JPS61179843A - メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 - Google Patents
メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金Info
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- JPS61179843A JPS61179843A JP1976085A JP1976085A JPS61179843A JP S61179843 A JPS61179843 A JP S61179843A JP 1976085 A JP1976085 A JP 1976085A JP 1976085 A JP1976085 A JP 1976085A JP S61179843 A JPS61179843 A JP S61179843A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は磁気ディスク用アルミニウム合金に関するも
のである。詳しくは電子計算機の記憶媒体として使用さ
れるメッキ型磁気ディスク用アルミニウム合金に関する
ものである。
のである。詳しくは電子計算機の記憶媒体として使用さ
れるメッキ型磁気ディスク用アルミニウム合金に関する
ものである。
従来技術
磁気ディスクは一般にアルミニウム合金基板の表面を精
密研摩した後に磁性体薄膜を被覆させたものであり、こ
の磁性体被膜を磁化させる（１） 精密研摩あるいは
切削後の表面精度が良好なこと。
密研摩した後に磁性体薄膜を被覆させたものであり、こ
の磁性体被膜を磁化させる（１） 精密研摩あるいは
切削後の表面精度が良好なこと。
（２） 基板表面に被覆される磁性体薄膜の欠陥の原
因となる突起や穴が少なく、かつ小さいこと。
因となる突起や穴が少なく、かつ小さいこと。
（３） ある程度の機械的強度を有し、基板製作時の
機械加工、研摩使用時の高速回転等にも耐え得ること。
機械加工、研摩使用時の高速回転等にも耐え得ること。
（４）軽量、非磁性であり、ある程度の耐食性を有する
こと。
こと。
従来このような特性を有する磁気ディスク用基板として
Ａｌ −Ｍｇ −Ｍｎ −Ｏｒ系の５０８６合金が使用
されてきた。最近、磁気ディスクに対する高密度化、大
容量化等の要求が高まり、これに適したアルミニウム素
材や磁性体薄膜の被覆法の開発が望まれている。従来の
５０８６合金の場合には、素材中に５〜１０μｍ程度の
金属間化合物（ＡＩ Ｆｅ １Ａｌ −Ｆｅ −Ｓｉ
。
Ａｌ −Ｍｇ −Ｍｎ −Ｏｒ系の５０８６合金が使用
されてきた。最近、磁気ディスクに対する高密度化、大
容量化等の要求が高まり、これに適したアルミニウム素
材や磁性体薄膜の被覆法の開発が望まれている。従来の
５０８６合金の場合には、素材中に５〜１０μｍ程度の
金属間化合物（ＡＩ Ｆｅ １Ａｌ −Ｆｅ −Ｓｉ
。
ＡＩ −Ｍｎ 、、 ＡＩ −Ｍｎ −Ｆｅ 、 ＡＩ
−Ｓｉ 。
−Ｓｉ 。
Ｍｇ −Ｓｉ系等）が多数存在するため、機械加工や研
摩時にこれらの粗大な金属間化合物が基板エリ脱落して
穴となったり、表面に突起として残留するため、研摩時
に良好な表面状態が得られない。そのため、磁性体薄膜
を表面に被覆しても表面欠陥部には磁性体が均一に被覆
されず、記憶エラーの原因となり、高密度磁気ディスク
用基板としては問題がある。
摩時にこれらの粗大な金属間化合物が基板エリ脱落して
穴となったり、表面に突起として残留するため、研摩時
に良好な表面状態が得られない。そのため、磁性体薄膜
を表面に被覆しても表面欠陥部には磁性体が均一に被覆
されず、記憶エラーの原因となり、高密度磁気ディスク
用基板としては問題がある。
また、磁性体を基板表面に被覆する方法としては、これ
までは塗付法が主体であったが、近年、メッキ性、スパ
ッター法等が開発され、高密度磁気ディスクへの適用が
進められている。
までは塗付法が主体であったが、近年、メッキ性、スパ
ッター法等が開発され、高密度磁気ディスクへの適用が
進められている。
この場合、従来の５０８６合金はメッキ性が悪く、メッ
キ用高密度磁気ディスク材としての適用には問題がある
。
キ用高密度磁気ディスク材としての適用には問題がある
。
発明が解決しようとする問題点
この発明は従来磁気ディスク用基板として使用されてい
る５０８６合金の上記問題点を解決し、メッキ性、特に
Ｎ１−Ｐメッキ性とメッキ層の密着性にすぐβτ磁気デ
ィスク用アルミニウム合金を提供するものである。
る５０８６合金の上記問題点を解決し、メッキ性、特に
Ｎ１−Ｐメッキ性とメッキ層の密着性にすぐβτ磁気デ
ィスク用アルミニウム合金を提供するものである。
本発明はメッキ性、特にＮ１−Ｐメッキ性とメッキ層の
密着性にすぐねた磁気ディスク用アルミニウム合金に関
する。
密着性にすぐねた磁気ディスク用アルミニウム合金に関
する。
一般にアルミニウム合金はその基本的性質がメッキに適
さない。例えば、アルミニウムは電気化学的に活性で強
固な酸化被膜が形成される玉 こと、合金元壁の添加量や分布状態によってはアルミニ
ウムの表面が化学的および電気化学的に不均一になるこ
と、熱膨張係数が大きくメッキ層とアルミニウム間に張
力が作用し、欠陥の発生やメッキ層のはく離を起こし易
いこと等の問題がある。
さない。例えば、アルミニウムは電気化学的に活性で強
固な酸化被膜が形成される玉 こと、合金元壁の添加量や分布状態によってはアルミニ
ウムの表面が化学的および電気化学的に不均一になるこ
と、熱膨張係数が大きくメッキ層とアルミニウム間に張
力が作用し、欠陥の発生やメッキ層のはく離を起こし易
いこと等の問題がある。
メッキ型磁気ディスクにおいては、磁性体を形成する以
前に基板の平滑性をより向上させるため、基板上にＮ１
−Ｐ系の中間層メッキを形成させた後に再度研摩される
が、アルミニウム基板上に直接メッキ処理する場合には
、メッキ層の密着性が悪い問題がある。良質なメッキを
施すにはアルミニウム基板の前処理が必要であり、一般
に亜鉛置換法による亜鉛メッキが施され、その上にＮ１
−Ｐ系の中間層がメッキで形成される。
前に基板の平滑性をより向上させるため、基板上にＮ１
−Ｐ系の中間層メッキを形成させた後に再度研摩される
が、アルミニウム基板上に直接メッキ処理する場合には
、メッキ層の密着性が悪い問題がある。良質なメッキを
施すにはアルミニウム基板の前処理が必要であり、一般
に亜鉛置換法による亜鉛メッキが施され、その上にＮ１
−Ｐ系の中間層がメッキで形成される。
従って、メッキ型磁気ディスクの性能は下地処理である
亜鉛メッキ性およびＮ１−Ｐ中間層のメッキ性に左右さ
れ、均一で無欠陥のＮｉ −Ｐメッキと密着性にすぐれ
た亜鉛メッキを行う必要があり、基板となるアルミニウ
ム素材についても、メッキ性を考慮して合金組成や最適
製造法を検討する必要がある。
亜鉛メッキ性およびＮ１−Ｐ中間層のメッキ性に左右さ
れ、均一で無欠陥のＮｉ −Ｐメッキと密着性にすぐれ
た亜鉛メッキを行う必要があり、基板となるアルミニウ
ム素材についても、メッキ性を考慮して合金組成や最適
製造法を検討する必要がある。
この発明は、上記の目的に沿ったＮ１−Ｐお工び亜鉛メ
ッキ性にすぐれた磁気ディスク用合金を提供するもので
あり、その要旨とするところは以下のとおりである。
ッキ性にすぐれた磁気ディスク用合金を提供するもので
あり、その要旨とするところは以下のとおりである。
（１） Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ ０．２〜２．９ ％、
０ｕＯ１０５〜０．２９ ％を含み、残りアルミニウム
と不純物よりなり、不純物としてのＦｅ 、ＳｉがＦｅ
＜０．４０％、Ｓｉ＜０．２５％であるアルミニウム合
金。
０ｕＯ１０５〜０．２９ ％を含み、残りアルミニウム
と不純物よりなり、不純物としてのＦｅ 、ＳｉがＦｅ
＜０．４０％、Ｓｉ＜０．２５％であるアルミニウム合
金。
（２） Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ Ｏ，２〜２．９ ％、
Ｃｕｏ、 ０５〜０．２９ ％ ｋ含み、さらにＭｎ０
．０５〜０．５ ％、Ｏｒ ０．０５〜０．２５ ％、
Ｚｒ０．０５〜０．２５ ％のうちの１種または２種以
上を含み、残りアルミニウムと不純物よりなり不純物と
してのＦｅ 、 ＳｉがＦｅ＜０．４０％、Ｓｉ＜０．
２５％であるアルミニウム合金。
Ｃｕｏ、 ０５〜０．２９ ％ ｋ含み、さらにＭｎ０
．０５〜０．５ ％、Ｏｒ ０．０５〜０．２５ ％、
Ｚｒ０．０５〜０．２５ ％のうちの１種または２種以
上を含み、残りアルミニウムと不純物よりなり不純物と
してのＦｅ 、 ＳｉがＦｅ＜０．４０％、Ｓｉ＜０．
２５％であるアルミニウム合金。
（３）上記（１） （２）のアルミニウム合金にＢａＯ
，１〜５０ ｐｐｍを含むアルミニウム合金。
，１〜５０ ｐｐｍを含むアルミニウム合金。
成分添加の意義とその限定理由は以下のとおりである。
Ｍｇ：Ｍｇの添加は強度を向上させ、磁気ディスク材と
しての必要強度を付与する ものである。２％未満ではこの効果が 不十分であり、磁気ディスク材の切削 や研摩時の加工性が低下する。５％を 超えると熱間圧延性が低下する。従っ てＭｇ添加量は２〜５チとする。
しての必要強度を付与する ものである。２％未満ではこの効果が 不十分であり、磁気ディスク材の切削 や研摩時の加工性が低下する。５％を 超えると熱間圧延性が低下する。従っ てＭｇ添加量は２〜５チとする。
Ｚｎ：Ｚｎの添加はアルミニウム表面の酸化膜を弱くシ
、前処理酸洗により適度な 粗さを基板に付与してメッキ層の密着 性の向上に寄与するばかりでなく、 ジンケート層を基板全面に均一に付着 させ、その後のＮ１−Ｐメッキ層の密 着性や欠陥の防止に有効である。０．２チ未満ではこの
効果が十分でなく、２．９チを超えると熱間加工性が低
下する。
、前処理酸洗により適度な 粗さを基板に付与してメッキ層の密着 性の向上に寄与するばかりでなく、 ジンケート層を基板全面に均一に付着 させ、その後のＮ１−Ｐメッキ層の密 着性や欠陥の防止に有効である。０．２チ未満ではこの
効果が十分でなく、２．９チを超えると熱間加工性が低
下する。
従ってＺｎ添加量は０．２〜２．９チとする。
Ｃｕ：ＣｕはＺｎと同じ効果を合金に付与するが、特に
メッキ層の密着性を向上させ る。０．０５１未満ではこの効果が不十分であり、０．
２９％を超えると熱間加工性を低下させる。従ってＣｕ
量は ０．０５〜０．２９チとする。
メッキ層の密着性を向上させ る。０．０５１未満ではこの効果が不十分であり、０．
２９％を超えると熱間加工性を低下させる。従ってＣｕ
量は ０．０５〜０．２９チとする。
Ｍｎ：Ｍｎは均質化処理時に微細な金属間化合物として
析出し、再結晶粒を微細化 する作用があり、基板の研摩面の仕上 り性やＮ１−Ｐメッキ層の層状構造を 安定化させ、密着性の向上等に有効で ある。
析出し、再結晶粒を微細化 する作用があり、基板の研摩面の仕上 り性やＮ１−Ｐメッキ層の層状構造を 安定化させ、密着性の向上等に有効で ある。
０．０５％未満ではこの効果が不十分であり、０．５チ
を超えると巨大な金属間化合物が晶出するので好ましく
ない。
を超えると巨大な金属間化合物が晶出するので好ましく
ない。
従ってＭｎ添加量は０．０５〜０．５％とする。
Ｏｒ：ＯｒもＭｎと同様な効果があり、結晶粒の微細化
に有効である。添加量が、 ０、０５１未満の場合にはこの効果が不十分であり、０
．２５％を超えると巨大な金属間化合物を晶出するので
好まし くない。従ってＯｒ添加量は０．０５〜０．２５チとす
る。
に有効である。添加量が、 ０、０５１未満の場合にはこの効果が不十分であり、０
．２５％を超えると巨大な金属間化合物を晶出するので
好まし くない。従ってＯｒ添加量は０．０５〜０．２５チとす
る。
Ｚｒ：ＺｒもＭｎやＯｒと同様に結晶粒の微細化に有効
である。添加量が０．０５％未満の場合にはこの効果が
不十分であり、０、２５ ％を超えると巨大な金属間化
合物が晶出するので好ましくない。従っ てＯｒ添加量は０．０５〜０．２５％とする。
である。添加量が０．０５％未満の場合にはこの効果が
不十分であり、０、２５ ％を超えると巨大な金属間化
合物が晶出するので好ましくない。従っ てＯｒ添加量は０．０５〜０．２５％とする。
Ｂｅ：Ｂｅは１−Ｍｇ系合金の酸化防止や熱間加工性の
向上に有効である。０． ｌｐｐｍ未満ではこの効果が
不十分であり５０ ｐｐｍを超えると毒性の点で問題が
あり、添加量は０．１〜５０ ｐｐｍとする。
向上に有効である。０． ｌｐｐｍ未満ではこの効果が
不十分であり５０ ｐｐｍを超えると毒性の点で問題が
あり、添加量は０．１〜５０ ｐｐｍとする。
Ｆｅ、Ｓｉ：ＦｅやＳｉはアルミニウム中にほとんど固
溶せず、金属間化合物として 析出するが、Ｆｅ 、 Ｓｉ量が多い場合には、ＡＩ−
Ｆｅ系、Ａｌ−Ｆｅ −Ｓｉ系等の粗大な金属間化合物
が多数存在し、品質上問題となるため、不純物元素と してのＦｅ 、 Ｓｉ量はＦｅ ＜０．５％、Ｓｉ ＜
０．３チとする。
溶せず、金属間化合物として 析出するが、Ｆｅ 、 Ｓｉ量が多い場合には、ＡＩ−
Ｆｅ系、Ａｌ−Ｆｅ −Ｓｉ系等の粗大な金属間化合物
が多数存在し、品質上問題となるため、不純物元素と してのＦｅ 、 Ｓｉ量はＦｅ ＜０．５％、Ｓｉ ＜
０．３チとする。
本発明における亜鉛メッキ法は、例えば、ＮａＯＨ３０
０ｇｒ、／ ５ ＺｎＯ８０ｇｚ／ ｌを溶解した１５
〜２５℃の水溶液中に数秒〜数分間浸漬することにエリ
基板表面に亜鉛を析出させる方法で行われる。
０ｇｒ、／ ５ ＺｎＯ８０ｇｚ／ ｌを溶解した１５
〜２５℃の水溶液中に数秒〜数分間浸漬することにエリ
基板表面に亜鉛を析出させる方法で行われる。
また、Ｎ１−Ｐメッキ法は次亜υノ酸を還元剤とする無
電解Ｎ１−Ｐメッキ法であり、通常８０〜９０℃で２〜
４ ｈｒ処理することに工９１５〜３０μｍのメッキ層
が形成される。
電解Ｎ１−Ｐメッキ法であり、通常８０〜９０℃で２〜
４ ｈｒ処理することに工９１５〜３０μｍのメッキ層
が形成される。
Ｎ１−Ｐメッキ後の皮膜には欠陥がないこと、密着性が
良いこと等が必要とされるが、アルミニウム基板中に巨
大な介在物が存在したりジンケートの不良部が存在する
と、Ｎ１−Ｐメッキ後にもその欠陥が存在しまたジンケ
ートの密着性が悪いとＮｉ −Ｐメッキ皮膜の密着性が
低下する。
良いこと等が必要とされるが、アルミニウム基板中に巨
大な介在物が存在したりジンケートの不良部が存在する
と、Ｎ１−Ｐメッキ後にもその欠陥が存在しまたジンケ
ートの密着性が悪いとＮｉ −Ｐメッキ皮膜の密着性が
低下する。
この発明は、ＺｎやＯｕを添加することにより表面酸化
皮膜を弱くしてジンケートの密着性を向上させることに
エリ、Ｎ１−Ｐメッキ皮膜の密着性の向上と欠陥の防止
をはかろうとするものである。さらにＭｎ 、 Ｏｒ
ｙ Ｚｎ等の選択成分を添加することにより結晶粒を微
細化し、Ｎ１−Ｐメッキ層の均一化や密着性の向上をは
かろうとするものである。
皮膜を弱くしてジンケートの密着性を向上させることに
エリ、Ｎ１−Ｐメッキ皮膜の密着性の向上と欠陥の防止
をはかろうとするものである。さらにＭｎ 、 Ｏｒ
ｙ Ｚｎ等の選択成分を添加することにより結晶粒を微
細化し、Ｎ１−Ｐメッキ層の均一化や密着性の向上をは
かろうとするものである。
実施例
実施例１
表１に示す化学成分を有する１ ００ ｍｍ厚の鋳塊を
製作した。この鋳塊を５００℃で１６ｈｒの均質化処理
後に４８０℃で熱間圧延し、板厚６簡に圧延した。熱間
圧延板を約６６チ冷間圧延して２ｓｍ板とし、その後２
３０℃Ｘ ２ ｈｒ焼鈍して半硬材とした。
製作した。この鋳塊を５００℃で１６ｈｒの均質化処理
後に４８０℃で熱間圧延し、板厚６簡に圧延した。熱間
圧延板を約６６チ冷間圧延して２ｓｍ板とし、その後２
３０℃Ｘ ２ ｈｒ焼鈍して半硬材とした。
この素材について荒切削、歪取り焼鈍（３８０℃Ｘ ２
ｈｒ） Ｌ 、ダイヤモンド切削により鏡面仕上した
後、亜鉛メッキとＮ１−Ｐメッキを行い諸性能を評価し
た。表２にはその結果を示す。
ｈｒ） Ｌ 、ダイヤモンド切削により鏡面仕上した
後、亜鉛メッキとＮ１−Ｐメッキを行い諸性能を評価し
た。表２にはその結果を示す。
Ａ７はＺｎ 、 Ｏｕ量が低いためメッキ性に問題。
Ａ８は強度が低く、ダイヤモンド切削による仕上加工が
困難。
困難。
憲９はＺｎ量が低いためメッキ性に問題。
煮１０ＦｉＺｎ 、 Ｏｕ量が高く、熱間圧延性に問題
。
。
Ａ １１はＯｕ量が低いため、メッキ層の密着性に問題
。
。
〜１
＜ 光 １１ 職 嬌 １１ 崎 職 糠 梃 職
軛−１１＾ ・ 二 １１１１１１１１１１１・ ・ 、−Ｉ′ ・；；；二二に：；＝双＝； 〈ニー°ヘー、４ ： ｎ １．・−＝〜寡＝蓮
奪 、 慧 彰 実施例２ 表３に示した化学成分を有する１００ｍ厚の鋳塊を製作
し、実施例１と同じ方法で板厚２１ＩＩ１ｍの半硬材と
した。
軛−１１＾ ・ 二 １１１１１１１１１１１・ ・ 、−Ｉ′ ・；；；二二に：；＝双＝； 〈ニー°ヘー、４ ： ｎ １．・−＝〜寡＝蓮
奪 、 慧 彰 実施例２ 表３に示した化学成分を有する１００ｍ厚の鋳塊を製作
し、実施例１と同じ方法で板厚２１ＩＩ１ｍの半硬材と
した。
この材料について荒切削、歪取り焼鈍（３９０℃Ｘ ２
ｈｒ）後に、ダイヤモンド切削により鏡面仕上し、亜
鉛メッキとＮ１−Ｐメッキを行った場合の緒特性を表４
に示す。
ｈｒ）後に、ダイヤモンド切削により鏡面仕上し、亜
鉛メッキとＮ１−Ｐメッキを行った場合の緒特性を表４
に示す。
実施例１〜６は良好な性能を有している。
＆７，８は結晶粒大きく均一性や密着性に劣る。
ＪＫ ９ ｙ １０は巨大な金属間化合物が存在するた
め欠陥が多い。
め欠陥が多い。
Ａｌｌは結晶粒大きく密着性に問題。
ミ家 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ −事
、−一゛
Ｅ” ｃｉ ＆ ４ ％ ｓ
ｓ ｓ ｓ ｓ ｓ 磯Ｑ ロ
膿 の １ １ 寸 ０ ト ト
寸” Ｎ −Ｉ Ｑ Ｃｉ ヘ
ヘ − ヘ −−＝磯 −ｅｖ、ｃＱ 寸
ｎ ［Ｆ］ ト ω ■ ２ ＝啄
芯 叡 警 発明の効果 この発明のアルミニウム合金によれば、メッキ面は均一
でかつ欠陥がなく、メッキ層の密着性も良好なすぐれた
メッキ型磁気ディスク用基板が得られる。
ｓ ｓ ｓ ｓ ｓ 磯Ｑ ロ
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ヘ − ヘ −−＝磯 −ｅｖ、ｃＱ 寸
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芯 叡 警 発明の効果 この発明のアルミニウム合金によれば、メッキ面は均一
でかつ欠陥がなく、メッキ層の密着性も良好なすぐれた
メッキ型磁気ディスク用基板が得られる。
手続補正書（方式）
％式％
１、事件の表示
昭和６０年特許願第１９７６０ 号
２、発明の名称
メッキ性にすぐれた磁気ディスク用アルミニウム合金３
、補正をする者 ４、代理人 住所 東京都港区新橋５丁目１１番３号５、補正命令の
日付 昭和６０年５月２８日 （発送日）６、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 明細書第１４頁、第１５頁、第１７頁、第１８頁の表１
〜４を別紙の通り補正する。
、補正をする者 ４、代理人 住所 東京都港区新橋５丁目１１番３号５、補正命令の
日付 昭和６０年５月２８日 （発送日）６、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 明細書第１４頁、第１５頁、第１７頁、第１８頁の表１
〜４を別紙の通り補正する。
Claims (4)
- （１）Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ０．２〜２．９％、Ｃｕ０．
０５〜０．２９％を含み、残りアルミニウムと不純物よ
りなり、不純物としてのＦｅ、ＳｉがＦｅ＜０．４％、
Ｓｉ＜０．２５％であることを特徴とするメッキ性とメ
ッキ層の密着性にすぐれた磁気ディスク用アルミニウム
合金。 - （２）Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ０．２〜２．９％、Ｃｕ０．
０５〜０．２９％、Ｂｅ０．１〜５０ｐｐｍを含み、残
りアルミニウムと不純物よりなり、不純物としてのＦｅ
、ＳｉがＦｅ＜０．４％、Ｓｉ＜０．２５％であること
を特徴とするメッキ性にすぐれた磁気ディスク用アルミ
ニウム合金。 - （３）Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ０．２〜２．９％、Ｃｕ０．
０５〜０．２９％を含み、さらにＭｎ０．０５〜０．５
％、Ｃｒ０．０５〜０．２５％、Ｚｒ０．０５〜０．２
５％のうちの１種または２種以上を含み、残りアルミニ
ウムと不純物よりなり、不純物としてのＦｅ、ＳｉがＦ
ｅ＜０．４０％、Ｓｉ＜０．２５％であることを特徴と
するメッキ性にすぐれた磁気ディスク用アルミニウム合
金。 - （４）Ｍｇ２〜５％、Ｚｎ０．２〜２．９％、Ｃｕ０．
０５〜０．２９％、Ｂｅ０．１〜５０ｐｐｍを含み、さ
らにＭｎ０．０５〜０．５％、Ｃｒ０．０５〜０．２５
％、Ｚｒ０．０５〜０．２５％のうち１種または２種以
上を含み、残りアルミニウムと不純物よりなり、不純物
としてのＦｅ、ＳｉがＦｅ＜０．４０％、Ｓｉ＜０．２
５％であることを特徴とするメッキ性にすぐれた磁気デ
ィスク用アルミニウム合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976085A JPS61179843A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976085A JPS61179843A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61179843A true JPS61179843A (ja) | 1986-08-12 |
| JPS6327420B2 JPS6327420B2 (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=12008292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976085A Granted JPS61179843A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61179843A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62133038A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-16 | Showa Alum Corp | 鏡面切削性に優れたアルミニウム合金 |
| JPH02111839A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-24 | Kobe Steel Ltd | 優れたメッキ性を有するディスク用アルミニウム合金板とその製造方法 |
| JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Ａｌ合金鏡面基板の製造方法 |
| JPH02170928A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-07-02 | Furukawa Alum Co Ltd | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金の製造方法 |
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| EP3848476A1 (de) * | 2020-01-07 | 2021-07-14 | AMAG rolling GmbH | Blech oder band aus einer aushärtbaren aluminiumlegierung, ein daraus gefertigtes fahrzeugteil, eine verwendung und ein verfahren zur herstellung des blechs oder bands |
-
1985
- 1985-02-04 JP JP1976085A patent/JPS61179843A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH02111839A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-24 | Kobe Steel Ltd | 優れたメッキ性を有するディスク用アルミニウム合金板とその製造方法 |
| US5244516A (en) * | 1988-10-18 | 1993-09-14 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Aluminum alloy plate for discs with improved platability and process for producing the same |
| JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Ａｌ合金鏡面基板の製造方法 |
| JPH02170928A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-07-02 | Furukawa Alum Co Ltd | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金の製造方法 |
| EP3848476A1 (de) * | 2020-01-07 | 2021-07-14 | AMAG rolling GmbH | Blech oder band aus einer aushärtbaren aluminiumlegierung, ein daraus gefertigtes fahrzeugteil, eine verwendung und ein verfahren zur herstellung des blechs oder bands |
| WO2021140163A1 (de) * | 2020-01-07 | 2021-07-15 | Amag Rolling Gmbh | Blech oder band aus einer aushärtbaren aluminiumlegierung, ein daraus gefertigtes fahrzeugteil, eine verwendung und ein verfahren zur herstellung des blechs oder bands |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6327420B2 (ja) | 1988-06-02 |
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