JPS61162038A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS61162038A JPS61162038A JP60292381A JP29238185A JPS61162038A JP S61162038 A JPS61162038 A JP S61162038A JP 60292381 A JP60292381 A JP 60292381A JP 29238185 A JP29238185 A JP 29238185A JP S61162038 A JPS61162038 A JP S61162038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- composition
- tables
- formulas
- aromatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は改良され几写冥材料に関する。丈に特には、本
発明は水性ms液液中現揮町餌な耕規感’ffi性組成
物を用いる改良され九石版印制板に関する。
発明は水性ms液液中現揮町餌な耕規感’ffi性組成
物を用いる改良され九石版印制板に関する。
と
後に事実上水性の現像液でJA像するこへのできる高い
感光性を有する写真材料が得られる。被覆組成物は、2
種類のネガチデ作用感光性シア7ニウム塩xm合生成物
及び主としてポリ酢酸ビニ#]1体及びスチレン/マレ
イン酸半エステル共凰合体から成るかそれらを有する結
合樹脂組成物の混合物から成る。
感光性を有する写真材料が得られる。被覆組成物は、2
種類のネガチデ作用感光性シア7ニウム塩xm合生成物
及び主としてポリ酢酸ビニ#]1体及びスチレン/マレ
イン酸半エステル共凰合体から成るかそれらを有する結
合樹脂組成物の混合物から成る。
1−事実上水性の現像液」とに、塩及び界面活性剤及び
約10皿it%より少ない有機浴剤の水浴漱を含有する
ようなものである。この現像液は約5%會越えない、丈
にMオリには約2チを越えないかつ・瓢めて有利ににO
チのこの種の有機浴剤を含Mするのが有利である。
約10皿it%より少ない有機浴剤の水浴漱を含有する
ようなものである。この現像液は約5%會越えない、丈
にMオリには約2チを越えないかつ・瓢めて有利ににO
チのこの種の有機浴剤を含Mするのが有利である。
1型のジアゾ配合生成物は、各々一般式rX−及びQの
練返し単位から成る感光性の、寮賞的に直鎖のM曾坏ジ
アゾニウム塩繻合生成吻であり、核E+x−は一般式: (式中、−に−は−四−1−S−、−O−及び−〇H2
−から成る拝から選択したものであるか又は率鮎会であ
り、R′はフェニル及びc1〜c4アルキル置換さr′
したフェニルから成る鮮から!4択したものであり、P
及びPlはC1〜c4アルキル、アルコキシ又はHから
成る杵から選択したものであり、PiはPと同じもので
あっても艮いし典なるもので良く、かつx−utsイオ
ンである)の化合物の残基であり、かつQは式: %式%) (式中、RにCHa−C−CI(、、−C)120H。
練返し単位から成る感光性の、寮賞的に直鎖のM曾坏ジ
アゾニウム塩繻合生成吻であり、核E+x−は一般式: (式中、−に−は−四−1−S−、−O−及び−〇H2
−から成る拝から選択したものであるか又は率鮎会であ
り、R′はフェニル及びc1〜c4アルキル置換さr′
したフェニルから成る鮮から!4択したものであり、P
及びPlはC1〜c4アルキル、アルコキシ又はHから
成る杵から選択したものであり、PiはPと同じもので
あっても艮いし典なるもので良く、かつx−utsイオ
ンである)の化合物の残基であり、かつQは式: %式%) (式中、RにCHa−C−CI(、、−C)120H。
−CHsO(CHz)nCH3、−CH2−0−C−C
H3、−CH2Oノ及び−cagsrから成る解から選
択し次ものであり、nにU〜6の整数であり、Mは芳香
族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリールスルファ
イド、ジアリールスルホン、シアリールアミン、シアリ
ールケトン及びジアリールジケトンから成る肝から選択
しt芳香族基であり、rnは1〜6であり、YはCH,
及びCH2−0−CH,から成る基から選択したもので
あり、かつTはY”CH2の場合にはRと同じものであ
りかつY−CH2−0−CH2の場合にはHである)七
Mするオリゴマーの残基である。
H3、−CH2Oノ及び−cagsrから成る解から選
択し次ものであり、nにU〜6の整数であり、Mは芳香
族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリールスルファ
イド、ジアリールスルホン、シアリールアミン、シアリ
ールケトン及びジアリールジケトンから成る肝から選択
しt芳香族基であり、rnは1〜6であり、YはCH,
及びCH2−0−CH,から成る基から選択したもので
あり、かつTはY”CH2の場合にはRと同じものであ
りかつY−CH2−0−CH2の場合にはHである)七
Mするオリゴマーの残基である。
#紀シアゾニウム化合物は、主として初期縞付オリがマ
ー成分Qを生成しかつ前記成分QとfiE”X−とt1
M対E“X−の比が少なくとも2:1であるように反応
させることより成る21機法で製造される。該シアゾニ
ウム化合物は、過当な支持体上に単独で被覆しかつ適当
な光源にエネルイー水$ 4 mJ /crIiにで露
光する場合に事実上子爵性にな9うる。
ー成分Qを生成しかつ前記成分QとfiE”X−とt1
M対E“X−の比が少なくとも2:1であるように反応
させることより成る21機法で製造される。該シアゾニ
ウム化合物は、過当な支持体上に単独で被覆しかつ適当
な光源にエネルイー水$ 4 mJ /crIiにで露
光する場合に事実上子爵性にな9うる。
前記貞合体シアゾニウム化合物中のシアゾニウム基の間
の距離は少なくとも5Aであり、こ2″Lは約6L10
00までの平均分子量を有する。
の距離は少なくとも5Aであり、こ2″Lは約6L10
00までの平均分子量を有する。
前記al類のシアゾニウム化合物は、米国特許巣446
6804号明細誓に詳細に記載されている。
6804号明細誓に詳細に記載されている。
種類2型のジアゾ#は、各々一般式A−N、XとBとの
様返し単位から成る芳香族ジアゾニウム化合物の縮曾生
成物であり、ここでA−N2Xは式’ (”l−R1
−) 1)R2−N2X及びRミ、ン、−N2X(式中
R1は置侠されているか又は置侠されていないフェニル
又はす7チ/I/基を表わし、R′1はtug4されて
いる又は置侠されていないフェニレン又はナフチレン基
を表わし、R2は直侠されているか又は置侠されていな
いフェニレン基を禰わし、Rr5は単結曾であるか又μ
着ニー(CHi) −NR4−、−0−(CHzJy
−NR4−、−8−(CH2)v−NR47−8−CH
,−CO−NR,−、−0−R,−0−、−0−、−8
−又は−Co−NR4−の1つであり、前記基の左手自
由原子llIbはR1と結合しかつ石手目由原子11f
flはR2と結合しており、式中qは0〜5の数でh’
)、rは2〜5の数であり、R4は水素、炭素原子1〜
5 (II! t 4fする7 /l/ キ/L/、炭
素原子7〜1211a1に有するアルアルキル、及びR
IA原子6〜1211i!をMするアリールから成る肝
から選択したものであり、RIIは炭素原子6〜12個
を有するアリーレン基であり、Yは基−NH−及び−〇
−01つであり、Xは嫉イオンであ!7、PH1〜6の
数である)の化合物から成る沖から選択し几化合物の残
基であり、Bは芳査歴アミン、フェノール、チオフェノ
ール、フェニルエーテル、芳晋諌チオエーテル、芳査欣
複′1g環式化合物、芳査諌炭化水木及びM慎酸アミド
から成る群から選択したシアゾニウム7i′kMしない
化合物の残基であり、前記厘絹合生成物は平均A−N2
X 1率位当9B率位約0.1〜5Ut有する。
様返し単位から成る芳香族ジアゾニウム化合物の縮曾生
成物であり、ここでA−N2Xは式’ (”l−R1
−) 1)R2−N2X及びRミ、ン、−N2X(式中
R1は置侠されているか又は置侠されていないフェニル
又はす7チ/I/基を表わし、R′1はtug4されて
いる又は置侠されていないフェニレン又はナフチレン基
を表わし、R2は直侠されているか又は置侠されていな
いフェニレン基を禰わし、Rr5は単結曾であるか又μ
着ニー(CHi) −NR4−、−0−(CHzJy
−NR4−、−8−(CH2)v−NR47−8−CH
,−CO−NR,−、−0−R,−0−、−0−、−8
−又は−Co−NR4−の1つであり、前記基の左手自
由原子llIbはR1と結合しかつ石手目由原子11f
flはR2と結合しており、式中qは0〜5の数でh’
)、rは2〜5の数であり、R4は水素、炭素原子1〜
5 (II! t 4fする7 /l/ キ/L/、炭
素原子7〜1211a1に有するアルアルキル、及びR
IA原子6〜1211i!をMするアリールから成る肝
から選択したものであり、RIIは炭素原子6〜12個
を有するアリーレン基であり、Yは基−NH−及び−〇
−01つであり、Xは嫉イオンであ!7、PH1〜6の
数である)の化合物から成る沖から選択し几化合物の残
基であり、Bは芳査歴アミン、フェノール、チオフェノ
ール、フェニルエーテル、芳晋諌チオエーテル、芳査欣
複′1g環式化合物、芳査諌炭化水木及びM慎酸アミド
から成る群から選択したシアゾニウム7i′kMしない
化合物の残基であり、前記厘絹合生成物は平均A−N2
X 1率位当9B率位約0.1〜5Ut有する。
この種のジアゾ化合物は木国時許第6849692号明
m5Vc絆細に記載されている。
m5Vc絆細に記載されている。
貞縮合生成物は強酸性縮会則中で一般式A−N2Xのシ
アゾニウム化合物と式:EC(−CHRa−ORb八(
式中、Eは前記の化合物BからmH)JA子を離脱する
ことによつ【得られる残基であt)、RB−rc水素及
びフェニールから成る群から選択し九ものであ!’、”
bは水素及びアルキル、CnH2n+、CO−(式中n
はO〜6であり)及びフェニル基から成る肝から選択し
tものであり、かつmは1〜1Uの整数である〕の化合
物とを反応させることによって製造される。
アゾニウム化合物と式:EC(−CHRa−ORb八(
式中、Eは前記の化合物BからmH)JA子を離脱する
ことによつ【得られる残基であt)、RB−rc水素及
びフェニールから成る群から選択し九ものであ!’、”
bは水素及びアルキル、CnH2n+、CO−(式中n
はO〜6であり)及びフェニル基から成る肝から選択し
tものであり、かつmは1〜1Uの整数である〕の化合
物とを反応させることによって製造される。
写真材料の製造の第1工根として、シート支狩体、例え
ばアルミニウム及びその金蓋、特に石版印刷板の製造に
過当なアルミニウム化合物例えばアルコア(ALcua
) 6 Ll 03及びアルコア1100t″便用する
。シートは、轟菓省に公知である標準砂目立て及び/又
はエツチング及び/又は陽極処理技術によって前処理し
てあっても艮いし、前処理してなくとも艮い。又該シー
トは、石版印刷板の親水化層として使用するのに好適な
組成物、例えばポリビニルホスホン酸を用いて処理して
あっても艮いし処理してなくとも艮い。次いで材料を放
射感光性ジアゾ組成物で被覆する。
ばアルミニウム及びその金蓋、特に石版印刷板の製造に
過当なアルミニウム化合物例えばアルコア(ALcua
) 6 Ll 03及びアルコア1100t″便用する
。シートは、轟菓省に公知である標準砂目立て及び/又
はエツチング及び/又は陽極処理技術によって前処理し
てあっても艮いし、前処理してなくとも艮い。又該シー
トは、石版印刷板の親水化層として使用するのに好適な
組成物、例えばポリビニルホスホン酸を用いて処理して
あっても艮いし処理してなくとも艮い。次いで材料を放
射感光性ジアゾ組成物で被覆する。
感光性シート材料を仄いでマスク又はスライドを通して
放射源に露呈しかつ露光したシートを次いで禾繕光感光
材料を原告するために現像する。
放射源に露呈しかつ露光したシートを次いで禾繕光感光
材料を原告するために現像する。
感光性組成物は、前記の#!eこ2種類の異なつta1
類に属するジアゾニウム塩湖合生成物、ポリ酢酸ビニル
w脂及びスチレン/マレイン酸半エステル共皿合体の混
合物から成る。この混合物は一般に全ての組成物成分と
相容性である浴剤組成物中で製造される。この組成@を
次いで支持体上に41覆しかつ浴剤r乾燥する。組成物
は当業者に公知のその個の成分、例えば着色剤、威安冗
剤及び露光tk示柴を含有しても艮い。
類に属するジアゾニウム塩湖合生成物、ポリ酢酸ビニル
w脂及びスチレン/マレイン酸半エステル共皿合体の混
合物から成る。この混合物は一般に全ての組成物成分と
相容性である浴剤組成物中で製造される。この組成@を
次いで支持体上に41覆しかつ浴剤r乾燥する。組成物
は当業者に公知のその個の成分、例えば着色剤、威安冗
剤及び露光tk示柴を含有しても艮い。
最も有利な1型のシアゾニウム塩は、メシチレンスルホ
ネートとしてl!赦し几、4.4’−ビス−メトキシメ
チルジフェニルエーテルと6−メドキシゾフエニルアミ
ンー4−ジアゾニウムスルフェートとのホモ縮合生成物
の21橿縮合生成物である。これは米国特許第4466
804号明細壷に詳説されている。
ネートとしてl!赦し几、4.4’−ビス−メトキシメ
チルジフェニルエーテルと6−メドキシゾフエニルアミ
ンー4−ジアゾニウムスルフェートとのホモ縮合生成物
の21橿縮合生成物である。これは米国特許第4466
804号明細壷に詳説されている。
最も有利な2型のジアゾニウム@は、米国特許第684
9692号明細簀に記載しであるように、メシチレンス
ルホネートとして沈澱し几、6−メトキシ−ジフェニル
アミンー4−ジアゾニウムスルフニー) ト4 、4’
−ビス−メトキシメチル−ジフェニルエーテルとの′J
IL縮合生成物である。
9692号明細簀に記載しであるように、メシチレンス
ルホネートとして沈澱し几、6−メトキシ−ジフェニル
アミンー4−ジアゾニウムスルフニー) ト4 、4’
−ビス−メトキシメチル−ジフェニルエーテルとの′J
IL縮合生成物である。
本発明の実施に使用されるポリ師酸ビニル樹脂は約i
oouaoかbsuuuuoより少ない範囲の平均分子
量を有する。有利な分子量の最高は約70UUOL)で
ある。億め℃有利な平均分子ff1tl!約I ULI
LIULI 〜68LI(JU(J(2)範囲である。
oouaoかbsuuuuoより少ない範囲の平均分子
量を有する。有利な分子量の最高は約70UUOL)で
ある。億め℃有利な平均分子ff1tl!約I ULI
LIULI 〜68LI(JU(J(2)範囲である。
本発明の範囲で使用されるボ!jff14ビニルmBV
1は、丼併他的に、西ドイツ()+’rankfurt
。
1は、丼併他的に、西ドイツ()+’rankfurt
。
West Germany)フランクフルト仕ヘキスト
社(Huechst AG ) gのモウイリス(Mo
vi l i thバR)25.6U、50及び60’
を包含する。
社(Huechst AG ) gのモウイリス(Mo
vi l i thバR)25.6U、50及び60’
を包含する。
本発明で有用なスチレン/マレイン酸半エステル共ム合
体は、一般式: 〔式中Rは炭素原予約1〜511i1 k有するn級脂
FVJ原アルコール基である〕を有する。スチレン成分
は常に共菖合体蟻のエンド・キャッピング成jij (
end−capping members )として出
現する。
体は、一般式: 〔式中Rは炭素原予約1〜511i1 k有するn級脂
FVJ原アルコール基である〕を有する。スチレン成分
は常に共菖合体蟻のエンド・キャッピング成jij (
end−capping members )として出
現する。
従って共惠合俸中のスチレン対マレイン酸半エステルの
比は1;く1である。
比は1;く1である。
こり共重合体は約5[JLIOL+より多くない平均分
予電rMしかつ有オリには約511(JUOより少ない
。
予電rMしかつ有オリには約511(JUOより少ない
。
1判にはく子均分子瀘は約I ULI[Julから約b
oouuの範囲である。本発明で使用される待に有オリ
な共厘合坏は、截鼻平均分千重約zuoout有する、
モンサント(Munsantり線のスフリップセット(
Scripset)(R)540である。
oouuの範囲である。本発明で使用される待に有オリ
な共厘合坏は、截鼻平均分千重約zuoout有する、
モンサント(Munsantり線のスフリップセット(
Scripset)(R)540である。
不発明で有用な過当な酸安定剤には、燐酸、クエン酸、
IVA石酸及ヒp−)ルエンスルホン戚が包含される。
IVA石酸及ヒp−)ルエンスルホン戚が包含される。
本発明で使用される蕗元指示業は、パラフェニルアゾジ
フェニルアミン、カルコシン(Caca。
フェニルアミン、カルコシン(Caca。
zine)、ツクシン(Fuchs i fle )、
クリスタルバイオレット(Crystal Viole
t)及びメチレンブルー(MetLyLere Blu
e) KJ4料を包含する。
クリスタルバイオレット(Crystal Viole
t)及びメチレンブルー(MetLyLere Blu
e) KJ4料を包含する。
本発明の写真材料に使用する層色剤の非限定!
的例には、アセトゾル・ファイア・レッド(Aceto
soL F’ire Red) 6 GL8 、サンド
ラン・エオシン(Sandolan Eosln)E−
G、アセトゾル・グリーン(AcetusuL Gre
en) BLS 、シナクリル。
soL F’ire Red) 6 GL8 、サンド
ラン・エオシン(Sandolan Eosln)E−
G、アセトゾル・グリーン(AcetusuL Gre
en) BLS 、シナクリル。
デル−(fjenacryL Blue)6 G 、サ
ンドラン・シアニy (SanduLan Cyani
ne) N −68、サンドブラスト・ブルー(E3a
nd*pLastBlue) R,アトランティック・
アリゾリン・ミリング・ブルー(Atlantic A
LizarLne MilLiffg BLueJ F
FR2LIU 。
ンドラン・シアニy (SanduLan Cyani
ne) N −68、サンドブラスト・ブルー(E3a
nd*pLastBlue) R,アトランティック・
アリゾリン・ミリング・ブルー(Atlantic A
LizarLne MilLiffg BLueJ F
FR2LIU 。
ネオデボン・ファイアリ−・レッド(tJsozapo
ΩFLery Red) BL、エリスロシン(Er1
throsine)、メチレン・ブルー(MethyL
ere BLre)IaDエキスト−)(fixt、r
a入 ビクトリア・ピュア・ブルー(Victoria
Pure Blrs)FGAのような染料及びグリー
ン・ゴールド・ピクメント(Green [、)old
Pigmθnt)及びサンファースト・バイオレット(
Sanfast Violet)のような−科が包含g
nる。
ΩFLery Red) BL、エリスロシン(Er1
throsine)、メチレン・ブルー(MethyL
ere BLre)IaDエキスト−)(fixt、r
a入 ビクトリア・ピュア・ブルー(Victoria
Pure Blrs)FGAのような染料及びグリー
ン・ゴールド・ピクメント(Green [、)old
Pigmθnt)及びサンファースト・バイオレット(
Sanfast Violet)のような−科が包含g
nる。
被覆組成物中のジアゾニウム塩縮合生成吻の緒量は、有
利には固体組成物成分の約20電電チから約bUx瀘チ
の虚である。更に有利な範囲は約25%〜45チであり
かつ臀に性態には約50%〜40%である。
利には固体組成物成分の約20電電チから約bUx瀘チ
の虚である。更に有利な範囲は約25%〜45チであり
かつ臀に性態には約50%〜40%である。
1型のジアゾ対2型のソアゾの比は有4りには1対約U
、95〜1.45の範囲であり、更に有利には1対約1
.1U〜1.55でありかつ今に有利には1対約1.2
U〜1.60である。
、95〜1.45の範囲であり、更に有利には1対約1
.1U〜1.55でありかつ今に有利には1対約1.2
U〜1.60である。
ポリ昨はビニル樹脂は有利には被覆組成物中に固体組成
物成分の約8N瀘%〜65111L瀘−の電で存在する
。史に1判な軛v5は約12−〜28−でありかつ時に
有オリには約18−〜26慢である。
物成分の約8N瀘%〜65111L瀘−の電で存在する
。史に1判な軛v5は約12−〜28−でありかつ時に
有オリには約18−〜26慢である。
スチレン/マレイン酸半エステル共夏合体は有利には、
41.覆組成物中に固体組成物成分の約25電3t%〜
約55貞輩チの鴬で存在する。更に有利な範囲は約62
%〜48儂でありかつ特に有利VCは約67%〜46%
である。
41.覆組成物中に固体組成物成分の約25電3t%〜
約55貞輩チの鴬で存在する。更に有利な範囲は約62
%〜48儂でありかつ特に有利VCは約67%〜46%
である。
酸安定剤は、使用する場合には、被覆組成物中に固体組
成物成分の約1.!:+n虚チ〜約4.5嵐重チの麓で
存在するのが有利である。更に有利な範囲は約2.L1
%〜4.0%でありかつ特に有利には約2.b%〜6.
5%である。
成物成分の約1.!:+n虚チ〜約4.5嵐重チの麓で
存在するのが有利である。更に有利な範囲は約2.L1
%〜4.0%でありかつ特に有利には約2.b%〜6.
5%である。
露元指示系は、使用する場合には、4ft覆組成物甲に
固体組成物成分の約L1.U !:)貞菫チ〜約U、3
5Xm%の電で存在するのが有利である。
固体組成物成分の約L1.U !:)貞菫チ〜約U、3
5Xm%の電で存在するのが有利である。
更に有利なmwrc+Flu、i 0 % 〜u、6u
%でありかつ轡に1判には約U、15慢〜u、25%
である。
%でありかつ轡に1判には約U、15慢〜u、25%
である。
盾色剤は、使用する場合には、被覆組成物中に固体組成
物成分の約U、25に重チ〜約肌り5xm儂の菫で存在
するのが刹利である。史に有利な範囲は約IJ、6 t
Jチ〜L1.!l) U慢でありかつ特には約0.55
%−L1.45慢である。
物成分の約U、25に重チ〜約肌り5xm儂の菫で存在
するのが刹利である。史に有利な範囲は約IJ、6 t
Jチ〜L1.!l) U慢でありかつ特には約0.55
%−L1.45慢である。
本発明の組成物の成分を結合するための媒体として使用
することのできる過当な溶剤には、メチルーセロンルデ
(Methyl CeLlusoLve )、エチレン
グリコールエーテル、ブチロラクトン、エチルアルコー
ル及びローノロパノールの様なアルコール、メチルエチ
ルケトンの様なケトンが包含される。
することのできる過当な溶剤には、メチルーセロンルデ
(Methyl CeLlusoLve )、エチレン
グリコールエーテル、ブチロラクトン、エチルアルコー
ル及びローノロパノールの様なアルコール、メチルエチ
ルケトンの様なケトンが包含される。
本発明の写真材料の製造用に便用される支持体には、透
明フィルム、アルミニウム合笠、珪素及び当栗省に公知
の間挿の材料が非限雉的に包含される。
明フィルム、アルミニウム合笠、珪素及び当栗省に公知
の間挿の材料が非限雉的に包含される。
石版印刷板の製造で、アルミニウムを含Mすゐ支持体を
元ず有利には当菓省に略めL:)れ几方法、例えはワイ
ヤブラシ、値粒子のスラリー又は電気化♀的方法、例え
ば塩化水素戚電解員を用いて砂1立てする。砂目二てし
た板七次いで、例えば懺酸又は燐酸中で当東省に公知の
方法でtWO処理することができる。砂目立てしかつ陽
憾処理し7を表面に仄いで、当東省に公知である、−え
はポリビニルホスホン酸、珪酸ナトリウム等を用いる処
理によって親水性を付与することができる。こうして製
造しt板を次いで本発明の組成物で仮憶し、乾燥し、過
当なマスクを通して化学線照射に蕗元しかつ水性ベース
の現像液で現像する。
元ず有利には当菓省に略めL:)れ几方法、例えはワイ
ヤブラシ、値粒子のスラリー又は電気化♀的方法、例え
ば塩化水素戚電解員を用いて砂1立てする。砂目二てし
た板七次いで、例えば懺酸又は燐酸中で当東省に公知の
方法でtWO処理することができる。砂目立てしかつ陽
憾処理し7を表面に仄いで、当東省に公知である、−え
はポリビニルホスホン酸、珪酸ナトリウム等を用いる処
理によって親水性を付与することができる。こうして製
造しt板を次いで本発明の組成物で仮憶し、乾燥し、過
当なマスクを通して化学線照射に蕗元しかつ水性ベース
の現像液で現像する。
本発明の写真材料に使用するのに好適な現像液Ttl、
(alオクチル、デシル又はドデシルモノスルフェート
のナトリウム、カリウム又はリチウムm、(b)メタ珪
酸ナトリウム、−リチウム、−カリウム又は−アンモニ
ウム、(CLd[リチウム、−カリウム、−ナトリウム
又は−アンモニウム及び四次素原子Z〜6個をMする脂
肪族ゾ刀ルポン酸又は鎖酸のナトリウム、カリウム又は
アンモニウム塩及び(eJmvジー及び/又はトリーナ
トリウム又は−カリウムを苫有丁ゐアルカリ水#gt包
含する。
(alオクチル、デシル又はドデシルモノスルフェート
のナトリウム、カリウム又はリチウムm、(b)メタ珪
酸ナトリウム、−リチウム、−カリウム又は−アンモニ
ウム、(CLd[リチウム、−カリウム、−ナトリウム
又は−アンモニウム及び四次素原子Z〜6個をMする脂
肪族ゾ刀ルポン酸又は鎖酸のナトリウム、カリウム又は
アンモニウム塩及び(eJmvジー及び/又はトリーナ
トリウム又は−カリウムを苫有丁ゐアルカリ水#gt包
含する。
実施例
久に本発明を実施例につ@詳説するが、不発明はこnに
のみ限雉されるものではない。
のみ限雉されるものではない。
例 1
被ff1d液を下記組成により製造する:%(v/y]
(11エチレングリコールモノメチルエーテル 86
.LI65t2) nrR(8b % )
0.445+5+ 4−フェニ
ルアソシフェニルアミン Ll、063(6)ア
セトゾル・ファイア・レッド o、2bi]
7を編付生成’Ill!11 ―11記成分を連続してメチル・セロソルブ(エチレン
クリコールのモノエチルエーテル) 4bυg中に強力
に攪拌しながら加える。全ての成分が#fiL友後に、
浴液を痣通しかつスラリー砂目立てしかつ親水性にした
アルミニウム表面に71 rpmで破憶する。乾燥後、
仮をベルケイ(Berkey)/アスコール(Ascu
r)(24”X 2 e;’)露光ユニットを用い、ネ
ガフィルムを通して11 b mJ/cm”を用いて露
光して標準ストウファー(Stuuffer)’l 1
段階くさびでソリッド・ステップ6を得るようにする。
.LI65t2) nrR(8b % )
0.445+5+ 4−フェニ
ルアソシフェニルアミン Ll、063(6)ア
セトゾル・ファイア・レッド o、2bi]
7を編付生成’Ill!11 ―11記成分を連続してメチル・セロソルブ(エチレン
クリコールのモノエチルエーテル) 4bυg中に強力
に攪拌しながら加える。全ての成分が#fiL友後に、
浴液を痣通しかつスラリー砂目立てしかつ親水性にした
アルミニウム表面に71 rpmで破憶する。乾燥後、
仮をベルケイ(Berkey)/アスコール(Ascu
r)(24”X 2 e;’)露光ユニットを用い、ネ
ガフィルムを通して11 b mJ/cm”を用いて露
光して標準ストウファー(Stuuffer)’l 1
段階くさびでソリッド・ステップ6を得るようにする。
露光し友板を、次の成分;
%(v/v)
H2O91,7
オクチル億IIlナトリウム 2.
5メタ珪ばナトリウム I
J、1燐酸水素二ナトリウム 1
.5第王燐酸ナトリウム 1.
5修酸カリウム 1.
7テトラ硼酸カリウム 1.
UIUU、0 を有する水性アルカリ現像g(これは禾嬉元部分を味さ
、露光部分t′l[IIi壇として残す)で現像する。
5メタ珪ばナトリウム I
J、1燐酸水素二ナトリウム 1
.5第王燐酸ナトリウム 1.
5修酸カリウム 1.
7テトラ硼酸カリウム 1.
UIUU、0 を有する水性アルカリ現像g(これは禾嬉元部分を味さ
、露光部分t′l[IIi壇として残す)で現像する。
板を加水分解しtタピオカ澱粉約10慢及び燐酸(J、
5%t゛含有する水d欣で洗浄する。
5%t゛含有する水d欣で洗浄する。
製造した板をオフセット・シート・フエツド・プレス(
uffset 5heet fed prsas)上に
普通の印刷条件下に設置すると、良買な印刷部数45U
OOが得られる。
uffset 5heet fed prsas)上に
普通の印刷条件下に設置すると、良買な印刷部数45U
OOが得られる。
例 2(比較ン
例1を2型のジアゾ化合物だけt会計した自分率レベル
5.[Ll 06%で使用した味モ(す。標準ストファ
ー21階段くさびでソリッド・ステップ6を得るために
露光に際して24Ll〜/−にの工不ルイーを必要とす
る。製造した仮?オフセット・シートフエツドプレスに
音逼の印刷粂i’F’FK設置すると艮負な印刷部数は
600tJOである。
5.[Ll 06%で使用した味モ(す。標準ストファ
ー21階段くさびでソリッド・ステップ6を得るために
露光に際して24Ll〜/−にの工不ルイーを必要とす
る。製造した仮?オフセット・シートフエツドプレスに
音逼の印刷粂i’F’FK設置すると艮負な印刷部数は
600tJOである。
例 6 (比軟」
例1を1tiのジアゾ化合物たけt合訂し之自分4レベ
ル5.U Ll 6%で使用して!tlA返\す。標準
ストファー21#段くさびでソリッド・ステラ7’6に
侍る几めに露光に際して180 mj/cIn’のエネ
ルギーを必要とする。製造しt板倉オフセットシートフ
エノドゾレスに普通の印刷物件下に設置すると、艮貢な
印刷部数は8000である。
ル5.U Ll 6%で使用して!tlA返\す。標準
ストファー21#段くさびでソリッド・ステラ7’6に
侍る几めに露光に際して180 mj/cIn’のエネ
ルギーを必要とする。製造しt板倉オフセットシートフ
エノドゾレスに普通の印刷物件下に設置すると、艮貢な
印刷部数は8000である。
例 4
例1’!I−1削記尋液を電気化学的に砂目立てし、陽
鳴処理しかつ親水性にし几アルミニウム表向上に[憶す
ることt泳いて、味返りす。夷遺しfc板k、オフ七ッ
トシートフエノドプレス上ニ晋造の印刷栄件下に設置す
ると、良賞な印刷部! 数は265LIUOである。
鳴処理しかつ親水性にし几アルミニウム表向上に[憶す
ることt泳いて、味返りす。夷遺しfc板k、オフ七ッ
トシートフエノドプレス上ニ晋造の印刷栄件下に設置す
ると、良賞な印刷部! 数は265LIUOである。
例 5 (比軟)
例2忙、HiJs己M欣を(気化4的にσ目立てし、両
極処理しかつ親水性にしたアルミニウム表面に1慎する
ことを除いて、蝶返えす。裂這したatオフセットシー
トフエツドプレス上に普通の印刷条件ドに設置すると、
艮賞な印刷m畝:、:usouoが傅りれる。
極処理しかつ親水性にしたアルミニウム表面に1慎する
ことを除いて、蝶返えす。裂這したatオフセットシー
トフエツドプレス上に普通の印刷条件ドに設置すると、
艮賞な印刷m畝:、:usouoが傅りれる。
例 6(比e)
例6tS繭記醗液金(気化字面に砂目立てし、爾憔処理
しかり親水性にし几アルミニウム表ml上に破損するこ
とkmいて、様返入す。表遺しり板ヲオフセットシート
フエッドルス上に普通の印刷染汗下に設置すると、艮負
な印刷M数40000が得られる。
しかり親水性にし几アルミニウム表ml上に破損するこ
とkmいて、様返入す。表遺しり板ヲオフセットシート
フエッドルス上に普通の印刷染汗下に設置すると、艮負
な印刷M数40000が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、約100000から約800000より小さい範囲
の平均分子量を有するポリ酢酸ビニル樹脂、約5000
0を越えない平均分子量を有する式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Rは炭素原子1〜5個を有する低級脂肪族アルコ
ール残基である〕の共重合体、及び各々次の2種類: I 、各々、一般型E^+X^−とQとからの反復単位
よりなる感光性ジアゾニウム塩縮合生成物〔ここでE^
+X^−は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中−K−は▲数式、化学式、表等があります▼、−
S−、−O−、及び−CH_2から成る群から選択した
ものであるか又は単結合であり、R′はフェニル及びC
_1〜C_4アルキル置換フェニルから成る群から選択
したものであリ、P及びP_1はC_1〜C_4アルキ
ル、アルコキシ又はHから成る群から選択したものであ
り、P_1はPと同じであるか又は異なるものであり、
かつX^−は陰イオンである)の化合物の残基であり、
かつQは構造: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは▲数式、化学式、表等があります▼、−C
H_2OH、−CH_2O−(CH_2)_nCH_3
、▲数式、化学式、表等があります▼、−CH_2Cl
及び−CH_2Brから成る群から選択したものであり
、nは整数0〜3であり、Mは芳香族炭化水素、ジアリ
ールエーテル、ジアリールスルフアイド、ジアリールス
ルホン、ジアリールアミン、ジアリールケトン及びジア
リールジケトンから成る群から選択した芳香族基であり
、mは1〜6であり、YはCH_2又はCH_2−O−
CH_2から成る群から選択したものであり、かつTは Y=CH_2の場合にはRと同じものでありかつY=C
H_2−O−CH_2の場合にはHであり、M対E^+
X^−の比は少なくとも2:1である〕を有するオリゴ
マーの残基である〕であるジアゾ1、 II、各々、一般型A−N_2XとBとの反復単位よりな
る縮合生成物〔ここでA−N_2Xは、式:(R_1−
R_3−)_pR_2N_2X及び▲数式、化学式、表
等があります▼(式中、R_1は置換されているか又は
置換されていないフェニル又はナフチル基であり、R′
_1は置換されているか又は置換されていないフェニレ
ン又はナフチレン基であり、R_2は置換されているか
又は置換されていないフェニレン基であり、R_3は単
結合であるか又は基の左手の自由原子価がR_1と結合
しかつ右手の自由原子価がR_2と結合している基:−
(CH_2)_q−NR_4−、−O−(CH_2)_
r−NR_4−、−S−(CH_2)_r−NR_4−
、−S−CH_2−CO−NR_4−、−O−R_5−
O−、−O−、−S−又は−CO−NR_4−の1つで
あり、qは0〜5の数であり、rは2〜5の数であり、
R_4は水素、炭素原子1〜5個を有するアルキル、炭
素原子7〜12個を有するアルアルキル及び炭素原子6
〜12個を有するアリールから成る群から選択したもの
であり、R_5は炭素原子6〜12個を有するアリーレ
ン基であり、Yは基−NH−及び−O−の1つであり、
Xは陰イオンでありかつpは1〜3の数である)の1つ
の化合物から成る群から選択した化合物の残基であり、
Bは芳香族アミン、フェノール、チオフェノール、フェ
ニルエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族複素環式化
合物、芳香族炭化水素及び有機酸アミドから成る群から
選択したジアゾニウム基を有しない化合物の残基であり
、芳香族ジアゾニウム化合物の該重縮合生成物が平均し
てA−N_2X1単位当りB約0.1〜50単位を有す
る〕であるジアゾ2、 から選択した感光性のネガチブ作用ジアゾ ニウム塩縮合生成物少なくとも1種の混合 物から成る、感光性組成物。 2、ジアゾニウム化合物の総量が組成物の約20重量%
から約50重量%の範囲にある、特許請求の範囲第1項
に記載の組成物。 3、ポリ酢酸ビニル樹脂が組成物の約8重量%から約3
3重量%の量で存在する、特許 請求の範囲第1項に記載の組成物。 4、スチレン/マレイン酸半エステル共重合体が存在す
る場合には、組成物の約25重 量%から55電量%で存在する、特許 請求の範囲第1項に記載の組成物。 5、前記共重合体が約10000から約50000の範
囲の平均分子量を有する、特許請求の範囲第1項に記載
の組成物。 6、ジアゾ1対ジアゾ2の比が約0.95〜1.45の
範囲である、特許請求の範囲第1項記載の組成物。 7、その他に、露光指示薬、酸安定剤及び着色剤から成
る群から選択した1種又は多種の成分から成る、特許請
求の範囲第1項に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US686778 | 1984-12-27 | ||
US06/686,778 US4618562A (en) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61162038A true JPS61162038A (ja) | 1986-07-22 |
Family
ID=24757718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60292381A Pending JPS61162038A (ja) | 1984-12-27 | 1985-12-26 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4618562A (ja) |
EP (1) | EP0186156A3 (ja) |
JP (1) | JPS61162038A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01102456A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH02132443A (ja) * | 1987-11-02 | 1990-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン形成材料 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4786582A (en) * | 1985-08-02 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer for photosensitive coatings |
US5200291A (en) * | 1989-11-13 | 1993-04-06 | Hoechst Celanese Corporation | Photosensitive diazonium resin, element made therefrom, method of preparing the resin and method for producing negative lithographic image utilizing the resin |
EP0737894B1 (en) * | 1995-02-15 | 2000-06-07 | Agfa-Gevaert N.V. | A diazo based imaging element having improved storage stability |
DE69608734T2 (de) * | 1995-02-15 | 2000-11-23 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Lagerstabilität |
DE19518118C2 (de) * | 1995-05-17 | 1998-06-18 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
DE19524851C2 (de) * | 1995-07-07 | 1998-05-07 | Sun Chemical Corp | Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten |
DE19525050C2 (de) * | 1995-07-10 | 1999-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
DE19644515A1 (de) * | 1996-10-25 | 1998-06-25 | Sun Chemical Corp | Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
DE19847616C2 (de) * | 1998-10-15 | 2001-05-10 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen |
US6270938B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-08-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions |
KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2980534A (en) * | 1956-12-17 | 1961-04-18 | Monsanto Chemicals | Photographic compositions and photographic elements |
US3849392A (en) * | 1969-05-20 | 1974-11-19 | Kalle Ag | Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds |
US3679419A (en) * | 1969-05-20 | 1972-07-25 | Azoplate Corp | Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material |
US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
NL7009571A (ja) * | 1969-07-09 | 1971-01-12 | ||
BE789196A (fr) * | 1971-09-25 | 1973-03-22 | Kalle Ag | Matiere a copier photosensible |
NL7413844A (nl) * | 1974-10-23 | 1976-04-27 | Oce Van Der Grinten Nv | Lithografische kopieerfilm. |
JPS55527A (en) * | 1978-06-16 | 1980-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive planographic plate |
US4472494A (en) * | 1980-09-15 | 1984-09-18 | Napp Systems (Usa), Inc. | Bilayer photosensitive imaging article |
DE3273849D1 (en) * | 1981-03-20 | 1986-11-20 | Hoechst Co American | Light-sensitive polycondensation product, process for its preparation and light-sensitive recording material containing the same |
US4436804A (en) * | 1981-03-20 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive polymeric diazonium condensates and reproduction compositions and materials therewith |
DE3130987A1 (de) * | 1981-08-05 | 1983-02-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von flachdruckformen aus einem lichtempfindlichen material auf basis von diazoniumsalz-polykondensationsprodukten |
DE3311435A1 (de) * | 1983-03-29 | 1984-10-04 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches, diazoniumgruppen enthaltendes polykondensationsprodukt, verfahren zu seiner herstellung und lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial, das dieses polykondensationsprodukt enthaelt |
US4511640A (en) * | 1983-08-25 | 1985-04-16 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer |
-
1984
- 1984-12-27 US US06/686,778 patent/US4618562A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-12-20 EP EP85116339A patent/EP0186156A3/de not_active Withdrawn
- 1985-12-26 JP JP60292381A patent/JPS61162038A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01102456A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH02132443A (ja) * | 1987-11-02 | 1990-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン形成材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0186156A3 (de) | 1987-09-23 |
US4618562A (en) | 1986-10-21 |
EP0186156A2 (de) | 1986-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61162038A (ja) | 感光性組成物 | |
US4511640A (en) | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer | |
JPS61143748A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH04258956A (ja) | アルカリ現像性感光性樹脂組成物 | |
JPH03219249A (ja) | 高速スクリーン印刷組成物 | |
JPS62289834A (ja) | 感光性混合物及び感光性記録材料 | |
JPS6296506A (ja) | ポリビニルアセタ−ル樹脂、その製法及びこれを含有する感光性組成物 | |
JPS61100497A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPS6120939A (ja) | 平版印刷版用感光性組成物 | |
US3404003A (en) | Process for the preparation of a printing plate made from a diazonium salt mixed with an organic acid from the group consisting of phosphonic, phosphinic and arsonic acids | |
JPS63172154A (ja) | 感光性組成物及びこれを含有する感光性記録材料 | |
DE2211814A1 (de) | Lichtempfindliche Masse für vorsensibilisierte Druckplatten | |
US4539285A (en) | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography | |
US6132925A (en) | Silver halide light-sensitive material comprising support, hardening layer and light-sensitive layer | |
JPS62288829A (ja) | 感光性混合物及び感光性記録材料 | |
US3568598A (en) | Process of and composition for rendering hydrophilic an image area on a lithographic printing plate | |
US4687726A (en) | Photosensitive recording material for use in the production of negative-working planographic printing plates with diazonium polycondensate and inorganic pigment | |
US4446218A (en) | Sulfur and/or amide-containing exposure accelerators for light-sensitive coatings with diazonium compounds | |
JPH1010714A (ja) | 感光性組成物 | |
US4576899A (en) | Method for enhancing apparent photospeed of diazonium plates by using thiocyanate to insolubilize diazonium compound after photolysis | |
JPH11174674A (ja) | 感光性組成物およびそれを用いた平版印刷版の製造方法 | |
JPH0392391A (ja) | 板、フィルムまたはテープ状材料の製造方法および増感された平版印刷版の製造方法 | |
JPS5945976B2 (ja) | ナイロン系感光性樹脂組成物 | |
JPS61228438A (ja) | 感光性組成物 | |
JP3213673B2 (ja) | 印刷版の作成方法 |