JPS6119294B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は真空処理装置に関し、詳述すれば、
真空処理室、真空処理室気密ゲートを介して連結
される予備室、および真空処理室に主排気弁を介
して連結されかつ予備室に副排気弁を介して連結
される排気系を有し、それで気密ゲートを閉じた
状態で主排気弁を閉じ副排気弁を開くことによつ
て予備室が排気でき、予備室が排気されたのちに
気密ゲートを開くことによつて真空処理室と予備
室の間で真空処理室の雰囲気を実質上変化させる
ことなしに被処理物の出入が達成でき、また予備
室が排気されたのちに主排気弁を開くことによつ
て真空処理室の排気が再開始できる真空処理装置
に関する。

このような真空処理装置は真空処理室を各種気
体の真空雰囲気に維持しながらこの真空処理室へ
被処理物を出入させるに適し、略述すれば、被処
理物を装置外から真空処理室へ搬入する場合に
は、気密ゲートを閉じた状態で装置外から予備室
の中へ被処理物が搬入され、次いで外気と予備室
の間を気密遮断したのちに上述したようにして予
備室が排気され、その後に被処理物が予備室から
真空処理室へ搬入される。被処理物の搬出の際に
は、予備室が排気されたのちに上述したようにし
て被処理物が真空処理装置から予備室へ搬出さ
れ、気密ゲートを閉じ予備室と外気の間の気密遮
断を開放したのちに被処理物が予備室から装置外
へ搬出される。

このような搬入搬出の際には予備室が排気され
たのちに真空処理室の排気を再開始するため主排
気弁が開かれるが、従来の真空処理装置はこの主
排気弁の開き作動に欠点が存した。この点につい
て述べると、従来は主排気弁の開き作動が単なる
勘で行なわれていたために、主排気弁の真空処理
室側の絶対圧力がこれの排気系側の絶対圧力より
低い状態で主排気弁が開かれてしまうおそれがあ
る。このような場合には排気系によつて予備室か
ら排気系の方へ排出される予備室の残留ガスが真
空処理室側と排気系側の圧力差によつて真空処理
室へ逆流し、これによつて真空処理室の雰囲気が
汚染される。

このような汚染は特に、スパツタリング、活性
化反応蒸着、ドライプレーテイングなどのような
アルゴンのような希ガスまたは反応ガスを雰囲気
に使用する成膜処理において、形成される膜の性
質に有害な影響を与える。例えばアルミニウムま
たはアルミニウム合金のスパツタリングの際に膜
の鏡面反射率の著しい低下が生じる。

よつてこの発明は上述した従来の欠点を除去す
ることを目的とする。この目的の達成のためこの
発明による装置は、主排気弁の真空処理室側およ
び排気系側の絶対圧力をそれぞれ検出する第１真
空計および第２真空計、並びに予備室の排気後に
第２真空計で検出される絶対圧力が第１真空計で
検出される絶対圧力より低くなつたときに主排気
弁を開く制御装置を有することを特徴とする。

この特徴によれば真空処理室側の絶対圧力が排
気系側の絶体圧力より低い状態で主排気弁が開か
れることはないから、予備室の残留ガスが真空処
理室へ逆流してこれの雰囲気を汚染するおそれは
ない。

以下、図面を参照しながらこの発明の実施例に
ついて説明する。

図面において、真空処理室１を気密包囲する真
空槽２と予備室３を気密包囲する予備槽４とは隔
壁５を共有し、この隔壁５を介して真空処理室１
と予備室３は隣接する。隔壁５に設けられる気密
ゲート６は開いたときに被処理物７を通過させる
ことができる開口（図示なし）を形成し閉じたと
きに真空処理室１と予備室３を気密遮断するよう
に構成される。隔壁５に対向する予備槽４の部分
には第２気密ゲート８が設けられ、これは開いた
ときに被処理物７を通過させることができる開口
（図示なし）を形成し閉じたときに予備室３と外
気を気密遮断するように構成される。真空処理室
１の中には被処理物７に処理を加えるために使用
される部材例えばスパツタリング用ターゲツト
（図示なし）が配置され、真空処理室１は通常流
量調節弁９を介して気体源１０に連結される。

符号１１によつて示される排気系は、主配管１
２の中の通路によつて真空処理室１に連通しかつ
主配管１２から分岐する副配管１３の中の通路に
よつて予備室３に連通する。主配管１２はこれの
中の通路を遮断するための主排気弁１４を有し、
副配管１３はこれの中の通路を遮断するための副
排気弁１５を有する。

主排気弁１４の真空処理室側例えば主排気弁１
４と真空処理室１の間の主配管１２の途中には第
１真空計の測定子１６が配置され、主排気弁１４
の排気系側例えば排気系１１のポンプ室には第２
真空計の測定子１７が配置される。第１真空計と
第２真空計は通常同じ仕様のものであつて、例え
ば10^-3から10^-7トールの絶対圧力を検出すなわち
測定できて絶対圧力に対応して変化する電流信号
が測定子１６，１７から発せられるような電離真
空計からなる。

符号１８で示され両真空計のコントロール部を
包含する制御装置は、例えば、第１真空計測定子
１６および第２真空計測定子１７から電路１９お
よび２０をそれぞれ介して受取つた電流値の差を
ブリツジ回路で検出し、これを増幅器で増幅し、
前記差の正負に応じて第２真空計で検出される絶
対圧力が第１真空計で検出される絶対圧力より低
くなつたときに継電器を作動させ、この継電器が
作動されたときに電路２１を介して主排気弁１４
に電流を流すように構成される。主排気弁１４は
手動以外に電磁的または電動的にも作動できるよ
うに構成され、その際には電路２１に電流が流れ
たときに閉から開になるように駆動される。この
ようにして制御装置１８は第２真空計１７で検出
される絶対圧力が第１真空計１６で検出される絶
対圧力より低くなつたときに（勿論、これら真空
計の作動範囲内で）主排気弁１４を開くように働
く。

上述した真空処理装置において被処理物７を真
空処理室１の中へ搬入する際には、最初に第２気
密ゲート８が開かれ（この際に気密ゲート６およ
び副排気弁１５は閉じている）、これを通して被
処理物７が装置外から予備室３に搬入される。次
いで第２気密ゲート８および主排気弁１４が閉じ
られて（この時点以前には真空処理室１の排気の
ために主排気弁１４は開かれている）副排気弁１
５が開かれ、これによつて予備室３は真空に排気
される。この際に真空計および制御装置１６，１
７，１８は作動状態に置かれる。予備室３の排気
後に主排気弁の排気系側の絶対圧力がこれの真空
処理室側の絶対圧力より低くなると制御装置１８
の作用によつて主排気弁１４が開き、残留ガスの
逆流なしに真空処理室１の排気か再開始される。
気密ゲート６は予備室３の排気後に開かれ、これ
を通して被処理物７は真空処理室１の雰囲気を実
質上損うことなしに真空処理室１に搬入される。
その後に気密ゲート６および副排気弁１５が閉じ
らられる。

被処理物７の搬出の際には、予備室３が排気さ
れたのちに気密ゲート６が開かれて被処理物７が
真空処理室１から予備室３へ搬出され、気密ゲー
ト６および副排気弁１５が閉じられたのちに第２
気密ゲート８が開かれて被処理物７が予備室３か
ら装置外へ搬出される。この際にも主排気弁１４
の開き作動は制御装置１８によつて達成される。

この発明は上述した実施例は種種に変型でき
る。例えば制御装置１８は電気的に作動する代り
に電気流体的に作動するように構成されてもよ
く、真空処理室に多くの予備室が隣接配置されて
もよく、また多くの予備室を直列配置で順次隣接
するように配備することも可能である。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明による真空処理装置の１実施例
の図解図である。 図面において、１は真空処理室、３は予備室、
７は被処理物、１１は排気系、１４は主排気弁、
１５は副排気弁、１６は第１真空計の測定子、１
７は第２真空計の測定子、１８は制御装置を示
す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 真空処理室、真空処理室に気密ゲートを介し
   て連結される予備室、および真空処理室に主排気
   弁を介して連結されかつ予備室に副排気弁を介し
   て連結される排気系を有し、それで気密ゲートを
   閉じた状態で主排気弁を閉じ副排気弁を開くこと
   によつて予備室が排気でき、予備室が排気された
   のちに気密ゲートを開くことによつて真空処理室
   と予備室の間で真空処理室の雰囲気を実質上変化
   させることなしに被処理物の出入が達成でき、ま
   た予備室が排気されたのちに主排気弁を開くこと
   によつて真空処理室の排気が再開始できる真空処
   理装置において、主排気弁の真空処理室側および
   排気系側の絶対圧力をそれぞれ検出する第１真空
   計および第２真空計、並びに予備室の排気後に第
   ２真空計で検出される絶対圧力が第１真空計で検
   出される絶体圧力より低くなつたときに主排気弁
   を開く制御装置を有することを特徴とする排気弁
   制御装置を有する真空処理装置。