JPS643190B2 - - Google Patents
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- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
- C07D205/095—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
本発明は、新規なアゼチジノン誘導体に関す
る。 本発明のアゼチジノン誘導体は、文献未記載の
新規化合物であつて、一般式 〔式中R1は、フエニル基又はフエノキシ基を
示す。R2は基
る。 本発明のアゼチジノン誘導体は、文献未記載の
新規化合物であつて、一般式 〔式中R1は、フエニル基又はフエノキシ基を
示す。R2は基
【式】又は基
【式】を示す。ここでR6はカルボキ
シル基の保護基を、Z1は水素原子、ハロゲン原子
又は１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール
―５―イルチオ基を、Z2は水素原子をそれぞれ示
す。
又は１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール
―５―イルチオ基を、Z2は水素原子をそれぞれ示
す。
【式】は基Ｃ＝Ｏ又は基Ｃ＝Ｎ―
OR3（R3は低級アルキル基）を示す。またX1及び
X2の一方又は両者が水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、アセトキシ基、フエニルチオ基又はペン
タクロロフエニルチオ基であつてもよい。R5は
窒素原子及び／又は硫黄原子含有の５員の複素環
基を示し、該複素環基には低級アルキル基が結合
していてもよく、置換もしくは未置換のフエニル
環が縮合していてもよい。但しX1及びX2が共に
水素原子であることはない。〕 本発明のアゼチジノン誘導体（）は、文献未
記載の新規化合物である。従来、X1＝X2＝Ｈで
ある化合物に関しては、多数の合成法が確立され
ているが、X1，X2に官能基を有する化合物につ
いての合成例はない。一般式（）で表わされる
アゼチジノン誘導体は、例えば下記反応式によつ
て７位アミド基に必要な官能基を有するセフアロ
スポリン誘導体に変換できる重要な合成中間体で
ある。 一般に、抗菌作用を有し抗菌剤として有用なセ
フアロスポリン化合物は、７位アミド側鎖上にア
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基などの官能基を
有するものが多いが、従来これらの官能基を有す
るアミド側鎖を導入するために、７位のアミド基
の脱アシル化を行い、一旦アミンに変換したの
ち、
X2の一方又は両者が水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、アセトキシ基、フエニルチオ基又はペン
タクロロフエニルチオ基であつてもよい。R5は
窒素原子及び／又は硫黄原子含有の５員の複素環
基を示し、該複素環基には低級アルキル基が結合
していてもよく、置換もしくは未置換のフエニル
環が縮合していてもよい。但しX1及びX2が共に
水素原子であることはない。〕 本発明のアゼチジノン誘導体（）は、文献未
記載の新規化合物である。従来、X1＝X2＝Ｈで
ある化合物に関しては、多数の合成法が確立され
ているが、X1，X2に官能基を有する化合物につ
いての合成例はない。一般式（）で表わされる
アゼチジノン誘導体は、例えば下記反応式によつ
て７位アミド基に必要な官能基を有するセフアロ
スポリン誘導体に変換できる重要な合成中間体で
ある。 一般に、抗菌作用を有し抗菌剤として有用なセ
フアロスポリン化合物は、７位アミド側鎖上にア
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基などの官能基を
有するものが多いが、従来これらの官能基を有す
るアミド側鎖を導入するために、７位のアミド基
の脱アシル化を行い、一旦アミンに変換したの
ち、
【式】基を導入する方法がとられてい
る。しかし本発明のアゼチジノン誘導体（）
は、すでにこれらの必要な官能基を持つたアミド
基を有するため、上記反応式に示したように一挙
に必要な官能基をすべて有しているセフアロスポ
リン化合物に変換される。 すなわち、本発明の目的は、アミド側鎖上に官
能基を有する一般式（）で表わされる新規なア
ゼチジノン誘導体を提供するにある。 即ち本発明によれば目的化合物（）は、一般
式 〔式中R1，R2，X1及びX2は前記に同じ。〕で
表わされるチアゾリノアゼチジノン誘導体と一般
式 R5―Ｓ―Ｓ―R5 ……(v) 〔式中R5は前記に同じ。〕で表わされるジスル
フイドとを酸の存在下含水有機溶媒中反応させて
製造される。 本明細書において、R3で示される低級アルキ
ル基としては、具体的にはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソブチル基、三級ブチル基等を例
示できる。R6で示されるカルボキシル基の保護
基としては、具体的にはベンジル基、パラニトロ
ベンジル基、パラメトキシベンジル基、ジフエニ
ルメチル基、トリフエニルメチル基等のフエニル
メチル基、フエノキシメチル基、パラニトロフエ
ノキシメチル基、パラメトキシフエノキシメチル
基等のフエニルオキシメチル基、メチル基、エチ
ル基、三級ブチル基、２―クロロエチル基、２，
２，２―トリクロロエチル基等の置換もしくは未
置換の低級アルキル基等を例示できる。Z1，X1
及びX2で示されるハロゲン原子としては、塩素
原子、臭素原子、弗素原子等を例示できる。R5
で示される上記複素環基としては、具体的には２
―ベンゾチアゾリル基、１，３，４―チアジアゾ
ール―２―イル基、５―メチル―１，３，４―チ
アジアゾール―２―イル基、５―フエニル―１，
３，４―チアジアゾール―２―イル基、１，２，
３，４―テトラゾール―５―イル基、１―メチル
―１，２，３，４―テトラゾール―５―イル基、
１―フエニル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イル基、ベンズイミダゾール基等を例示でき
る。 原料物質（）は、例えば一般式（） 〔式中R1及びR6は前記に同じ。〕で表わされる
チアゾリノアゼチジノン誘導体から既報の方法
〔例えばTetrahedron Letter，3193（1981）〕によ
つて得られる化合物又はそれから公知の方法など
を採用して製造することができる。 化合物（）と化合物（）との使用割合とし
ては、特に限定はなく広い範囲内で適宜選択でき
るが、通常前者に対して後者を１〜10倍モル程
度、好ましくは１〜２倍モル用いるのがよい。 本発明の反応は、含水有機溶媒中酸の存在下行
われる。用いる含水有機溶媒中に占める水の量と
しては、特に限定はないが、通常化合物（）に
対して１〜1000当量、好ましくは10〜500当量程
度用いるのがよい。用いられる有機溶媒として
は、例えばペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トル
エンなどの炭化水素類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジエチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類、メタノー
ル、エタノール、ブタノール、エチレングリコー
ルなどのアルコール類、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸などのカルボン酸類、アセトニトリル、ベンゾ
ニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類、ニトロ
メタン、ニトロエタンなどのニトロ炭化水素類、
アセトン、シクロヘキサンなどのケトン類などの
一種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち
好ましくはエーテル、ケトン、アルコール、アミ
ド、スルホキシドなどの親水性の極性溶媒やこれ
ら親水性溶媒を含む混合溶媒が用いられる。用い
る溶媒の量としては、出発物質（）やジスルフ
イド（）の種類により一定しないが、通常基質
（）に対して１〜1000部、好ましくは２〜500部
用いられるのがよい。 酸としては、例えばハロゲン化水素、硫酸、硝
酸、リン酸、過塩素酸、塩素酸などの鉱酸、アル
カンスルホン酸、アリールスルホン酸、アラルキ
ルスルホン酸、α―ハロアルカンスルホン酸など
のスルホン酸、α―ハロカルボン酸、ポリカルボ
ン酸など、好ましくは解離恒数約0.01以上の酸を
用いることができる。特に、過塩素酸、トリフル
オロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、トリクロロメタンス
ルホン酸、塩酸、臭酸、硫酸、ふつ化水素酸、硝
酸、リン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸などの酸が効率よく利用できる。これら酸
の添加量としては、反応基質（）や用いる溶媒
の種類、反応温度により一定しないが、通常基質
に対して0.01〜50倍モル、好ましくは0.1〜10倍
モル程度用いるのがよい。 アゼチジノン環やアミノ保護基R2などの分解
による副反応が起きる場合には、酸の種類や濃
度、反応温度、反応時間などの条件を適宜選択す
ることにより高収率で目的化合物を製造できる。 上記反応は通常室温付近にて行なわれ、一般に
10分ないし３時間で反応は完結するが、
は、すでにこれらの必要な官能基を持つたアミド
基を有するため、上記反応式に示したように一挙
に必要な官能基をすべて有しているセフアロスポ
リン化合物に変換される。 すなわち、本発明の目的は、アミド側鎖上に官
能基を有する一般式（）で表わされる新規なア
ゼチジノン誘導体を提供するにある。 即ち本発明によれば目的化合物（）は、一般
式 〔式中R1，R2，X1及びX2は前記に同じ。〕で
表わされるチアゾリノアゼチジノン誘導体と一般
式 R5―Ｓ―Ｓ―R5 ……(v) 〔式中R5は前記に同じ。〕で表わされるジスル
フイドとを酸の存在下含水有機溶媒中反応させて
製造される。 本明細書において、R3で示される低級アルキ
ル基としては、具体的にはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソブチル基、三級ブチル基等を例
示できる。R6で示されるカルボキシル基の保護
基としては、具体的にはベンジル基、パラニトロ
ベンジル基、パラメトキシベンジル基、ジフエニ
ルメチル基、トリフエニルメチル基等のフエニル
メチル基、フエノキシメチル基、パラニトロフエ
ノキシメチル基、パラメトキシフエノキシメチル
基等のフエニルオキシメチル基、メチル基、エチ
ル基、三級ブチル基、２―クロロエチル基、２，
２，２―トリクロロエチル基等の置換もしくは未
置換の低級アルキル基等を例示できる。Z1，X1
及びX2で示されるハロゲン原子としては、塩素
原子、臭素原子、弗素原子等を例示できる。R5
で示される上記複素環基としては、具体的には２
―ベンゾチアゾリル基、１，３，４―チアジアゾ
ール―２―イル基、５―メチル―１，３，４―チ
アジアゾール―２―イル基、５―フエニル―１，
３，４―チアジアゾール―２―イル基、１，２，
３，４―テトラゾール―５―イル基、１―メチル
―１，２，３，４―テトラゾール―５―イル基、
１―フエニル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イル基、ベンズイミダゾール基等を例示でき
る。 原料物質（）は、例えば一般式（） 〔式中R1及びR6は前記に同じ。〕で表わされる
チアゾリノアゼチジノン誘導体から既報の方法
〔例えばTetrahedron Letter，3193（1981）〕によ
つて得られる化合物又はそれから公知の方法など
を採用して製造することができる。 化合物（）と化合物（）との使用割合とし
ては、特に限定はなく広い範囲内で適宜選択でき
るが、通常前者に対して後者を１〜10倍モル程
度、好ましくは１〜２倍モル用いるのがよい。 本発明の反応は、含水有機溶媒中酸の存在下行
われる。用いる含水有機溶媒中に占める水の量と
しては、特に限定はないが、通常化合物（）に
対して１〜1000当量、好ましくは10〜500当量程
度用いるのがよい。用いられる有機溶媒として
は、例えばペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トル
エンなどの炭化水素類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジエチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類、メタノー
ル、エタノール、ブタノール、エチレングリコー
ルなどのアルコール類、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸などのカルボン酸類、アセトニトリル、ベンゾ
ニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類、ニトロ
メタン、ニトロエタンなどのニトロ炭化水素類、
アセトン、シクロヘキサンなどのケトン類などの
一種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち
好ましくはエーテル、ケトン、アルコール、アミ
ド、スルホキシドなどの親水性の極性溶媒やこれ
ら親水性溶媒を含む混合溶媒が用いられる。用い
る溶媒の量としては、出発物質（）やジスルフ
イド（）の種類により一定しないが、通常基質
（）に対して１〜1000部、好ましくは２〜500部
用いられるのがよい。 酸としては、例えばハロゲン化水素、硫酸、硝
酸、リン酸、過塩素酸、塩素酸などの鉱酸、アル
カンスルホン酸、アリールスルホン酸、アラルキ
ルスルホン酸、α―ハロアルカンスルホン酸など
のスルホン酸、α―ハロカルボン酸、ポリカルボ
ン酸など、好ましくは解離恒数約0.01以上の酸を
用いることができる。特に、過塩素酸、トリフル
オロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、トリクロロメタンス
ルホン酸、塩酸、臭酸、硫酸、ふつ化水素酸、硝
酸、リン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸などの酸が効率よく利用できる。これら酸
の添加量としては、反応基質（）や用いる溶媒
の種類、反応温度により一定しないが、通常基質
に対して0.01〜50倍モル、好ましくは0.1〜10倍
モル程度用いるのがよい。 アゼチジノン環やアミノ保護基R2などの分解
による副反応が起きる場合には、酸の種類や濃
度、反応温度、反応時間などの条件を適宜選択す
ることにより高収率で目的化合物を製造できる。 上記反応は通常室温付近にて行なわれ、一般に
10分ないし３時間で反応は完結するが、
【式】がＣ＝Ｏ、
【式】又はＣ＝Ｎ
―OR3基である場合には、室温付近にて24時間か
ら120時間反応するか又は30〜80℃に加熱下１時
間から48時間反応することにより目的化合物
（）を高収率で得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、反応終
了後、常法により抽出単離し、沈殿、過、再結
晶、クロマトグラフイーなどにより容易に精製す
ることができる。 以下に実施例を示して本発明実施の態様を説明
する。 参考例 １ ２―（３―フエニルジクロロメチル―７―オキ
ソ―４―チアー２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―ク
ロロメチル―３―ブテン酸ベンジル29.0mgにジオ
キサン0.6mlを加えて均一溶液とし、続いて５％
塩酸0.06mlを加えて室温下15分間反応させる。 上記操作とは別に２―ベンゾチアゾリルジスル
フイド37.9mgにジオキサン２mlを加え、湯浴で加
熱しながら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四
塩化炭素溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。
これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で30分
間かきまぜながら反応させる。次いでこの反応混
合物を酢酸エチルを用いて短いシリカゲルカラム
を通し、溶出液を減圧濃縮する。得られた残渣を
ベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去す
る。このようにして得られた無色固体及び無色油
状物の混合物残渣をシリカゲルカラム上で、ベン
ゼン、続いてベンゼン―酢酸エチル（10：１）を
用いてクロマトグラフイーを行なうと、出発原料
29.0mgを回収した。 実施例 １ ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―メチル―２―ブテ
ン酸メチル11.2mgとジベンゾチアゾリルジスルフ
イド15.4mgをテトラヒドロフラン１mlに分散し、
これに20％過塩素酸水溶液0.25mlを加えて室温に
て24時間かきまぜる。反応物に酢酸エチル５mlを
加えてのち、不溶物をガラスフイルターにて取り
除く。３液を水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち溶媒を留去する。残留物24.3mgはシリ
カゲルカラムを用いて分離精製すると、２―（４
―（２―ベンゾチアゾリル）ジチオ―３―ベンゾ
イルアミド―２―オキソアゼチジン―１―イル）
―３―メチル―２―ブテン酸メチルが無色泡状物
として13.6mg（収率82％）得られる。 IR（CHCl3） 3370，1778，1723，1695，1670
cm-1 NMR（CDCl3） δ2.13（ｓ，3H） 2.20（ｓ，3H） 3.15（ｓ，3H） 5.37（dd，1H，4.7Hz，８Hz） 5.62（ｄ，1H，4.7Hz） 7.2〜7.7（ｍ，7H） 7.85（ｄ，1H，８Hz） 8.2〜9.0（ｍ，2H） 実施例 ２〜15 チアゾリノアゼチジノン（）とジベンゾチア
ゾリルジスルフイドとをテトラヒドロフランに分
散し、これに酸を加えて室温下、所定時間かきま
ぜて反応を行つた。表に示す条件以外は、実施
例１と同様の条件下反応を行い、後処理を行うと
目的とするアゼチジノン誘導体（）を得た。 反応条件と収率を第表に、生成物（）の
IRおよび 1HNMRのデータを第表にまとめて
示す。
ら120時間反応するか又は30〜80℃に加熱下１時
間から48時間反応することにより目的化合物
（）を高収率で得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、反応終
了後、常法により抽出単離し、沈殿、過、再結
晶、クロマトグラフイーなどにより容易に精製す
ることができる。 以下に実施例を示して本発明実施の態様を説明
する。 参考例 １ ２―（３―フエニルジクロロメチル―７―オキ
ソ―４―チアー２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―ク
ロロメチル―３―ブテン酸ベンジル29.0mgにジオ
キサン0.6mlを加えて均一溶液とし、続いて５％
塩酸0.06mlを加えて室温下15分間反応させる。 上記操作とは別に２―ベンゾチアゾリルジスル
フイド37.9mgにジオキサン２mlを加え、湯浴で加
熱しながら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四
塩化炭素溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。
これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で30分
間かきまぜながら反応させる。次いでこの反応混
合物を酢酸エチルを用いて短いシリカゲルカラム
を通し、溶出液を減圧濃縮する。得られた残渣を
ベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去す
る。このようにして得られた無色固体及び無色油
状物の混合物残渣をシリカゲルカラム上で、ベン
ゼン、続いてベンゼン―酢酸エチル（10：１）を
用いてクロマトグラフイーを行なうと、出発原料
29.0mgを回収した。 実施例 １ ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―メチル―２―ブテ
ン酸メチル11.2mgとジベンゾチアゾリルジスルフ
イド15.4mgをテトラヒドロフラン１mlに分散し、
これに20％過塩素酸水溶液0.25mlを加えて室温に
て24時間かきまぜる。反応物に酢酸エチル５mlを
加えてのち、不溶物をガラスフイルターにて取り
除く。３液を水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち溶媒を留去する。残留物24.3mgはシリ
カゲルカラムを用いて分離精製すると、２―（４
―（２―ベンゾチアゾリル）ジチオ―３―ベンゾ
イルアミド―２―オキソアゼチジン―１―イル）
―３―メチル―２―ブテン酸メチルが無色泡状物
として13.6mg（収率82％）得られる。 IR（CHCl3） 3370，1778，1723，1695，1670
cm-1 NMR（CDCl3） δ2.13（ｓ，3H） 2.20（ｓ，3H） 3.15（ｓ，3H） 5.37（dd，1H，4.7Hz，８Hz） 5.62（ｄ，1H，4.7Hz） 7.2〜7.7（ｍ，7H） 7.85（ｄ，1H，８Hz） 8.2〜9.0（ｍ，2H） 実施例 ２〜15 チアゾリノアゼチジノン（）とジベンゾチア
ゾリルジスルフイドとをテトラヒドロフランに分
散し、これに酸を加えて室温下、所定時間かきま
ぜて反応を行つた。表に示す条件以外は、実施
例１と同様の条件下反応を行い、後処理を行うと
目的とするアゼチジノン誘導体（）を得た。 反応条件と収率を第表に、生成物（）の
IRおよび 1HNMRのデータを第表にまとめて
示す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 16
２―（３―フエニルジクロルメチル―７―オキ
ソ―４―チア―２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―ク
ロルメチル―３―ブテン酸ベンジル111.9mgとジ
―５―メチル―１，３，４―チアジアゾリルジス
ルフイド79.6mgをテトラヒドロフラン２mlに分散
し、これに20％過塩素酸水溶液0.5mlを加えて室
温にて70時間かきまぜる。実施例１と同様の後処
理を行うと、２―（４―（５―メチル―１，３，
４―チアジアゾール―２―イル）ジチオ―３―フ
エニルジクロルアセトアミド―２―オキソアゼチ
ジン―１―イル）―３―クロルメチル―３―ブテ
ン酸ベンジルが107.3mg（収率74％）と、原料の
チアゾリノアゼチジノンが16.5mg（収率18％）得
られる。 IR（CHCl3） 3380，1780，1740，1700，1505
cm-1 NMR（CDCl3） δ2.67（ｓ，3H） 4.18（ｓ，2H） 5.19（ｓ，2H） 5.24（ｓ，2H） 5.28（dd，1H，５Hz、７Hz） 5.48（ｓ，1H） 5.64（ｄ，1H，５Hz） 7.32（ｓ，5H） 7.2〜7.5（ｍ，3H） 7.5〜7.8（ｍ，2H） 8.06（ｄ，1H，７Hz） 実施例 17 ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―クロロメチル―３
―ブテン酸ベンジル93.9mgとジベンゾチアゾリル
ジスルフイド77.3mgをアセトン３mlと塩化メチレ
ン２mlに分散し、これに10％過塩素酸水溶液0.5
mlを加えて室温下103時間かきまぜる。実施例１
と同様の後処理を行うと、２―（４―（２―ベン
ゾチアゾリル）ジチオ―３―ベンゾイルアミド―
２―オキソアゼチジン―１―イル）―３―クロロ
メチル―３―ブテン酸ベンジルが99.0mg（収率75
％）得られる。 IR（CHCl3） 3370，1780，1740，1670cm-1 NMR（CDCl3） δ4.26（ｓ，2H） 5.20（ｓ，2H） 5.28（ｓ，1H） 5.32（ｓ，1H） 5.3〜5.56（ｍ，1H） 5.56（ｓ，1H） 5.66（ｄ，1H，４Hz） 7.30（ｓ，5H） 7.2〜8.0（ｍ，8H） 8.0〜8.4（ｍ，2H） 実施例 18 ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―クロロメチル―３
―ブテン酸ベンジル39.1mgとジベンゾチアゾリル
ジスルフイド34.9mgをテトラヒドロフラン1.5ml
に分散し、これに５％塩酸水溶液0.4mlを加え、
60〜70℃にて10時間かきまぜる。実施例１と同様
の後処理を行うと、２―（４―（２―ベンゾチア
ゾリル）ジチオ―３―ベンゾイルアミド―２―オ
キソアゼチジン―１―イル）―３―クロロメチル
―３―ブテン酸ベンジルが36.9mg（収率67％）得
られる。このもののIR及びNMRスペクトルは実
施例17で得られた化合物のスペクトルと一致し
た。 実施例 19 ２―（３―フエニルヒドロキシメチル―７―オ
キソ―４―チア―２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―
（１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イルチオ）メチル―３―ブテン酸ベンジル
14.3mgとジベンゾチアゾリルジスルフイド10.6mg
をテトラヒドロフラン0.6mlに分散し、これに５
％塩酸水溶液0.15mlを加えて室温下１時間かきま
ぜる。反応物に酢酸エチルを加えてのち、不溶物
をガラスフイルターにて取り除く。ろ液を水洗
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥したのち溶媒を
留去する。残留物25mgはシリカゲルカラムを用い
て分離精製すると２―（４―（２―ベンゾチアゾ
リル）ジチオ―３―フエニルヒドロキシアセトア
ミド―２―オキソアゼチジン―１―イル）―３―
（１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イルチオ）メチル―３―ブテン酸ベンジル
15.9mg（収率83％）が無色泡状物として得られ
る。 IR（CHCl3） 3380，1778，1742，1685cm-1 1H NMR（CDCl3） δ3.72（ｓ，3H） 4.15（bs，2H） 4.0〜4.5（bm，1H） 5.09（ｓ，2H） 5.0〜5.6（ｍ，6H） 7.0〜7.9（ｍ，15H）
ソ―４―チア―２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―ク
ロルメチル―３―ブテン酸ベンジル111.9mgとジ
―５―メチル―１，３，４―チアジアゾリルジス
ルフイド79.6mgをテトラヒドロフラン２mlに分散
し、これに20％過塩素酸水溶液0.5mlを加えて室
温にて70時間かきまぜる。実施例１と同様の後処
理を行うと、２―（４―（５―メチル―１，３，
４―チアジアゾール―２―イル）ジチオ―３―フ
エニルジクロルアセトアミド―２―オキソアゼチ
ジン―１―イル）―３―クロルメチル―３―ブテ
ン酸ベンジルが107.3mg（収率74％）と、原料の
チアゾリノアゼチジノンが16.5mg（収率18％）得
られる。 IR（CHCl3） 3380，1780，1740，1700，1505
cm-1 NMR（CDCl3） δ2.67（ｓ，3H） 4.18（ｓ，2H） 5.19（ｓ，2H） 5.24（ｓ，2H） 5.28（dd，1H，５Hz、７Hz） 5.48（ｓ，1H） 5.64（ｄ，1H，５Hz） 7.32（ｓ，5H） 7.2〜7.5（ｍ，3H） 7.5〜7.8（ｍ，2H） 8.06（ｄ，1H，７Hz） 実施例 17 ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―クロロメチル―３
―ブテン酸ベンジル93.9mgとジベンゾチアゾリル
ジスルフイド77.3mgをアセトン３mlと塩化メチレ
ン２mlに分散し、これに10％過塩素酸水溶液0.5
mlを加えて室温下103時間かきまぜる。実施例１
と同様の後処理を行うと、２―（４―（２―ベン
ゾチアゾリル）ジチオ―３―ベンゾイルアミド―
２―オキソアゼチジン―１―イル）―３―クロロ
メチル―３―ブテン酸ベンジルが99.0mg（収率75
％）得られる。 IR（CHCl3） 3370，1780，1740，1670cm-1 NMR（CDCl3） δ4.26（ｓ，2H） 5.20（ｓ，2H） 5.28（ｓ，1H） 5.32（ｓ，1H） 5.3〜5.56（ｍ，1H） 5.56（ｓ，1H） 5.66（ｄ，1H，４Hz） 7.30（ｓ，5H） 7.2〜8.0（ｍ，8H） 8.0〜8.4（ｍ，2H） 実施例 18 ２―（３―ベンゾイル―７―オキソ―４―チア
―２，６―ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト
―２―エン―６―イル）―３―クロロメチル―３
―ブテン酸ベンジル39.1mgとジベンゾチアゾリル
ジスルフイド34.9mgをテトラヒドロフラン1.5ml
に分散し、これに５％塩酸水溶液0.4mlを加え、
60〜70℃にて10時間かきまぜる。実施例１と同様
の後処理を行うと、２―（４―（２―ベンゾチア
ゾリル）ジチオ―３―ベンゾイルアミド―２―オ
キソアゼチジン―１―イル）―３―クロロメチル
―３―ブテン酸ベンジルが36.9mg（収率67％）得
られる。このもののIR及びNMRスペクトルは実
施例17で得られた化合物のスペクトルと一致し
た。 実施例 19 ２―（３―フエニルヒドロキシメチル―７―オ
キソ―４―チア―２，６―ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト―２―エン―６―イル）―３―
（１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イルチオ）メチル―３―ブテン酸ベンジル
14.3mgとジベンゾチアゾリルジスルフイド10.6mg
をテトラヒドロフラン0.6mlに分散し、これに５
％塩酸水溶液0.15mlを加えて室温下１時間かきま
ぜる。反応物に酢酸エチルを加えてのち、不溶物
をガラスフイルターにて取り除く。ろ液を水洗
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥したのち溶媒を
留去する。残留物25mgはシリカゲルカラムを用い
て分離精製すると２―（４―（２―ベンゾチアゾ
リル）ジチオ―３―フエニルヒドロキシアセトア
ミド―２―オキソアゼチジン―１―イル）―３―
（１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール―
５―イルチオ）メチル―３―ブテン酸ベンジル
15.9mg（収率83％）が無色泡状物として得られ
る。 IR（CHCl3） 3380，1778，1742，1685cm-1 1H NMR（CDCl3） δ3.72（ｓ，3H） 4.15（bs，2H） 4.0〜4.5（bm，1H） 5.09（ｓ，2H） 5.0〜5.6（ｍ，6H） 7.0〜7.9（ｍ，15H）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1はフエニル基又はフエノキシ基を示
す。 R2は基【式】又は基 【式】を示す。ここでR6はカルボキ シル基の保護基を、Z1は水素原子、ハロゲン原子
又は１―メチル―１，２，３，４―テトラゾール
―５―イルチオ基を、Z2は水素原子をそれぞれ示
す。 【式】は基Ｃ＝Ｏ又は 基Ｃ＝Ｎ―OR3（R3は低級アルキル基）を示
す。またX1及びX2の一方又は両者が水素原子、
ハロゲン原子、水酸基、アセトキシ基、フエニル
チオ基又はペンタクロロフエニルチオ基であつて
もよい。R5は窒素原子及び／又は硫黄原子含有
の５員の複素環基を示し、該複素環基には低級ア
ルキル基が結合していてもよく、置換もしくは未
置換のフエニル環が縮合していてもよい。但し
X1及びX2が共に水素原子であることはない。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210490A JPS59101485A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | アセチジノン誘導体 |
| GB08331575A GB2133403B (en) | 1982-11-29 | 1983-11-25 | Azetidinone derivatives |
| FR8318940A FR2541277B1 (fr) | 1982-11-29 | 1983-11-28 | Derives d'azetidinone et procede pour leur preparation |
| DE19833343198 DE3343198A1 (de) | 1982-11-29 | 1983-11-29 | Azetidinonderivat und verfahren zu seiner herstellung |
| US07/046,423 US4810788A (en) | 1982-11-29 | 1987-05-06 | Azetidinone disulfide derivatives and a process for preparing the same |
| US07/046,444 US4801720A (en) | 1982-11-29 | 1987-05-06 | Azetidinone disulfides and a ring opening process for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210490A JPS59101485A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | アセチジノン誘導体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63122889A Division JPH0623189B2 (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101485A JPS59101485A (ja) | 1984-06-12 |
| JPS643190B2 true JPS643190B2 (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=16590206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57210490A Granted JPS59101485A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | アセチジノン誘導体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4810788A (ja) |
| JP (1) | JPS59101485A (ja) |
| DE (1) | DE3343198A1 (ja) |
| FR (1) | FR2541277B1 (ja) |
| GB (1) | GB2133403B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04114850U (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-09 | 日野自動車工業株式会社 | 配管用ホース接続装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69223663T2 (de) * | 1991-02-20 | 1998-06-04 | Meiji Seika Kaisha | Azetidinonderivate und Verfahren zur Herstellung von Azetidinon- und Cefalosporinderivaten |
| US5266691A (en) * | 1991-06-06 | 1993-11-30 | Bristol-Myers Squibb Company | Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives |
| US5162524B1 (en) * | 1991-06-06 | 1997-06-17 | Bristol Myers Squibb Co | Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE794659A (fr) * | 1972-01-28 | 1973-07-30 | Glaxo Lab Ltd | Procede de preparation de composes intermediaires pour l'obtention d'antibiotiques de type beta-lactame |
| SE417968B (sv) * | 1972-10-20 | 1981-04-27 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Forfarande for framstellning av penamderivat |
| JPS511488A (en) * | 1974-06-22 | 1976-01-08 | Sankyo Co | Sefuarosuhorinruino seiho |
| CA1136132A (en) * | 1975-02-17 | 1982-11-23 | Teruji Tsuji | Cyclization to form cephem ring and intermediates therefor |
| US4070477A (en) * | 1975-12-08 | 1978-01-24 | Ciba-Geigy Corporation | 2-Penem compounds |
| JPS6019315B2 (ja) * | 1976-01-23 | 1985-05-15 | 塩野義製薬株式会社 | アゼチジノン化合物 |
| JPS5618955A (en) * | 1979-07-25 | 1981-02-23 | Sumitomo Chem Co Ltd | Beta-lactam-based antibiotic |
| JPS5620587A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Beta-lactam antibiotic |
| MX7096E (es) * | 1980-12-05 | 1987-06-19 | Takeda Chemical Industries Ltd | Metodo para preparacion de derivados de 2-oxoazetidina |
| US4482491A (en) * | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP57210490A patent/JPS59101485A/ja active Granted
-
1983
- 1983-11-25 GB GB08331575A patent/GB2133403B/en not_active Expired
- 1983-11-28 FR FR8318940A patent/FR2541277B1/fr not_active Expired
- 1983-11-29 DE DE19833343198 patent/DE3343198A1/de active Granted
-
1987
- 1987-05-06 US US07/046,423 patent/US4810788A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-06 US US07/046,444 patent/US4801720A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04114850U (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-09 | 日野自動車工業株式会社 | 配管用ホース接続装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4810788A (en) | 1989-03-07 |
| JPS59101485A (ja) | 1984-06-12 |
| DE3343198A1 (de) | 1984-05-30 |
| DE3343198C2 (ja) | 1993-03-18 |
| GB2133403B (en) | 1985-12-11 |
| FR2541277B1 (fr) | 1985-12-20 |
| FR2541277A1 (fr) | 1984-08-24 |
| GB2133403A (en) | 1984-07-25 |
| US4801720A (en) | 1989-01-31 |
| GB8331575D0 (en) | 1984-01-04 |
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