JPS61171464A - オキシイミノ酪酸誘導体の製法 - Google Patents
オキシイミノ酪酸誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS61171464A JPS61171464A JP60010498A JP1049885A JPS61171464A JP S61171464 A JPS61171464 A JP S61171464A JP 60010498 A JP60010498 A JP 60010498A JP 1049885 A JP1049885 A JP 1049885A JP S61171464 A JPS61171464 A JP S61171464A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- halogen
- group
- ethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はセファロスポリン化合物の製造中間体の新規な
製法に関するものである。
製法に関するものである。
（従来技術）
本発明の目的化合物の製法としては特開昭５４−９８７
９５号公報、特開昭５７−５８４７４号公報などに記載
されたものがある。本発明者はこれらと異なる新規な工
業的製法について研究した結果本発明を完成した。
９５号公報、特開昭５７−５８４７４号公報などに記載
されたものがある。本発明者はこれらと異なる新規な工
業的製法について研究した結果本発明を完成した。
（発明の構成）
本発明は、式
（式中Ｒ１は水素、またはカルボキシル基の保護基を意
味する。Ｒ２は低級アルキル、低級アルケニル、低級ア
ルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニルまたは四
乃至上置の含窒素複素環を意味し、これらはハロゲン、
低級アルキルチオ、アリール１アリールオキシ、シアノ
、カルバモイル、アルカンスルホニル、カルボキシル、
保護されたカルボキシルまたはオキソ基等で置換されて
もよい）で表わされる化合物を二級アミンと処理して式
（式中Ｒ１およびＷは前記に同じ。ＶおよびＷは同一ま
たは興なってそれぞれ低級アルキルを意味するか、ある
いはＲ３とがかそれらが結合している窒素原子と一緒に
なって環状アミ７基を形成する。
味する。Ｒ２は低級アルキル、低級アルケニル、低級ア
ルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニルまたは四
乃至上置の含窒素複素環を意味し、これらはハロゲン、
低級アルキルチオ、アリール１アリールオキシ、シアノ
、カルバモイル、アルカンスルホニル、カルボキシル、
保護されたカルボキシルまたはオキソ基等で置換されて
もよい）で表わされる化合物を二級アミンと処理して式
（式中Ｒ１およびＷは前記に同じ。ＶおよびＷは同一ま
たは興なってそれぞれ低級アルキルを意味するか、ある
いはＲ３とがかそれらが結合している窒素原子と一緒に
なって環状アミ７基を形成する。
この環状アミ７基は一個の窒素原子以外にさらにヘテロ
原子を環内に有してもよい）で表わされる化合物を製し
、このものを−・ゲン化剤と反応さ （６芹 （式中Ｒ１および坪は前記に応じ。ｔは水素またはハロ
ゲンを、ガはハロゲンを意味する）で表わされる化合物
またはその塩を製造する方法に関するものである。
原子を環内に有してもよい）で表わされる化合物を製し
、このものを−・ゲン化剤と反応さ （６芹 （式中Ｒ１および坪は前記に応じ。ｔは水素またはハロ
ゲンを、ガはハロゲンを意味する）で表わされる化合物
またはその塩を製造する方法に関するものである。
上記の置換基について具体例を示して以下に説明する。
Ｒ１は水素原子、またはカルボキシル基の保護基であり
、保護基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−
プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数
１〜６個のアルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル等
のアラルキル基、７エ二−ル等のアリール基、トリメチ
ルシリル等のトリ低級アルキルシリル基等があげられる
。
、保護基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−
プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数
１〜６個のアルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル等
のアラルキル基、７エ二−ル等のアリール基、トリメチ
ルシリル等のトリ低級アルキルシリル基等があげられる
。
−の低級アルキルとしては１〜６個の炭素原子を有する
直鎖または分妓鎖のアルキルであり、例えばメチル、エ
チル、プロピル、１−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル等が含まれる。低級アルケニルには
ビニル、アリル、１−プａベニル等が含まれ、低級アル
キニルにはエチニル、２−プロピニル、８−ペンチニル
等カ含まれる。シクロアルキルにはシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル等の炭素数８〜７個の炭素原子を有するものが
含まれ、シクロアルケニルにはシクロペンテニル、シク
ロヘキセニルなどが含まれる。
直鎖または分妓鎖のアルキルであり、例えばメチル、エ
チル、プロピル、１−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル等が含まれる。低級アルケニルには
ビニル、アリル、１−プａベニル等が含まれ、低級アル
キニルにはエチニル、２−プロピニル、８−ペンチニル
等カ含まれる。シクロアルキルにはシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル等の炭素数８〜７個の炭素原子を有するものが
含まれ、シクロアルケニルにはシクロペンテニル、シク
ロヘキセニルなどが含まれる。
Ｎ含有４〜７員環複素環式基にはアゼチジン、ピロリジ
ン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン等の基が含まれ
る。これらは１または２個の適当な置換基で置換されて
いてもよい。適当な置換基としては塩素、臭素等のハロ
ゲン、メチルチオ、エチルチオ等の低級アルキルチオ基
、フェニル、トリル、ｐ−メトキシフェニル等のアリー
ル基、フェノキシ等のアリールオキシ基、シアノ基、カ
ルバモイル基、メシル、エタンスルホニル等ノアルカン
スルホニル基、カルボキシル基もしくは保護されたカル
ボキシル基およびオキソ基等が含まれる。
ン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン等の基が含まれ
る。これらは１または２個の適当な置換基で置換されて
いてもよい。適当な置換基としては塩素、臭素等のハロ
ゲン、メチルチオ、エチルチオ等の低級アルキルチオ基
、フェニル、トリル、ｐ−メトキシフェニル等のアリー
ル基、フェノキシ等のアリールオキシ基、シアノ基、カ
ルバモイル基、メシル、エタンスルホニル等ノアルカン
スルホニル基、カルボキシル基もしくは保護されたカル
ボキシル基およびオキソ基等が含まれる。
次に本発明化合物の製造法を詳述する。
まず、式（すで表わされる化合物を、通常は溶媒中で適
当な酸触媒あるいは脱水剤の存在下、二級アミンと反応
させることにより、式（１）で表わされる化合物を製造
する◇使用される溶媒はベンゼン、トルエン、ジクロル
メタン等、本反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば限
定はされない。二級アミンとしてはジエチルアミン等の
ジアルキルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリ
ン等の環状アミンがあげられる。酸触媒としてはｐ−）
ルエンスルホン酸、酢酸等の酸あるいは四塩化チタン、
塩化第二スズ、塩化アルミニウム等のルイス酸等、通常
エナミン合成に用いられている触媒が用いられ、また脱
水剤としてはモレキュラーシーブ、酸化カルシウム等が
あげられる。反応温度は通常−５０〜１００℃の間で行
われる。次いでこの中間体（１）をハロゲン化剤と反応
させることにより、式（２）で表わされる化合物を得る
ことができる。
当な酸触媒あるいは脱水剤の存在下、二級アミンと反応
させることにより、式（１）で表わされる化合物を製造
する◇使用される溶媒はベンゼン、トルエン、ジクロル
メタン等、本反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば限
定はされない。二級アミンとしてはジエチルアミン等の
ジアルキルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリ
ン等の環状アミンがあげられる。酸触媒としてはｐ−）
ルエンスルホン酸、酢酸等の酸あるいは四塩化チタン、
塩化第二スズ、塩化アルミニウム等のルイス酸等、通常
エナミン合成に用いられている触媒が用いられ、また脱
水剤としてはモレキュラーシーブ、酸化カルシウム等が
あげられる。反応温度は通常−５０〜１００℃の間で行
われる。次いでこの中間体（１）をハロゲン化剤と反応
させることにより、式（２）で表わされる化合物を得る
ことができる。
この反応はジクロルメタン、クロ田ホルム、ジエ゛チル
エーテル等、本反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行う
のが適当である。ハロゲン化剤としてハ塩素、臭素等の
分子状ハロゲン、スル７リルクロライド等のスルフリル
ハライド、Ｎ−クロルコハク酸イミド、Ｎ−ブロムコハ
ク酸イミド、Ｎ−ブロムアセトアミド等のハロゲン化ア
ミド等かあげられる。反応はハロゲン化剤の種類で多少
異なるが、通常−７８〜５０℃の間で行われる。
エーテル等、本反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行う
のが適当である。ハロゲン化剤としてハ塩素、臭素等の
分子状ハロゲン、スル７リルクロライド等のスルフリル
ハライド、Ｎ−クロルコハク酸イミド、Ｎ−ブロムコハ
ク酸イミド、Ｎ−ブロムアセトアミド等のハロゲン化ア
ミド等かあげられる。反応はハロゲン化剤の種類で多少
異なるが、通常−７８〜５０℃の間で行われる。
本発明は、化合物（１）を化合物（１）としたのちにハ
ロゲン化を行うことにより、低温でしかも短時間に収率
よくハロゲン化を進行させ、さらに化合物（Ｉ）が、ハ
ロゲン化剤あるいは酸に対して不安定な官能基を有して
いてもそれらを損う事なく、目的の部位のハロゲン化を
行い得るという特長を有する◇ 本発明により製造される化合物値）は、式（ｔおよびが
は水素原子またはアミノ基の保護基を示す）で表わされ
る化合物と反応させ、要すれ １ば保護基
を除去することにより、式 で表わされる化合物を製造するための有用な合成中間体
であって、得られる化合物はセフテロスポリン化合物等
を製造するのに有用である。
ロゲン化を行うことにより、低温でしかも短時間に収率
よくハロゲン化を進行させ、さらに化合物（Ｉ）が、ハ
ロゲン化剤あるいは酸に対して不安定な官能基を有して
いてもそれらを損う事なく、目的の部位のハロゲン化を
行い得るという特長を有する◇ 本発明により製造される化合物値）は、式（ｔおよびが
は水素原子またはアミノ基の保護基を示す）で表わされ
る化合物と反応させ、要すれ １ば保護基
を除去することにより、式 で表わされる化合物を製造するための有用な合成中間体
であって、得られる化合物はセフテロスポリン化合物等
を製造するのに有用である。
実施例１
エチル ４−クロロ−２−メトキシイミノ−８−オキソ
ブチレート 〔工程ｌ〕 エチル ２−メトキシイミノ−８−モルホリノ−８−ブ
テノエート エチル ２−メトキシイミノ−８−オキソブチレート１
ｇを無水ジクロルメタン８０−に溶解し水冷下、モルホ
リン３ｇを加え、ついで窒素気流下に四塩化チタン０．
３８−を含む無水ジクロルメタンｌＯ−を満願する。満
願後、反応温度を室温まで上昇させ、４．５時間攪拌し
た後、不溶物をセライト濾過により除き、濾液を濃縮乾
固する。残渣に無水ベンゼンを加え、不溶物を濾去後、
濾液を濃縮乾固することにより標記化合物１．４１ｇを
得たＯ Ｎ Ｍ Ｒ（ＯＤＯｌＭ ）δ： ＩＪ ２ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）２．９００１
，１） Ｌ６８（４Ｈ，ｍ） ８．９２（８１（、ｓ） ４．２８ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８
５（ＩＨ，ｓ） ４．６０（ＩＨ，ｇ） 〔工程２〕 エチル ４−クロロ−２−メトキシイミノ−８−オキソ
ブチレート 〔工程１〕で得た化合物１．４１ｇを無水ジクロルメタ
ン８０−に溶解し、水冷下Ｎ−クロルコハク酸イミド９
２５”９を溶解した無水ジクロルメタン溶液２０−を満
願する。氷冷下８時間攪拌した後、２０％酢酸溶液２０
−を加え１時間激しく攪拌する。ジクロルメタンで希釈
後、有機層を分離し水、飽和重曹水、水の順で洗浄し、
無水硫酸すトリウムで乾燥後濃縮乾固する。残渣をベン
ゼンを溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精製し
１標記化合物９６０ｍ９を得た。
ブチレート 〔工程ｌ〕 エチル ２−メトキシイミノ−８−モルホリノ−８−ブ
テノエート エチル ２−メトキシイミノ−８−オキソブチレート１
ｇを無水ジクロルメタン８０−に溶解し水冷下、モルホ
リン３ｇを加え、ついで窒素気流下に四塩化チタン０．
３８−を含む無水ジクロルメタンｌＯ−を満願する。満
願後、反応温度を室温まで上昇させ、４．５時間攪拌し
た後、不溶物をセライト濾過により除き、濾液を濃縮乾
固する。残渣に無水ベンゼンを加え、不溶物を濾去後、
濾液を濃縮乾固することにより標記化合物１．４１ｇを
得たＯ Ｎ Ｍ Ｒ（ＯＤＯｌＭ ）δ： ＩＪ ２ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）２．９００１
，１） Ｌ６８（４Ｈ，ｍ） ８．９２（８１（、ｓ） ４．２８ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８
５（ＩＨ，ｓ） ４．６０（ＩＨ，ｇ） 〔工程２〕 エチル ４−クロロ−２−メトキシイミノ−８−オキソ
ブチレート 〔工程１〕で得た化合物１．４１ｇを無水ジクロルメタ
ン８０−に溶解し、水冷下Ｎ−クロルコハク酸イミド９
２５”９を溶解した無水ジクロルメタン溶液２０−を満
願する。氷冷下８時間攪拌した後、２０％酢酸溶液２０
−を加え１時間激しく攪拌する。ジクロルメタンで希釈
後、有機層を分離し水、飽和重曹水、水の順で洗浄し、
無水硫酸すトリウムで乾燥後濃縮乾固する。残渣をベン
ゼンを溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精製し
１標記化合物９６０ｍ９を得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（（ＤＣ！！ ）δ：
１．８２ （３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．１０（８
Ｈ，ｓ） ４．３２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）４．５４
（２Ｈ，Ｓ ） 実施例２ エチル ４−クロロ−２−（エトキシカルボニルメトキ
シイミノ）−８−オキソブチレート〔工程１〕 エチル ２−（エトキシカルボニルメトキシイミノ）−
８−オキソブチレート エチル ２−ハイドロキシイミノ−８−オキソプチレー
）５ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１５１ｔｔに溶
解し、これに水冷下戻酸カリウム１１．８９を加え３０
分間攪拌した後、窒素気流下にブロモ酢酸エチル４．５
５−を滴加する。反応温度を室温にもどし８時間攪拌後
、不溶物−を濾去し濾液を氷水１０〇−中に注ぎ込み、
酢酸エチルで抽出する。有機層を水、飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮乾固して得ら
れる油状物を、ベンゼンを溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクロマトで精製し、標記化合物６．２９を得たＯ ＮＭＲ（ＯＤＣ４１）δ： １−２９ （８Ｈ＝ ｔ＊ Ｊ−’ｌ Ｈｚ ）１．８
８ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）Ｌ８７（８Ｈ，ｓ） ４．２２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８
２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．７５（２
Ｈ，り 〔工程２〕 エチル ２−（エトキシカルボニルメトキシイミノ）−
８−モルホリノ−８−ブテノエート〔工程１〕で得た化
合物１ｇを無水ジクロルメ １タン２０−に
溶解し、ついでモルホリン２．１８ｇを加え０℃に冷却
する。この溶液に、窒素気流下四塩化チタン０．２７−
を含む無水ジクロルメタン１０−を満願後、室温にもど
して４．５時間攪拌を続けた後、不溶物をセライト濾過
により除き濾液を濃縮乾固する。残渣に無水ベンゼンを
加え、再び不溶物を濾去し、濾液を濃縮乾固することに
より標記化合物１．２９２を得た。
Ｈ，ｓ） ４．３２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）４．５４
（２Ｈ，Ｓ ） 実施例２ エチル ４−クロロ−２−（エトキシカルボニルメトキ
シイミノ）−８−オキソブチレート〔工程１〕 エチル ２−（エトキシカルボニルメトキシイミノ）−
８−オキソブチレート エチル ２−ハイドロキシイミノ−８−オキソプチレー
）５ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１５１ｔｔに溶
解し、これに水冷下戻酸カリウム１１．８９を加え３０
分間攪拌した後、窒素気流下にブロモ酢酸エチル４．５
５−を滴加する。反応温度を室温にもどし８時間攪拌後
、不溶物−を濾去し濾液を氷水１０〇−中に注ぎ込み、
酢酸エチルで抽出する。有機層を水、飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮乾固して得ら
れる油状物を、ベンゼンを溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクロマトで精製し、標記化合物６．２９を得たＯ ＮＭＲ（ＯＤＣ４１）δ： １−２９ （８Ｈ＝ ｔ＊ Ｊ−’ｌ Ｈｚ ）１．８
８ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）Ｌ８７（８Ｈ，ｓ） ４．２２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８
２ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．７５（２
Ｈ，り 〔工程２〕 エチル ２−（エトキシカルボニルメトキシイミノ）−
８−モルホリノ−８−ブテノエート〔工程１〕で得た化
合物１ｇを無水ジクロルメ １タン２０−に
溶解し、ついでモルホリン２．１８ｇを加え０℃に冷却
する。この溶液に、窒素気流下四塩化チタン０．２７−
を含む無水ジクロルメタン１０−を満願後、室温にもど
して４．５時間攪拌を続けた後、不溶物をセライト濾過
により除き濾液を濃縮乾固する。残渣に無水ベンゼンを
加え、再び不溶物を濾去し、濾液を濃縮乾固することに
より標記化合物１．２９２を得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣｊＤＯｊｓ ）δ：
１．２６ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）１．３８ （
３Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ） ４．１６ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．１
１（２Ｈ，人Ｂｑ、、Ｊ−７Ｈｚ ）４．３７（ＩＨ，
ｓ） ４．６２（２Ｈ，ｓ） ４．７ａ（ＩＨ，ｓ） 〔工程８〕 エチル ４−クロロ−２−（エトキシカルボニルメトキ
シイミノ）−８−オキソブチレート〔工程２〕で得た化
合物１．２９９を無水ジクロルメタン１５−に溶解した
溶液に、水冷下Ｎ−クロルコハク酸イミＦ６５４１ｍｇ
を溶解した無水ジクロルメタン溶液１５ｇＬｔを滴加す
る。同温で８時間攪拌後、２０％酢酸溶液１５−を加え
１時間激しく攪拌し、ジクロルメタンで希釈した後有機
層を分離し、水、飽和重曹水、水の順で洗浄する。無水
硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮乾固して得られる油状物を
クロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラムクロマト
で精製し、標記化合物’７２０１９を得た。
３Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ） ４．１６ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．１
１（２Ｈ，人Ｂｑ、、Ｊ−７Ｈｚ ）４．３７（ＩＨ，
ｓ） ４．６２（２Ｈ，ｓ） ４．７ａ（ＩＨ，ｓ） 〔工程８〕 エチル ４−クロロ−２−（エトキシカルボニルメトキ
シイミノ）−８−オキソブチレート〔工程２〕で得た化
合物１．２９９を無水ジクロルメタン１５−に溶解した
溶液に、水冷下Ｎ−クロルコハク酸イミＦ６５４１ｍｇ
を溶解した無水ジクロルメタン溶液１５ｇＬｔを滴加す
る。同温で８時間攪拌後、２０％酢酸溶液１５−を加え
１時間激しく攪拌し、ジクロルメタンで希釈した後有機
層を分離し、水、飽和重曹水、水の順で洗浄する。無水
硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮乾固して得られる油状物を
クロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラムクロマト
で精製し、標記化合物’７２０１９を得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（０ＤＣ１３）δ：
１．２８ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−’ＩＨｚ ）１．８８
（８Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７Ｈｚ ）４、ｆｆｉ ２ （２Ｈ
，ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ）４．８４ （２Ｈ，ＡＢ
ｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．５１（２Ｈ，！ｌ） ４．７６（ｇＨ，Ｂ） 実施例８ エチル ４−クロロ−２−（４−メトキシベンジルオキ
シイミノ）−３−オキソブチレート〔工程ｌ〕 エチル ２−（４−メトキシベンジルオキシイミノ）−
８−オキソブチレート エチル ２−ハイドロキシイミノ−８−オキソブチレー
ト５ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド８０−に加え、
さらに炭酸カリウム４．８９を加え０℃に冷却して８０
分間攪拌する。この溶液にｐ−メトキシベンジルクロラ
イド４．９２ｇを同温で滴加した後、室温で１０時間攪
拌する。不溶物を濾過により除き、濾液を濃縮乾固した
後残液をベンゼンで抽出し、水洗復硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を濃縮乾固することにより標記化合物８．５
ｇを得た。
（８Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７Ｈｚ ）４、ｆｆｉ ２ （２Ｈ
，ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ）４．８４ （２Ｈ，ＡＢ
ｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．５１（２Ｈ，！ｌ） ４．７６（ｇＨ，Ｂ） 実施例８ エチル ４−クロロ−２−（４−メトキシベンジルオキ
シイミノ）−３−オキソブチレート〔工程ｌ〕 エチル ２−（４−メトキシベンジルオキシイミノ）−
８−オキソブチレート エチル ２−ハイドロキシイミノ−８−オキソブチレー
ト５ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド８０−に加え、
さらに炭酸カリウム４．８９を加え０℃に冷却して８０
分間攪拌する。この溶液にｐ−メトキシベンジルクロラ
イド４．９２ｇを同温で滴加した後、室温で１０時間攪
拌する。不溶物を濾過により除き、濾液を濃縮乾固した
後残液をベンゼンで抽出し、水洗復硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を濃縮乾固することにより標記化合物８．５
ｇを得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（ｃＤｃｔｓ ）δ：
ＩＪ ６ （３）１．ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）２Ｊ８（８Ｈ，
８） Ｌ７５ （８Ｈ，！ｌ ） ４．２６ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−’ｌＨｚ ）５．
１８（２Ｈ，ｓ） ６．８２ （２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）７．２８
（２Ｈ，＜ｌ、 Ｊ−９Ｈｚ ）〔工程２〕 エチル ２−（４−メトキシベンジルオキシイミノ）−
８−モルホリノ−８−ブテノエート〔工程１〕で得た化
合物１りを無水ジクロルメタン１０−に溶解した溶液を
０℃に冷却し、これにモルホリン１．８７９を加える。
８） Ｌ７５ （８Ｈ，！ｌ ） ４．２６ （２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−’ｌＨｚ ）５．
１８（２Ｈ，ｓ） ６．８２ （２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）７．２８
（２Ｈ，＜ｌ、 Ｊ−９Ｈｚ ）〔工程２〕 エチル ２−（４−メトキシベンジルオキシイミノ）−
８−モルホリノ−８−ブテノエート〔工程１〕で得た化
合物１りを無水ジクロルメタン１０−に溶解した溶液を
０℃に冷却し、これにモルホリン１．８７９を加える。
この溶液に四塩化チタンＱ、ｇ４ｇＬｔを含む無水ジク
ロルメタン１〇−を滴加した後、室温にもどして４．５
時間攪拌する。不溶物をセライト濾過により除き、濾液
を濃縮乾固、残渣を無水ベンゼンに溶解し不溶物を再び
濾失し、濾液の溶媒を留去することにより標記化合物を
１．２２ｇ得た。
ロルメタン１〇−を滴加した後、室温にもどして４．５
時間攪拌する。不溶物をセライト濾過により除き、濾液
を濃縮乾固、残渣を無水ベンゼンに溶解し不溶物を再び
濾失し、濾液の溶媒を留去することにより標記化合物を
１．２２ｇ得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣｊＤＯｌＭ ）δ：
１、！ ６ （３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）２．７５〜
２．９８（４Ｈ，ｍｕ） ８．５５〜８．７８（４Ｈ，ＩＩ） ８．７６（３Ｈ，ｓ） ４．２５ （２Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−’ＩＨｚ ）４
．１５２ （ＩＨ，ａ、 Ｊ−ＩＨ２）
＋４．５ Ｂ （ＩＨ，（１，Ｊ−ＩＨ
ｚ ）５．０５（２Ｈ，５ｓ） ６．７９ （ｆｉｌ、 ｄ、 Ｊ−９Ｈｚ ）７．１７
（２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）〔工程３〕 エチル ４−クロロ−２−（’４−メトキシベンジルオ
キシイミノ）−８−オキソブチレート〔工程２〕で得た
化合物１．２２ｇを無水ジクロルメタンｌＱｇＬｔに溶
解した溶液を一７８℃に冷却し、これにＮ−クロルコハ
ク酸イミド５２５■を溶解した無水ジクロルメタン２０
−を滴加した後同温で１時間攪拌を続ける。反応温度を
０℃に昇温し、２０％酢酸２０ｇＬｔを加え３０分間激
しく攪拌後、ジクロルメタンで希釈し有機層を分離し、
水、飽和重曹水、水の順で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、、溶媒を留去することにより標記化合物１．
１９を得た。
２．９８（４Ｈ，ｍｕ） ８．５５〜８．７８（４Ｈ，ＩＩ） ８．７６（３Ｈ，ｓ） ４．２５ （２Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−’ＩＨｚ ）４
．１５２ （ＩＨ，ａ、 Ｊ−ＩＨ２）
＋４．５ Ｂ （ＩＨ，（１，Ｊ−ＩＨ
ｚ ）５．０５（２Ｈ，５ｓ） ６．７９ （ｆｉｌ、 ｄ、 Ｊ−９Ｈｚ ）７．１７
（２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）〔工程３〕 エチル ４−クロロ−２−（’４−メトキシベンジルオ
キシイミノ）−８−オキソブチレート〔工程２〕で得た
化合物１．２２ｇを無水ジクロルメタンｌＱｇＬｔに溶
解した溶液を一７８℃に冷却し、これにＮ−クロルコハ
ク酸イミド５２５■を溶解した無水ジクロルメタン２０
−を滴加した後同温で１時間攪拌を続ける。反応温度を
０℃に昇温し、２０％酢酸２０ｇＬｔを加え３０分間激
しく攪拌後、ジクロルメタンで希釈し有機層を分離し、
水、飽和重曹水、水の順で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、、溶媒を留去することにより標記化合物１．
１９を得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＧＤＯＩｓ ）δ：
１．２７ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）８．７７（８
Ｈ，ｓ） ４．２９ （２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）４．４８（
２Ｈ，ｇ） ５．１７（２Ｈ８ｓ） ６．８８ （２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）？Ｊ Ｏ（
２Ｈ，ｄ、 Ｊ−９Ｈｚ ）実施例４ エチル ４−クロロ−ｇ−（（ｇ−オキソピロリジン−
８−イル）オキシイミノツー８−オキソブチレート 〔工程１〕 エチル ２−（（２−オキソピロリジン−８−イル）オ
キシイミノツー８−オキソブチレートエチル ２−ハイ
ドロキシイミノ−８−オキソブチレート８ｇをＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド２０−に加え、さらに炭酸カリウ
ム１１．５ｐを加え室温で８０分間攪拌する。この反応
液に８−クロロ−２−オキソピロリジン５９を加えた後
室温で１５時間攪拌を続ける。不溶物を濾過により除き
、濾液を濃縮乾固し、残渣に酢酸エチルと氷水を加え、
有機層を分離し水洗の後無水硫酸す）ＩＪウムで乾燥す
る。溶媒を濃縮乾固して得られる油状物を、ベンゼン−
酢酸エチル（？−８）を溶媒系とするシリカゲルカラム
クルマドで精製し、融点９０〜９１°Ｃの標記化合物８
．１９を得た０元素分析 Ｃ１６Ｈ１４Ｎ肉に対する 計算値 Ｃ４９，５８，Ｈ５，８８，Ｎ １１−５７実
測値 Ｃ４９，６４，Ｈ５，６９，Ｎ ＩＬ５５１１４
０．１７１５．１６９０（ｓｈ）、１６００゜１１５０
．１０６Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤ（３１ｓ ）δ： １．８ ！ （８１（、ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ）２．００
〜２．８０ （２Ｈ，ｍ ） Ｌ４０（８Ｈ，５ｓ） ａ、ｇ ５〜８．５５ （２Ｈ，ｍ ）４．８２ （２
Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−’ｌＨｚ ）４．９４ （ＩＭ
、 ＋１１１． Ｊ−７Ｈｚと８Ｈ２）フ、５ｓ（ｘｕ
、ｂｒｓ） （工程２〕 エチル ８−モルホリノ−２−（（！−オキソピロリジ
ンー８−イル）オキシイミノ〕−８−ブテノエート 〔工程１〕で得た化合物１ｇを無水ジクロルメタンｌＱ
ｇＬｔに溶解し、０℃に冷却する。この反応液にモルホ
リン２．１６ｇを加えた後、四塩化チタン０．２７−を
含む無水ジクロルメタン１０１ｔｊを滴加する＠満願後
室温で５時間攪拌した後、セライト濾過により不溶物を
除き、濾液を濃縮乾固する。
Ｈ，ｓ） ４．２９ （２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）４．４８（
２Ｈ，ｇ） ５．１７（２Ｈ８ｓ） ６．８８ （２Ｈ，＋１． Ｊ−９Ｈｚ ）？Ｊ Ｏ（
２Ｈ，ｄ、 Ｊ−９Ｈｚ ）実施例４ エチル ４−クロロ−ｇ−（（ｇ−オキソピロリジン−
８−イル）オキシイミノツー８−オキソブチレート 〔工程１〕 エチル ２−（（２−オキソピロリジン−８−イル）オ
キシイミノツー８−オキソブチレートエチル ２−ハイ
ドロキシイミノ−８−オキソブチレート８ｇをＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド２０−に加え、さらに炭酸カリウ
ム１１．５ｐを加え室温で８０分間攪拌する。この反応
液に８−クロロ−２−オキソピロリジン５９を加えた後
室温で１５時間攪拌を続ける。不溶物を濾過により除き
、濾液を濃縮乾固し、残渣に酢酸エチルと氷水を加え、
有機層を分離し水洗の後無水硫酸す）ＩＪウムで乾燥す
る。溶媒を濃縮乾固して得られる油状物を、ベンゼン−
酢酸エチル（？−８）を溶媒系とするシリカゲルカラム
クルマドで精製し、融点９０〜９１°Ｃの標記化合物８
．１９を得た０元素分析 Ｃ１６Ｈ１４Ｎ肉に対する 計算値 Ｃ４９，５８，Ｈ５，８８，Ｎ １１−５７実
測値 Ｃ４９，６４，Ｈ５，６９，Ｎ ＩＬ５５１１４
０．１７１５．１６９０（ｓｈ）、１６００゜１１５０
．１０６Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤ（３１ｓ ）δ： １．８ ！ （８１（、ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ）２．００
〜２．８０ （２Ｈ，ｍ ） Ｌ４０（８Ｈ，５ｓ） ａ、ｇ ５〜８．５５ （２Ｈ，ｍ ）４．８２ （２
Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−’ｌＨｚ ）４．９４ （ＩＭ
、 ＋１１１． Ｊ−７Ｈｚと８Ｈ２）フ、５ｓ（ｘｕ
、ｂｒｓ） （工程２〕 エチル ８−モルホリノ−２−（（！−オキソピロリジ
ンー８−イル）オキシイミノ〕−８−ブテノエート 〔工程１〕で得た化合物１ｇを無水ジクロルメタンｌＱ
ｇＬｔに溶解し、０℃に冷却する。この反応液にモルホ
リン２．１６ｇを加えた後、四塩化チタン０．２７−を
含む無水ジクロルメタン１０１ｔｊを滴加する＠満願後
室温で５時間攪拌した後、セライト濾過により不溶物を
除き、濾液を濃縮乾固する。
残渣に無水ベンゼンを加え、再び濾過により不溶物を除
いた後に濃縮乾固することにより標記化合物１．３ｓ得
た。
いた後に濃縮乾固することにより標記化合物１．３ｓ得
た。
Ｎ Ｍ Ｒ（０Ｄ（５ｋ ）δ；
１．８０ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．２７ （
２Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８５（ＩＨ，
ｓ） ４．５６（１１（，８） ６．７５ （１１，ｔ、 Ｊ−７，５Ｈｚ ）〔工程８
〕 エチル ４−クロロ−２−（（２−オキソピロリジン−
８−イル）オキシイミノツー８−オキソ 汀
ブチレート 〔工程２〕で得た化合物１．８２を無水ジクロルメタン
１０−に溶解した溶液を一７８℃に冷却し、これにＮ−
クロルコハク酸イミド６６０■を含む無水ジクロルメタ
ン１５−を滴加した後同温で１時間攪拌を続ける。反応
温度を０℃に昇温し、ｚθ％酢醸溶液２０−を加えて８
０分間激しく攪拌した後、ジクロルメタンで希釈し有機
層を分離する。有機層を水、飽和重曹水、水の順で洗浄
後無水硫醗ナトリウムで乾燥し、濃縮乾固して得られる
残渣をクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラムク
ロマトで精製し、融点９６〜９７℃の標記化合物８２０
■を得た。
２Ｈ，ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８５（ＩＨ，
ｓ） ４．５６（１１（，８） ６．７５ （１１，ｔ、 Ｊ−７，５Ｈｚ ）〔工程８
〕 エチル ４−クロロ−２−（（２−オキソピロリジン−
８−イル）オキシイミノツー８−オキソ 汀
ブチレート 〔工程２〕で得た化合物１．８２を無水ジクロルメタン
１０−に溶解した溶液を一７８℃に冷却し、これにＮ−
クロルコハク酸イミド６６０■を含む無水ジクロルメタ
ン１５−を滴加した後同温で１時間攪拌を続ける。反応
温度を０℃に昇温し、ｚθ％酢醸溶液２０−を加えて８
０分間激しく攪拌した後、ジクロルメタンで希釈し有機
層を分離する。有機層を水、飽和重曹水、水の順で洗浄
後無水硫醗ナトリウムで乾燥し、濃縮乾固して得られる
残渣をクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラムク
ロマトで精製し、融点９６〜９７℃の標記化合物８２０
■を得た。
元素分析 ＣｔｏｌｔｘＮｚＯｓ（Ｊに対する計算値
０４３．４１． Ｈ４，７８，Ｎ １０．１２．
Ｃｌ １２．８１実測値 ａ ４ｓ、ｍ４． Ｈ４，
５９，Ｎ １０．１９． Ｃ１ｌ＆）７１７４０．１
フ１５，１６００．１２８０．１０８ＯＮＭｎ（ｃ１０
８ＯＮδ： １．８５ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７，２Ｈｚ ）２．１０
〜Ｌ８０ （２１（、ｆｉ ）８．８０〜３．５８（！
Ｈ，ｍ） ４．８９ （２）１． ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｊ Ｈｚ
）４．５９（２Ｈ，ｓ） ４．９９（ＩＨ，！己、Ｊ−７Ｈｚと８Ｈｚ）６．６５
（ＩＨ，ｂｒ、 ｔｓ ） 参考例１ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（エト
キシカルボニルメトキシイミノ）酢酸エチル 実施例２で得た化合物８６０１１９をエタノール１−に
溶解し、チオ尿素１１２■を加えた後、室温で８時間攪
拌する。氷水１５−を加え、重曹にて液性を弱アルカリ
性とした後酢醗エチルで抽出。
０４３．４１． Ｈ４，７８，Ｎ １０．１２．
Ｃｌ １２．８１実測値 ａ ４ｓ、ｍ４． Ｈ４，
５９，Ｎ １０．１９． Ｃ１ｌ＆）７１７４０．１
フ１５，１６００．１２８０．１０８ＯＮＭｎ（ｃ１０
８ＯＮδ： １．８５ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７，２Ｈｚ ）２．１０
〜Ｌ８０ （２１（、ｆｉ ）８．８０〜３．５８（！
Ｈ，ｍ） ４．８９ （２）１． ＡＢｑ、 、 Ｊ−７Ｊ Ｈｚ
）４．５９（２Ｈ，ｓ） ４．９９（ＩＨ，！己、Ｊ−７Ｈｚと８Ｈｚ）６．６５
（ＩＨ，ｂｒ、 ｔｓ ） 参考例１ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（エト
キシカルボニルメトキシイミノ）酢酸エチル 実施例２で得た化合物８６０１１９をエタノール１−に
溶解し、チオ尿素１１２■を加えた後、室温で８時間攪
拌する。氷水１５−を加え、重曹にて液性を弱アルカリ
性とした後酢醗エチルで抽出。
水洗後無水硫酸す）９ウムで乾燥し、濃縮乾固して得ら
れる油状物をクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカ
ラムクロマトで精製することにより、標記化合物２５０
■を得た。
れる油状物をクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカ
ラムクロマトで精製することにより、標記化合物２５０
■を得た。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｊｓ ）δ：
１２８ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）１．８６ （８
Ｂ、 ｔ、 Ｊ−７）！ｚ ）４．１８ （２Ｈ，ＡＢ
ｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８７ （２８，ＡＢｑ、
、 Ｊ−ＩＨｚ ）４．６６（２Ｈ，ｓ） ５．７９（２Ｈ，ｂｒ、ｓ） ６．６５（ｌＨ，ｓ） 参考例２ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−４−（メト
キシベンジルオキシイミノ）酢酸エチル実施例８で得ら
れた化合物１．１９をエタノール７−に溶解し、これに
チオ尿素３２０■を加え、室温で６時間攪拌する。氷水
ＩＱｇＬｔを加えた後、重曹を加えて液性を弱アルカリ
性となし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗後乾燥
し、濃縮乾固して得られる油状物をクロロホルムを溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトで精製することによ
り、融点１４５℃の標記化合物？５Ｇ”９を得た。
Ｂ、 ｔ、 Ｊ−７）！ｚ ）４．１８ （２Ｈ，ＡＢ
ｑ、 、 Ｊ−７Ｈｚ ）４．８７ （２８，ＡＢｑ、
、 Ｊ−ＩＨｚ ）４．６６（２Ｈ，ｓ） ５．７９（２Ｈ，ｂｒ、ｓ） ６．６５（ｌＨ，ｓ） 参考例２ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−４−（メト
キシベンジルオキシイミノ）酢酸エチル実施例８で得ら
れた化合物１．１９をエタノール７−に溶解し、これに
チオ尿素３２０■を加え、室温で６時間攪拌する。氷水
ＩＱｇＬｔを加えた後、重曹を加えて液性を弱アルカリ
性となし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗後乾燥
し、濃縮乾固して得られる油状物をクロロホルムを溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトで精製することによ
り、融点１４５℃の標記化合物？５Ｇ”９を得た。
元素分析 ＣｔｓＨ＋ｙＮａ８０ｎに対する計算値 ０
５１７ｇ、 Ｈ５，１１，Ｎ １１５８実測値 ０５
８．６４． Ｈ５，１４，Ｎ １１４６８４２０．１
７ｇ０，１６０５． １１８０，１００ＯＮ Ｍ Ｒ（
ＣＤＣ７ａ ）δ： １．１０ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）８．７６（８
Ｈ，ｓ） ４．３２ （２Ｂ、ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）ｓ、ｏｙ（
ｇａ、ｓ） ５．８０ （２）１． ｂｒ、８ ） 、 ６．５２（
ＩＨ，８）６−８８ （ｌ）！、 ａ、ｒ−９Ｈｚ）
、 ７．２０ （２Ｈ，（１，、Ｔ−９Ｈｚ）参考例８ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
オキソビ四すジンーδ−イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ル チオ尿素１６５ｑを水１−とエタノール１ｇｔの混合溶
媒に溶解し、これに酢酸ナトリウム１９８■を加え０℃
に冷却する。攪拌下に実施側番で得た化合物５ｏｏｑを
エタノール８ｄ、テ）ラヒドロ７ラン８ｇＬｔの混合溶
媒に溶解した溶液を加える。
５１７ｇ、 Ｈ５，１１，Ｎ １１５８実測値 ０５
８．６４． Ｈ５，１４，Ｎ １１４６８４２０．１
７ｇ０，１６０５． １１８０，１００ＯＮ Ｍ Ｒ（
ＣＤＣ７ａ ）δ： １．１０ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ ）８．７６（８
Ｈ，ｓ） ４．３２ （２Ｂ、ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）ｓ、ｏｙ（
ｇａ、ｓ） ５．８０ （２）１． ｂｒ、８ ） 、 ６．５２（
ＩＨ，８）６−８８ （ｌ）！、 ａ、ｒ−９Ｈｚ）
、 ７．２０ （２Ｈ，（１，、Ｔ−９Ｈｚ）参考例８ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
オキソビ四すジンーδ−イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ル チオ尿素１６５ｑを水１−とエタノール１ｇｔの混合溶
媒に溶解し、これに酢酸ナトリウム１９８■を加え０℃
に冷却する。攪拌下に実施側番で得た化合物５ｏｏｑを
エタノール８ｄ、テ）ラヒドロ７ラン８ｇＬｔの混合溶
媒に溶解した溶液を加える。
室温で６時間攪拌を続けた後、反応液を氷冷し水”ｏ′
ｅｍえ１後鷺重曹２加、ｔ”ｃ−＊ａｔ′弱７″１カリ
性とし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水、飽和食塩
水で洗浄した後乾燥し溶媒留去し、残渣に少量のエタノ
ールを加え結晶化させることにより融点１６８〜１６４
”Ｃの標記化合物８９５１９を得た０ 元素分析 Ｃ凰ＩＨ１４Ｎ４ＳＱ１に対する計算値 Ｃ
４４２９，Ｈ４，７Ｂ、 Ｎ １８．７８実測値 Ｃ
４４Ｊａ、 Ｈ４６９，Ｎ １８．フ１８２７５．１
７２０，１６８０，１５２５，１０４１０４０ＦＴ−Ｎ
９０ＭＨｚ、 （ＤＣｊｘ）δ：１．３７ （ａＨ，
ｔ、 Ｊ−’１．２Ｈｚ ）２．１０〜２．７０（２Ｈ
，！１１） ８．２５〜８．５７ （２Ｈ，ｍ ） ４．４ ２ （２）！、 ＡＢｑ、、Ｊ−７，２Ｈ
２）４．８８ （ＩＨ，＋１＋１． Ｊ−７Ｈ４と８Ｈ
ｚ）６．２９（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） ６．６６（ＩＨ，ｓ）
ｅｍえ１後鷺重曹２加、ｔ”ｃ−＊ａｔ′弱７″１カリ
性とし、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水、飽和食塩
水で洗浄した後乾燥し溶媒留去し、残渣に少量のエタノ
ールを加え結晶化させることにより融点１６８〜１６４
”Ｃの標記化合物８９５１９を得た０ 元素分析 Ｃ凰ＩＨ１４Ｎ４ＳＱ１に対する計算値 Ｃ
４４２９，Ｈ４，７Ｂ、 Ｎ １８．７８実測値 Ｃ
４４Ｊａ、 Ｈ４６９，Ｎ １８．フ１８２７５．１
７２０，１６８０，１５２５，１０４１０４０ＦＴ−Ｎ
９０ＭＨｚ、 （ＤＣｊｘ）δ：１．３７ （ａＨ，
ｔ、 Ｊ−’１．２Ｈｚ ）２．１０〜２．７０（２Ｈ
，！１１） ８．２５〜８．５７ （２Ｈ，ｍ ） ４．４ ２ （２）！、 ＡＢｑ、、Ｊ−７，２Ｈ
２）４．８８ （ＩＨ，＋１＋１． Ｊ−７Ｈ４と８Ｈ
ｚ）６．２９（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） ６．６６（ＩＨ，ｓ）
Claims (2)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を二級アミンと処理して式▲数式、
化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を製し、このものをハロゲン化剤と
反応させることを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物およびその塩の製法。ただし式中Ｒ
＾１は水素またはカルボキシル基の保護基を意味する。 Ｒ＾２は低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニ
ル、シクロアルキル、シクロアルケニルまたは四乃至七
員の含窒素複素環を意味し、これらはハロゲン、低級ア
ルキルチオ、アリール、アリールオキシ、シアノ、カル
バモイル、アルカンスルホニル、カルボキシル、保護さ
れたカルボキシルまたはオキソ基で置換されてもよい。 Ｒ＾３とＲ＾４は同一または異なって、それぞれ低級ア
ルキルを意味するか、あるいはＲ＾３とＲ＾４がそれら
が結合している窒素原子と一緒になって環状アミノ基を
形成する。この環状アミノ基は一個の窒素原子以外にさ
らにヘテロ原子を環内に有してもよい。Ｘ＾１は水素ま
たはハロゲンを、Ｘ＾２はハロゲンを意味する。 - （２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１は水素またはカルボキシル基の保護基を意
味し、Ｒ＾２はオキソ基で置換された四乃至七員の含窒
素複素環を意味し、Ｘ＾１は水素またはハロゲンを、Ｘ
＾２はハロゲンを意味する）で表わされる化合物および
その塩
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010498A JPS61171464A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010498A JPS61171464A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61171464A true JPS61171464A (ja) | 1986-08-02 |
Family
ID=11751855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60010498A Pending JPS61171464A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61171464A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55147290A (en) * | 1976-01-23 | 1980-11-17 | Roussel Uclaf | Novel oxime derivative of 77aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid* its manufacture and pharmaceutic composition |
| JPS56125392A (en) * | 1980-03-06 | 1981-10-01 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Cepham and cephem compound and preparation thereof |
| JPS5951292A (ja) * | 1982-08-07 | 1984-03-24 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セファロスポリン化合物 |
| JPS59155391A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-04 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 新規セファロスポリン誘導体 |
-
1985
- 1985-01-23 JP JP60010498A patent/JPS61171464A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55147290A (en) * | 1976-01-23 | 1980-11-17 | Roussel Uclaf | Novel oxime derivative of 77aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid* its manufacture and pharmaceutic composition |
| JPS5762288A (en) * | 1976-01-23 | 1982-04-15 | Roussel Uclaf | Novel oxime derivative of 7-aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid, manufacture and pharmaceutical composition |
| JPS56125392A (en) * | 1980-03-06 | 1981-10-01 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Cepham and cephem compound and preparation thereof |
| JPS5951292A (ja) * | 1982-08-07 | 1984-03-24 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セファロスポリン化合物 |
| JPS59155391A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-04 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 新規セファロスポリン誘導体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6180705B2 (ja) | ハロゲン化環式化合物の合成方法 | |
| JPH0149271B2 (ja) | ||
| EP0162395B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Cephalosporinen | |
| JP2964041B2 (ja) | フエニル―１ジエチルアミノカルボニル―１フタールイミドメチル―２シクロプロパンｚの新規な製造方法 | |
| CN1072213C (zh) | 胍衍生物的制备方法及其中间体 | |
| CN100381430C (zh) | 取代的烷基胺或其盐的生产方法 | |
| JPS61171464A (ja) | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 | |
| EP0117872B1 (en) | Process for preparing cephalosporin compounds | |
| JP3253245B2 (ja) | グアニジン誘導体の製造法、新規中間体およびその製造法 | |
| JPS63258442A (ja) | テトラフルオロフタル酸の製造方法 | |
| HU222621B1 (hu) | Piridin-karbonsav-amidok és -észterek, valamint eljárás elõállításukra | |
| JPS6236366A (ja) | ２−シアノアミノ−ピリミジン誘導体の製造方法 | |
| JPH0140833B2 (ja) | ||
| JPS5944312B2 (ja) | インダゾ−ル誘導体の製法 | |
| EP0117875B1 (en) | Process for preparing azetidinone derivatives | |
| US20020062026A1 (en) | Method for preparing N-methyleneglycinates | |
| JP3942686B2 (ja) | α−（アシルイミノ）−ベンジルスルホキシド又はα−（アシルイミノ）−ベンジルスルホン類 | |
| JP4425366B2 (ja) | Ｎ−ベンジル−３−ヒドロキシアゼチジンの製造法 | |
| JPH08208591A (ja) | ２−アミノベンゼンスルホン酸誘導体ならびに２−アミノベンゼンスルホニルクロリド誘導体とその製造法およびその合成中間体としての使用 | |
| JPS643190B2 (ja) | ||
| JP2525013B2 (ja) | 新規結晶性セファロスポリン誘導体 | |
| JPH05221947A (ja) | シクロプロパン誘導体の製法 | |
| JPH10287650A (ja) | １−クロロカルボニル−４−ピペリジノピペリジンまたはその塩酸塩の製造方法 | |
| HU190449B (en) | Process for production of derivatives of acetid acid substituated by phosphorus | |
| JPS61130273A (ja) | α−オキシイミノ酪酸誘導体およびその製法 |