容
量チ及び硝酸(68tIb溶液)5容量チよシなる混酸
に、。
ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステルなどの非イオンまたはアミ
ノ酸類の両性界面活性剤0.2重量%及びN−アルキル
・トリメチレン・ジアミン0.1重量%を加えた浴中を
通過させ、該アモルファス合金フープ材表面の酸化物及
び不純物を除去した。
■電解活性化工程 燐酸(85チ溶液)10容量チ、硫酸 (85%溶液)10重量%、クエン酸(粉末)5重量%
、酢酸(90チ溶液)1重tqIbに、上記と同様の非
イオンまたは両性界面活性剤0.2重量%及び腐蝕抑制
剤0.1重量%を加えた浴を60℃に加温し、アモルフ
ァス合金フープ材K(−)電流を、チタン白金メツキ板
に(+)電流を通じ4ボルトにセットして浴中を通過さ
せてアモルファス合金フープ材の表面の活性化を行った
■金メッキ工程 クエン酸120g/11クエン酸ソーダ1209/11
.スルファミン酸ニッケル30g/I!、シアン金カリ
8fj/lのメッキ浴でチタン白金メツキ板を陽極とし
、8A/′Diの電流密度で2秒間メッキして約3oo
Xの金メッキを施した。
■銀メッキ工程 銀メタル分6511/13の低シアン浴で、F!H。
を8.0〜90にセットし、陽極に銀板を用い、10A
/Drr?の電流密度で90秒間メッキを行い、その結
果■の金メツキ工程で行った極薄金メッキの上に約5μ
mの銀メッキを施した。
実施例2 実施例1と同様のアモルファスフープ材を次の工程を経
てパラジウムの極薄メッキの上に銀メッキを行った。
■、■、■、■の工程は実施例1と同様に行った。
■パラジウムメッキ工程 パラジウムメタル分159/lの中性のアンモニヤ系メ
ッキ浴で、IA/Dn?の電流密度で、陽極にチタン白
金メツキ板を用い2秒間メッキを行い・、約150Xの
パラジウムメッキを施した。
■銀メッキ工程 実施例1と同じ方法で、前記■の極薄パラジウムメッキ
を施した上に、銀メッキを行ったO 実施例5 厚さ25 μm N幅25mm、長さ700mのC08
6チ、Fe 6%、8i 5%、B11の組成ノ7モル
ファス合金フープ材を、次の工程を経てパラジウム・ニ
ッケル合金の極薄メッキの上に銀メッキを行った。
■、■、■、■の工程は実施例1と同様に行った0 ■パラジウム・ニッケル合金メッキ工程パラジウムメタ
ル分2011/l、ニッケルメタル分109/lの中性
浴で、陽極にチタン白金メツキ板を用い、2A/D−の
電流密度で3秒間メッキを行い、約300iのパラジウ
ム・ニッケル合金メッキを施した。
■銀メッキ工程 実施例1と同じ方法で、前記■の極薄パラジウム・ニッ
ケル合金メッキを施した上に、銀メッキを行った。
実施例4 直径125 μmのFe 9296、Si5.0%、B
3tsの合金組成のアモルファス線材を5.000mボ
ビン巻きしだものを次の工程を経て、ロジウムの極薄メ
ッキを施し、この上に銀メッキを行った。
■、■、■、■実施例1と同様に行った。
■ロジウムメッキ工程 ロジウムメタル分59/11の硫酸浴で、陽極にチタン
白金メツキ板を用い、10A/Drr?の電流密度で5
秒間メッキを行い約100λのロジウムメッキを施した
■銀メッキ工程 実施例1と同じ方法で、前記■の極薄ロジウムメッキを
行った上に、銀メッキを施した。
上記実施例によって得られた4種類のアモルファス合金
フープ材と線材の焼鈍後の半田付は性をテストした結果
は次の通りである。
テスト方法 真空炉を用い、温度420℃で3時間焼鈍を行い、大気
中で徐冷後、錫6:鉛4の溶融半田中に上記フープ材お
よび線材を浸漬したが、いずれも100%の濡れ性を示
した。
また、市販のヤニ人9半田線で上記焼鈍処理後のフープ
材に銅線を半田付けしたが容易に半田ができ、引っ張シ
に対し強固な密着性を示した0 同じく焼鈍後のアモルファス線材と銅線の半田結合をテ
ストしたが市販のヤニ入り半田線で容易に半田付けがで
き、引っ張り強度の強い半田による結合が認められた。
半田付は性が優れていることは、メッキした金属が被メ
ツキ素材に密着性のよいメッキが行われている証拠であ
り、このことは上記テストの高温、長時間の焼鈍にも拘
わらずンツキ面にフクレや剥離などが発生していないこ
とからも証明された。
以上のように、アモルファス合金に本プロセスによるメ
ッキを施せば、高温焼鈍後もメッキ表面は変化せず半田
付けが可能となり、この合金の利用範囲は急速に拡大し
、各種センサー。
スイッチングレギュレーター、高周波用部品や磁気遮へ
い材など電気材料としての応用がひらけ、産業に寄与す
る所が大である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アモルファス合金に金.パラジウム.パラジウム・ニッ
    ケル合金または、ロジウムの極薄メッキを施し、この上
    に銀メッキを施して、焼鈍温度に耐えるメッキ層を得る
    ことを特徴とするアモルファス合金のメッキ方法
JP3663985A 1985-02-27 1985-02-27 アモルフアス合金のメツキ方法 Pending JPS61195993A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4749625A (en) * 1986-03-31 1988-06-07 Hiraoka & Co., Ltd. Amorphous metal laminate sheet
JP2011094199A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 Furukawa Electric Co Ltd:The 金属−金属ガラス複合材、電気接点部材および金属−金属ガラス複合材の製造方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4749625A (en) * 1986-03-31 1988-06-07 Hiraoka & Co., Ltd. Amorphous metal laminate sheet
JP2011094199A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 Furukawa Electric Co Ltd:The 金属−金属ガラス複合材、電気接点部材および金属−金属ガラス複合材の製造方法

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