JPS6115887A - 有機珪素化合物、その製造方法及び使用方法 - Google Patents
有機珪素化合物、その製造方法及び使用方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 15
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical class C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 claims 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims 1
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooct-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- PGAXIWNVZHFBQR-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5,5,6,6,7,7-nonafluoro-4-(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-pentacosafluorododecyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C2(F)C(F)=C(F)C1(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C2(F)F PGAXIWNVZHFBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXFODZUVHGVLFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5,5,6,6,7,7-nonafluoro-4-(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C2(F)C(F)=C(F)C1(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C2(F)F OXFODZUVHGVLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUFQTNFCRMXOAE-UHFFFAOYSA-N 1-methylmethylene Chemical compound C[CH] UUFQTNFCRMXOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 101100167062 Caenorhabditis elegans chch-3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100240528 Caenorhabditis elegans nhr-23 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003591 H2PtCl6.6H20 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical group [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical class C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 125000005401 siloxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- QFJIELFEXWAVLU-UHFFFAOYSA-H tetrachloroplatinum(2+) dichloride Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl QFJIELFEXWAVLU-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B24/40—Compounds containing silicon, titanium or zirconium or other organo-metallic compounds; Organo-clays; Organo-inorganic complexes
- C04B24/42—Organo-silicon compounds
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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- C07F7/12—Organo silicon halides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、弗素原子または弗素化炭化水素基を有する環
状炭化水素基を持つ新規のシランまたはシロキサン並び
にその製造方法およびそれを固体の表面、特に微細な珪
酸の表面の変性に用いる方法に関する。
状炭化水素基を持つ新規のシランまたはシロキサン並び
にその製造方法およびそれを固体の表面、特に微細な珪
酸の表面の変性に用いる方法に関する。
弗素原子または弗素化炭化水素基を有するシランまたは
シロキサンは、これらが塗布されている基材に防水性、
防油性および場合によっては防汚性を与える。それ故に
これらの化合物は無機−または有機材料の変性に効果的
に用いられる。か\る材料の例には、石膏、セメント、
モルタルの如き建築材料または、粘土またはその他の多
孔質材料より成るレンガ、石膏板、コンクリート製建材
の如き成形建材がある。
シロキサンは、これらが塗布されている基材に防水性、
防油性および場合によっては防汚性を与える。それ故に
これらの化合物は無機−または有機材料の変性に効果的
に用いられる。か\る材料の例には、石膏、セメント、
モルタルの如き建築材料または、粘土またはその他の多
孔質材料より成るレンガ、石膏板、コンクリート製建材
の如き成形建材がある。
弗素含有シランまたは一シロキサンの別の用途には、変
性された状態で種々の有機系媒体との改善された相容性
を示す顔料およびフィラーの変性がある。これは例えは
ビヒクル中に顔料を混入することを容易にすることおよ
び顔料が分離したり沈降したりする傾向を減少させるこ
とに現われる。
性された状態で種々の有機系媒体との改善された相容性
を示す顔料およびフィラーの変性がある。これは例えは
ビヒクル中に顔料を混入することを容易にすることおよ
び顔料が分離したり沈降したりする傾向を減少させるこ
とに現われる。
微細な特別の熱処理で得られる珪酸を変性した場合には
、これらが顔料の改善された浮遊状態、チクソトロピー
の変更および亜鉛末顔料のガス発生の低下を実現する。
、これらが顔料の改善された浮遊状態、チクソトロピー
の変更および亜鉛末顔料のガス発生の低下を実現する。
別の可能な用途は製紙工業にある。この場合には、これ
らの化合物を紙製造の際のパルプに加えたり、既に固体
化さhた未だ湿めっている巻取紙または完成紙に塗布し
てもよい。更に、弗素化珪素有機化合物は、フィラメン
トまたは糸の状態、織られた、編まれたまたは塗布され
た状態またはフリースの状態にある繊維材料の処理に適
している。
らの化合物を紙製造の際のパルプに加えたり、既に固体
化さhた未だ湿めっている巻取紙または完成紙に塗布し
てもよい。更に、弗素化珪素有機化合物は、フィラメン
トまたは糸の状態、織られた、編まれたまたは塗布され
た状態またはフリースの状態にある繊維材料の処理に適
している。
しかしながらこれらの化合物の製造には困難ががある。
弗素化炭化水素基を有するシロキサンの製造には、従来
技術によるとこれらの弗素化炭化水素基を有するシラン
から出発するのが有利である。その理由は、シランの5
iH−基へのフルオロアルキル−オレフィンの付加が同
じ81一原子に結合するハロゲン原子の存在によって容
易にされることにある。しかしながら、弗素化炭化水素
基な有するシランを加水分解および縮合する際に環状シ
ロキサンが特に形成されるので、これらのシランから前
述の構造のシロキサンを製造することに同様に困難があ
る。
技術によるとこれらの弗素化炭化水素基を有するシラン
から出発するのが有利である。その理由は、シランの5
iH−基へのフルオロアルキル−オレフィンの付加が同
じ81一原子に結合するハロゲン原子の存在によって容
易にされることにある。しかしながら、弗素化炭化水素
基な有するシランを加水分解および縮合する際に環状シ
ロキサンが特に形成されるので、これらのシランから前
述の構造のシロキサンを製造することに同様に困難があ
る。
しかしオレフィン二重結合を持つ弗素化炭化水素を水素
化シロキサンの8iH−基に付加しようとする場合には
、この付加反応が他の炭化水素基またはシロキシ基で8
1一原子が置換されることによって著しく困難に成るこ
とが判っている。
化シロキサンの8iH−基に付加しようとする場合には
、この付加反応が他の炭化水素基またはシロキシ基で8
1一原子が置換されることによって著しく困難に成るこ
とが判っている。
従って、シロキサンの構造によっておよび弗素化炭化水
素基の特別な性質によって性質を用途に合わせることの
できる化合物を製造する為に、前述の構造のシロキサン
中に弗素化炭化水素基を簡単に導入するという課題は、
従来技術によっては未だ満足に解決できない。
素基の特別な性質によって性質を用途に合わせることの
できる化合物を製造する為に、前述の構造のシロキサン
中に弗素化炭化水素基を簡単に導入するという課題は、
従来技術によっては未だ満足に解決できない。
驚ろくべきことに本発明者は、弗素原子または弗素化炭
化水素基が導入されているノルボルネン誘導体またはそ
の7−オキサ誘導体を5iH−基含有の有機珪素化合物
と反応させた場合に、弗素含有炭化水素基を簡単に有機
珪素化合物中に導入し得ることを見出した。
化水素基が導入されているノルボルネン誘導体またはそ
の7−オキサ誘導体を5iH−基含有の有機珪素化合物
と反応させた場合に、弗素含有炭化水素基を簡単に有機
珪素化合物中に導入し得ることを見出した。
本発明の新規のこの有機珪素化合物は、次式を有する。
)t%
式■は置換基H1−R8に関して特定の空間的構造に制
限されていない。このものは、あらゆる立体異性体形式
を包含する。
限されていない。このものは、あらゆる立体異性体形式
を包含する。
この式において、記号は次の意味を有する:Rは炭素原
子数1〜乙の炭化水素基である。この炭化水素基は脂肪
族系炭化水素基、例えばメチル−、エチル−、プロピル
−、フチルーマタハヘキシル基であり得る。しかし基R
はフェニル基であってもよい。基Rは殊にメチル−また
はフェニル基を意味するのが好ましく、特にメチル基を
意味するのが有利である。複数の基Rが珪素原子に結合
している場合には、この基の意味は互に相違していても
よい。基Rは置換されていてもよい。
子数1〜乙の炭化水素基である。この炭化水素基は脂肪
族系炭化水素基、例えばメチル−、エチル−、プロピル
−、フチルーマタハヘキシル基であり得る。しかし基R
はフェニル基であってもよい。基Rは殊にメチル−また
はフェニル基を意味するのが好ましく、特にメチル基を
意味するのが有利である。複数の基Rが珪素原子に結合
している場合には、この基の意味は互に相違していても
よい。基Rは置換されていてもよい。
基R1、R2、R3およびR4は互に同じでも異なって
いてもよく、水素原子またはメチル基である。
いてもよく、水素原子またはメチル基である。
基R5、R6、R7、R8は互に同じでも異なっていて
もよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜8の
炭化水素基、特に、大きい炭素原子数の場合に直鎖状ま
たは分校状であってもよい炭素原子数1〜8の脂肪族基
並びに弗素化炭化水素を意味し、但し基R5、R6、R
7、R8の少なくとも1つは弗素原子または弗素化炭化
水素であるべきである。弗素化炭化水素としては、炭素
原子数11〜ス20、特に1〜12の過弗化アルキル基
が特に適する。
もよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜8の
炭化水素基、特に、大きい炭素原子数の場合に直鎖状ま
たは分校状であってもよい炭素原子数1〜8の脂肪族基
並びに弗素化炭化水素を意味し、但し基R5、R6、R
7、R8の少なくとも1つは弗素原子または弗素化炭化
水素であるべきである。弗素化炭化水素としては、炭素
原子数11〜ス20、特に1〜12の過弗化アルキル基
が特に適する。
Yは、珪素原子に直接に結合している加水分解性の基、
水酸基またはオルガノシロキサニル基である。この種の
加水分解性の基は当業者に知られている。これらの中で
はノ10rン基および炭化水素オキシ基、特にアルコキ
シ基が適している。しかしYは炭化水素カルボキシ基、
例えばアセトキシ基または場合によってはアルキル化さ
れたアミン基であってもよい。オルガノシロキサニル基
は線状であっても分岐していてもよい。シロキサニル基
が式■の別の基、例えば I を持つことも可能である。
水酸基またはオルガノシロキサニル基である。この種の
加水分解性の基は当業者に知られている。これらの中で
はノ10rン基および炭化水素オキシ基、特にアルコキ
シ基が適している。しかしYは炭化水素カルボキシ基、
例えばアセトキシ基または場合によってはアルキル化さ
れたアミン基であってもよい。オルガノシロキサニル基
は線状であっても分岐していてもよい。シロキサニル基
が式■の別の基、例えば I を持つことも可能である。
Aは二価の炭化水素基または酸素原子である。
二価の炭化水素基としては〉aR:が特に適し、但しR
9は互に同じでも異なっていてもよく水素原子またはメ
チル基を意味する。従ってこの橋渡し基は、CHCH3
を意味し得る。
9は互に同じでも異なっていてもよく水素原子またはメ
チル基を意味する。従ってこの橋渡し基は、CHCH3
を意味し得る。
aは整数であり、0.1.2または3を意味する。
置換基が以下の意味を有する式夏の有機珪素化合物が特
に有利である二Rはメチル基であり;R1、R2、R3
、R4は水素原子および/またはメチル基であり;R5
、R6、R7、R8は水素原子、弗素原子または炭素原
子数1〜6の炭化水素基、特に脂肪族炭化水素基、また
は炭素原子数1〜200弗素化−1特に過弗素化−アル
キル基であり、但し基R5、R6、R7、R8の少なく
とも1つは弗素原子または弗素化アルキル基であるべき
である。
に有利である二Rはメチル基であり;R1、R2、R3
、R4は水素原子および/またはメチル基であり;R5
、R6、R7、R8は水素原子、弗素原子または炭素原
子数1〜6の炭化水素基、特に脂肪族炭化水素基、また
は炭素原子数1〜200弗素化−1特に過弗素化−アル
キル基であり、但し基R5、R6、R7、R8の少なく
とも1つは弗素原子または弗素化アルキル基であるべき
である。
Aはメチレン基または:;C(CHs)2を意味する。
指数aは0.1または2の値をとる。
Rがメチル基で、Hl 、 R2、R3、R4が水素原
子でそしてR5、H6、R7、R8が水素原子か基−C
yIH2n+xである式lの有機珪素化合物が特に有利
である。
子でそしてR5、H6、R7、R8が水素原子か基−C
yIH2n+xである式lの有機珪素化合物が特に有利
である。
本発明の変性有機珪素化合物の代表例には以下のものが
ある: 6F13 FF 本発明の別の対象は、これらの新規の有機珪素化合物の
製法にある。この本発明の方法は、一般式 %式% で表わされる有機珪素化合物とを、オレフィン二重結合
に一3iHを付加する為の自体公知の触媒の存在下に場
合によっては高温および/または高圧のもとで反応させ
ることを特徴とする。
ある: 6F13 FF 本発明の別の対象は、これらの新規の有機珪素化合物の
製法にある。この本発明の方法は、一般式 %式% で表わされる有機珪素化合物とを、オレフィン二重結合
に一3iHを付加する為の自体公知の触媒の存在下に場
合によっては高温および/または高圧のもとで反応させ
ることを特徴とする。
式■の化合物は、ディールス・アルダ−反応によってシ
クロペンタジェンあるいはフランとF−置換オレフィン
、とから公知の様に得られる。
クロペンタジェンあるいはフランとF−置換オレフィン
、とから公知の様に得られる。
本発明の方法は溶剤を用いずに実施できる。しかし反応
性8iH−基を持つ有機珪素化合物がその分子量および
その構造の為に高粘性である場合には、不活性溶剤、側
受ばトルエンを用いることを推奨する。反応は60℃以
上、特に70〜120°Cの温度のもとで満足できる速
度で進行する。高圧を用いることは必要ない、しかし反
応は圧力を高めることによって助成され得る。
性8iH−基を持つ有機珪素化合物がその分子量および
その構造の為に高粘性である場合には、不活性溶剤、側
受ばトルエンを用いることを推奨する。反応は60℃以
上、特に70〜120°Cの温度のもとで満足できる速
度で進行する。高圧を用いることは必要ない、しかし反
応は圧力を高めることによって助成され得る。
触媒としては、オレフィン二重結合と8iH−基との結
合の為の従来公知の付加触媒を用いることができる。こ
の種の触媒は白金触媒、例えばヘキサクロロ白金側酸の
如き塩素置換白金化合物が好ましい。
合の為の従来公知の付加触媒を用いることができる。こ
の種の触媒は白金触媒、例えばヘキサクロロ白金側酸の
如き塩素置換白金化合物が好ましい。
本発明の化合物は、容易に製造できるという長所を有し
ているだけでなく、固体、特に微細な珪酸の表面を変性
する際に特別の性質を示す。変性された珪酸と有機媒体
との改善された相容性ある(・は水との非相容性の為の
目安としては、メタノール価が有効である。このメタノ
ール価は、珪素原子の所に過弗素化アルキル基を直接的
に有しているポリシロキサンに比較して、本発明のノル
ボルニル誘導体を用いた場合には著しく高められる。
ているだけでなく、固体、特に微細な珪酸の表面を変性
する際に特別の性質を示す。変性された珪酸と有機媒体
との改善された相容性ある(・は水との非相容性の為の
目安としては、メタノール価が有効である。このメタノ
ール価は、珪素原子の所に過弗素化アルキル基を直接的
に有しているポリシロキサンに比較して、本発明のノル
ボルニル誘導体を用いた場合には著しく高められる。
それ故に、本発明の化合物で変性された珪酸は、特に有
機溶剤中に加えるのに並びに水性系の消泡剤を製造する
のに適している。
機溶剤中に加えるのに並びに水性系の消泡剤を製造する
のに適している。
更に本発明の化合物は、レンガ、石膏およびコンクリー
ト製建材の如き建材の表面処理に優れて適している。
ト製建材の如き建材の表面処理に優れて適している。
また本発明の化合物は、繊維材料の防水性−1防油性−
および防汚性含浸処理に特に適している。
および防汚性含浸処理に特に適している。
以下の実施例において、本化合物の製法および用途を更
に詳細に記す。
に詳細に記す。
実施例1
メチルジクロロシリル−ペルフルオロへキシルノルざル
ナンの製造: Ca(V2−乾燥用管状物の入った還流冷却器、温度計
、マグネットースタラーおよび加熱浴を備えた四つ首フ
ラスコ中に、3[1,9gの5−ペルフルオロへキシル
ノルボルネン−(21(75m mol )、1.51
のグリコールジメチルエーテル、および25ttilの
トルエンに61ngノH2PtCl6・6H20を溶解
した溶液を最初に導入し、70℃に加熱しそして13.
0F9 ノCH3H81C/2 (113,2m mo
l )を還流が最小限である様に滴加する(期間ニア分
)。次に更に3時間還流下に攪拌する。この場合、温度
が83℃から104℃に上昇する。過剰のCH3H81
CJl12およびトルエンを留去し、3 B、[] 9
の残渣を減圧下に分留する。
ナンの製造: Ca(V2−乾燥用管状物の入った還流冷却器、温度計
、マグネットースタラーおよび加熱浴を備えた四つ首フ
ラスコ中に、3[1,9gの5−ペルフルオロへキシル
ノルボルネン−(21(75m mol )、1.51
のグリコールジメチルエーテル、および25ttilの
トルエンに61ngノH2PtCl6・6H20を溶解
した溶液を最初に導入し、70℃に加熱しそして13.
0F9 ノCH3H81C/2 (113,2m mo
l )を還流が最小限である様に滴加する(期間ニア分
)。次に更に3時間還流下に攪拌する。この場合、温度
が83℃から104℃に上昇する。過剰のCH3H81
CJl12およびトルエンを留去し、3 B、[] 9
の残渣を減圧下に分留する。
第1留分 126〜b
第■留分 144〜148°C/ 8 Torr :
28.0.!i’第1留分 148〜b 残渣 :1.6.!i’ 第■留分のガスクロマトグラフ分析: 純度99.9%。
28.0.!i’第1留分 148〜b 残渣 :1.6.!i’ 第■留分のガスクロマトグラフ分析: 純度99.9%。
CJ:1 3.40%
cl
関して算出) : 13.47
1HNMR(CDCJs中):δ= 0.78 (a1
3H) ;δ−1,23(t、IH) ; δ= 1.35−2.31 (m、6H);δ−2,4
0−2,96(m、3H) 実施例2 ビス−1,3(ペルフルオロへキシルノルがルニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの製造: 還流冷却器、マグネット・スタラーおよび加熱浴を備え
た501フラスコ中に8.29のペルフルオロへキシル
ノルボルネン−(21および1.59のH2PtCAt
6・6H20を最初に導入し、65℃に加熱する。その
後に1.349の1.1 、り、3−テトラメチルージ
シロキサンを加える。この反応混合物を75℃で2時間
攪拌する。この反応混合物のガスクロマトグラフ分析に
て91.6%のビス−1゜3−(ペルフルオロへキシル
ノルボルニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサンが確認される。減圧下で揮発性成分を除いた生成
物の収率は8.4 g(理論値の88.4%)である。
3H) ;δ−1,23(t、IH) ; δ= 1.35−2.31 (m、6H);δ−2,4
0−2,96(m、3H) 実施例2 ビス−1,3(ペルフルオロへキシルノルがルニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの製造: 還流冷却器、マグネット・スタラーおよび加熱浴を備え
た501フラスコ中に8.29のペルフルオロへキシル
ノルボルネン−(21および1.59のH2PtCAt
6・6H20を最初に導入し、65℃に加熱する。その
後に1.349の1.1 、り、3−テトラメチルージ
シロキサンを加える。この反応混合物を75℃で2時間
攪拌する。この反応混合物のガスクロマトグラフ分析に
て91.6%のビス−1゜3−(ペルフルオロへキシル
ノルボルニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサンが確認される。減圧下で揮発性成分を除いた生成
物の収率は8.4 g(理論値の88.4%)である。
実施例3
式
を有するポリ(ペルフルオロへキシルノルボルニル)メ
チルシロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中で58.19のペルフルオロへ
キシルノルボルネン−+21(99,2%濃度、140
mmo1)、および61のグリコールジメチルエーテル
に4■のH2PtCA、・6H20を溶解した溶液11
1LI!を最初に導入し、70℃に加熱しそして攪拌下
に6.09のポリメチル水素化シロキサン(CH3)
3sio−(aH3sio−)4 (181(CH3,
) 3を35分間、温度が110℃を超えない様に滴加
する。シロキサンを約半分添加した後およびそれの添加
終了後に追加的に各1WLlの上記触媒溶液を添加しそ
してとの反応混合物を100℃のもとで3時間攪拌する
。
チルシロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中で58.19のペルフルオロへ
キシルノルボルネン−+21(99,2%濃度、140
mmo1)、および61のグリコールジメチルエーテル
に4■のH2PtCA、・6H20を溶解した溶液11
1LI!を最初に導入し、70℃に加熱しそして攪拌下
に6.09のポリメチル水素化シロキサン(CH3)
3sio−(aH3sio−)4 (181(CH3,
) 3を35分間、温度が110℃を超えない様に滴加
する。シロキサンを約半分添加した後およびそれの添加
終了後に追加的に各1WLlの上記触媒溶液を添加しそ
してとの反応混合物を100℃のもとで3時間攪拌する
。
その後に15 Torrおよび120℃のフラスコ温度
のもとで揮発性成分を除く。収量:未だ僅かに8iH基
を含有している4 3.7 gのシロキサン。
のもとで揮発性成分を除く。収量:未だ僅かに8iH基
を含有している4 3.7 gのシロキサン。
Si : 6.9重量%; F’ : 50.9重量%
。
。
実施例4
実施例3を繰り返えす、但し溶剤としての469のペン
シトリフルオライド中で実施する。反応の終了後にペン
シトリフルオライドおよび他の揮発性成分をi 5 T
orrの減圧下に125℃のフラスコ温度までに留去す
る。収量:6.8重量%の81および51.0重量−〇
Fを含有するシロキサン46.5II。
シトリフルオライド中で実施する。反応の終了後にペン
シトリフルオライドおよび他の揮発性成分をi 5 T
orrの減圧下に125℃のフラスコ温度までに留去す
る。収量:6.8重量%の81および51.0重量−〇
Fを含有するシロキサン46.5II。
実施例5
下記式のポリ(ペルフルオロドデシルノルボルニル)メ
チルシロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中で99.8 gのペルフルオロ
ドデシルノルボルネン−(2を溶融し、31のジエチレ
ングリコールジメチルエーテルに4mgのH2PtCA
!、・6H20を溶解した溶液11を攪拌下に添加しそ
して100℃のもとで6.4IC100yxValの8
1H)のポリメチル水素化シロキサン(CH3) 3S
iO−[CH35iO−:I 43Si (CHr3)
、を40分に亘つて滴加する。シロキサンを約半分添
加した後および添加終了後に追加的に各1 yxlの上
記触媒溶液を添加し、次に反応混合物を110〜115
℃のもとで4時間攪拌する。反応生成物を1009の1
.2.2−トリフルオロエタンに溶解し、攪拌下に25
0gのアセトン中に注ぎ込み、沈殿する生成物を分離し
そ17て100℃/ 1Torrのもとで乾燥させる。
チルシロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中で99.8 gのペルフルオロ
ドデシルノルボルネン−(2を溶融し、31のジエチレ
ングリコールジメチルエーテルに4mgのH2PtCA
!、・6H20を溶解した溶液11を攪拌下に添加しそ
して100℃のもとで6.4IC100yxValの8
1H)のポリメチル水素化シロキサン(CH3) 3S
iO−[CH35iO−:I 43Si (CHr3)
、を40分に亘つて滴加する。シロキサンを約半分添
加した後および添加終了後に追加的に各1 yxlの上
記触媒溶液を添加し、次に反応混合物を110〜115
℃のもとで4時間攪拌する。反応生成物を1009の1
.2.2−トリフルオロエタンに溶解し、攪拌下に25
0gのアセトン中に注ぎ込み、沈殿する生成物を分離し
そ17て100℃/ 1Torrのもとで乾燥させる。
収量:4.3重量−の81臓よび59.9重量%のFを
含有するポリシロキサン67.3実施例6 以下の平均的式を有するポリジメチル−(ペルフルオロ
へキシルノルギルニル−メチル)シロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中に20.5 、fのペルフルオ
ロへキシルノルがルネンーt21 (50m mob
)、および1.5111のグリコールジメチルエーテル
Ic 3mp・丙のH2PtC/、・6H20を溶解し
た溶液を最初に準備し、攪拌下に60°OK加温しそし
て60分の間に下記平均式のシロキサン23.2 、!
9を滴加する:この反応混合物を75℃のもとで更に3
時間攪拌し、その際に1時間40分後に元は不均一な反
応混合物が均一に成る。この反応混合物から減圧(13
0℃のフラスコ温度、20 Torr )下に揮発性成
分を除く。収率:39.2.i9(理論値の 89.7
チ)。
含有するポリシロキサン67.3実施例6 以下の平均的式を有するポリジメチル−(ペルフルオロ
へキシルノルギルニル−メチル)シロキサンの製造: 実施例1に記載の装置中に20.5 、fのペルフルオ
ロへキシルノルがルネンーt21 (50m mob
)、および1.5111のグリコールジメチルエーテル
Ic 3mp・丙のH2PtC/、・6H20を溶解し
た溶液を最初に準備し、攪拌下に60°OK加温しそし
て60分の間に下記平均式のシロキサン23.2 、!
9を滴加する:この反応混合物を75℃のもとで更に3
時間攪拌し、その際に1時間40分後に元は不均一な反
応混合物が均一に成る。この反応混合物から減圧(13
0℃のフラスコ温度、20 Torr )下に揮発性成
分を除く。収率:39.2.i9(理論値の 89.7
チ)。
実施例7
下記の平均式を有するポリ−(ドデシルメチル)−(ペ
ルフルオロオクチルノルボルニル−メチル)一シロキサ
ンの製造: 実施例1に記載の装置中に20.611のペルフルオロ
オクチルノルボルネン−121(50m l+101
)、および1.51のグリコールジメチルエーテルに3
9へのa2ptcz、、・6H20を溶解した溶液を最
初に導入し、攪拌下に60℃に加熱しそして下記の平均
式0式% を滴加し1. 65℃のもとで20分間攪拌し、次に26.9 gのド
デセン−1l1(160mmol )を滴加する。揮発
性成分を減圧下に留去する。収ik=上記式のポリシロ
キサン56.19 (理論値の97.1%)。
ルフルオロオクチルノルボルニル−メチル)一シロキサ
ンの製造: 実施例1に記載の装置中に20.611のペルフルオロ
オクチルノルボルネン−121(50m l+101
)、および1.51のグリコールジメチルエーテルに3
9へのa2ptcz、、・6H20を溶解した溶液を最
初に導入し、攪拌下に60℃に加熱しそして下記の平均
式0式% を滴加し1. 65℃のもとで20分間攪拌し、次に26.9 gのド
デセン−1l1(160mmol )を滴加する。揮発
性成分を減圧下に留去する。収ik=上記式のポリシロ
キサン56.19 (理論値の97.1%)。
比較例(本発明によらない)
1、 ペルフルオロヘキシルエチレンと1,1,3゜
6−テトラメチルジシロキサンとの反応の実験;還流冷
却器、マグネット・スタラー、温度計および加熱浴を備
えた50m1フラスコ中で7.0Iのペルフルオロヘキ
シルエチレン(20mmo1)、および1.51のグリ
コールジメチルエーテルに1.59のH2PtC/ 、
・6H20を溶解した溶液を最初に導入し、60℃に加
温し、次に1.34.901,1゜6.3−テトラメチ
ルジシロキサンを加えそして70〜75℃のもとで26
時間攪拌する。ガスクロマトグラフ分析にて、未同定の
種々の生成物の中に、用いたペルフルオロヘキシルエチ
レンの92%が未反応のま\存在していることが確認さ
れる。
6−テトラメチルジシロキサンとの反応の実験;還流冷
却器、マグネット・スタラー、温度計および加熱浴を備
えた50m1フラスコ中で7.0Iのペルフルオロヘキ
シルエチレン(20mmo1)、および1.51のグリ
コールジメチルエーテルに1.59のH2PtC/ 、
・6H20を溶解した溶液を最初に導入し、60℃に加
温し、次に1.34.901,1゜6.3−テトラメチ
ルジシロキサンを加えそして70〜75℃のもとで26
時間攪拌する。ガスクロマトグラフ分析にて、未同定の
種々の生成物の中に、用いたペルフルオロヘキシルエチ
レンの92%が未反応のま\存在していることが確認さ
れる。
L ペルフルオロヘキシルエチレンと下記の平均式を有
するポリメチル水素化シロキサンとの反応の実験: 実施例1に記載の装置中に、37.7.9のペルフルオ
ロヘキシルエチレン、34w1gの蒸留したテトラヒド
ロフラン、および5 dのテトラヒドロ7ランに5〜の
H2PtC/6・6H20を溶解した溶液の半分より成
る溶液の半分を最初に導入し、7℃で30分攪拌する。
するポリメチル水素化シロキサンとの反応の実験: 実施例1に記載の装置中に、37.7.9のペルフルオ
ロヘキシルエチレン、34w1gの蒸留したテトラヒド
ロフラン、および5 dのテトラヒドロ7ランに5〜の
H2PtC/6・6H20を溶解した溶液の半分より成
る溶液の半分を最初に導入し、7℃で30分攪拌する。
次いで、111蒸留したテトラヒドロフランに6.0g
の上記のポリメチル水素化シロキサンを溶解した溶液を
23℃のもとで滴加する。
の上記のポリメチル水素化シロキサンを溶解した溶液を
23℃のもとで滴加する。
ポリメチル水素化シロキサンの半分の童を添加した後V
C,2番目の半分の量のペルフルオロヘキシルエチレン
溶液および2番目の半分の量の触媒溶液を加える(期間
:2時間)。温度を35℃に高め、この温度のもとで更
に4時間攪拌する。次にこの反応混合物を1gの活性炭
と一諸に攪拌しそして濾過する。
C,2番目の半分の量のペルフルオロヘキシルエチレン
溶液および2番目の半分の量の触媒溶液を加える(期間
:2時間)。温度を35℃に高め、この温度のもとで更
に4時間攪拌する。次にこの反応混合物を1gの活性炭
と一諸に攪拌しそして濾過する。
活性炭を添加する前に既に、個別的なrル粒子が観察さ
れ得る。反応混合物を濾過する際に、濾過を完全に妨害
するゲルの発生がある。
れ得る。反応混合物を濾過する際に、濾過を完全に妨害
するゲルの発生がある。
実施例8(本発明の化合物の使用例)
混合装置中に、200m2/gの固有表面積を有する高
分散珪酸1000gを最初に導入し、2400gへの適
当な溶剤中に試験すべき化合物100gを溶解した溶液
と激しく混合する。1時間の混合時間の後に溶剤を、1
40〜160℃の温度、大気圧のもとで2時間の間に除
く。次に、今は溶剤を含ます且つ有効物質で被覆された
この高分散珪酸を、その表面に処理剤を固着させる為に
更に2時間、180℃に加熱する。冷却後に、珪酸の疎
水性を次の方法で測定する: 振盪用フラスコ中に50mgのH2Oおよび肌2gの処
理済み珪酸を最初に導入し、水不含のメタノールにて、
全ての珪酸が水性メタノール相中に分散するまで滴定す
る。滴定の終点は、表面に10個より少ない可視珪酸粒
子が浮かんでいる時に達せられる。メタノール価は、 501118 H2O+ 1111; CH30Hに従
って算出される。メタノール価は、疎水性の度合の目安
であり、臨界湿潤張力(kritiacheBen13
1ung88pannung )と関連している。臨界
湿潤張力より上では、処理済み基材の湿潤がもはや不可
能である。
分散珪酸1000gを最初に導入し、2400gへの適
当な溶剤中に試験すべき化合物100gを溶解した溶液
と激しく混合する。1時間の混合時間の後に溶剤を、1
40〜160℃の温度、大気圧のもとで2時間の間に除
く。次に、今は溶剤を含ます且つ有効物質で被覆された
この高分散珪酸を、その表面に処理剤を固着させる為に
更に2時間、180℃に加熱する。冷却後に、珪酸の疎
水性を次の方法で測定する: 振盪用フラスコ中に50mgのH2Oおよび肌2gの処
理済み珪酸を最初に導入し、水不含のメタノールにて、
全ての珪酸が水性メタノール相中に分散するまで滴定す
る。滴定の終点は、表面に10個より少ない可視珪酸粒
子が浮かんでいる時に達せられる。メタノール価は、 501118 H2O+ 1111; CH30Hに従
って算出される。メタノール価は、疎水性の度合の目安
であり、臨界湿潤張力(kritiacheBen13
1ung88pannung )と関連している。臨界
湿潤張力より上では、処理済み基材の湿潤がもはや不可
能である。
次の表に結果を総括掲載する。
Claims (8)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、 R^1、R^2、R^3、R^4は互に同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子またはメチル基であり、R^5
、R^6、R^7、R^8は互に同じでも異なっていて
もよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜8の
炭化水素基または弗素化炭化水素基であり、但し基R^
5、R^6、R^7、R^8の少なくとも1つは弗素原
子または弗素化炭化水素基であるべきであり、 Yは加水分解性基、水酸基またはオルガノシロキサニル
基であり、 Aは>CR^9_2または>Oであり、R^9は同じで
も異なっていてもよく水素原子またはメチル基であり、 aは0、1、2または6である。〕 で表わされる有機珪素化合物。 - (2)Rはメチル基を意味し、 R^1、R^2、R^3、R^4は互に同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子またはメチル基を意味し、R^
5、R^6、R^7、R^8は互に同じでも異なってい
てもよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜6
の炭化水素基または炭素原子数1〜20の弗素化−、特
に過弗素化−アルキル基を意味し、但し基R^5、R^
6、R^7、R^8の少なくとも1つは弗素原子または
弗素化アルキル基であるべきであり、 Aは>CH_2、>C(CH_3)_2を意味し、aは
0、1または1を意味する 特許請求の範囲第1項記載の有機珪素化合物。 - (3)Rはメチル基を意味し、 R^1、R^2、R^3、R^4は水素原子を意味し、
R^5、R^6、R^7、R^8は互に同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子またはC_nF_2_n_+_
1−基を意味し、但し基R^5、R^6、R^7、R^
8の少なくとも1つは過弗化アルキル基である 特許請求の範囲第1項記載の有機珪素化合物。 - (4)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、 R^1、R^2、R^3、R^4は互に同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子またはメチル基であり、R^5
、R^6、R^7、R^8は互に同じでも異なっていて
もよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜8の
炭化水素基または弗素化炭化水素基であり、但し基R^
5、R^6、R^7、R^8の少なくとも1つは弗素原
子または弗素化炭化水素であるべきであり、 Yは加水分解性基、水酸基またはオルガノシロキサニル
基であり、 Aは>CR^9_2または>Oであり、R^9は同じで
も異なっていてもよく水素原子またはメチル基であり、 aは0、1、2または3である。〕 で表わされる有機珪素化合物を製造するに当って、一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^6、R
^6、R^7、R^8及びAは上述の通りである) で表わされる2−ノルボルネン誘導体と式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Y、R_a、aは上述の通りである)で表わさ
れる有機珪素化合物とを、オレフィン二重結合に−Si
Hを付加する為の自体公知の触媒の存在下に場合によっ
ては高温および/または高圧のもとで反応させることを
特徴とする、上記有機珪素化合物の製造方法。 - (5)触媒として、塩素化白金化合物、特にH_2Pt
Cl_6を用いる特許請求の範囲第4項記載の方法。 - (6)反応を70〜120℃の温度のもとで実施する特
許請求の範囲第4項記載の方法。 - (7)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、 R^1、R^2、R^3、R^4は互に同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子またはメチル基であり、R^5
、R^6、R^7、R^8は互に同じでも異なっていて
もよく、水素原子、弗素原子または炭素原子数1〜8の
炭化水素基または弗素化炭化水素基であり、但し基R^
5、R^6、R^7、R^8の少なくとも1つは弗素原
子または弗素化炭化水素基であるべきであり、 Yは加水分解性基、水酸基またはオルガノシロキサニル
基であり、 Aは>CR^9_2または>Oであり、R^9は同じで
も異なっていてもよく水素原子またはメチル基であり、 aは0、1、2または3である。〕 で表わされる有機珪素化合物を固体の表面の変性に用い
る方法。 - (8)固体が微細な珪酸である特許請求の範囲第7項記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3423608A DE3423608A1 (de) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Fluoralkylsilane oder -siloxane, deren herstellung und verwendung |
DE3423608.2 | 1984-06-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6115887A true JPS6115887A (ja) | 1986-01-23 |
JPH0134995B2 JPH0134995B2 (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=6239228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60096574A Granted JPS6115887A (ja) | 1984-06-27 | 1985-05-07 | 有機珪素化合物、その製造方法及び使用方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4642356A (ja) |
EP (1) | EP0168645B1 (ja) |
JP (1) | JPS6115887A (ja) |
DE (2) | DE3423608A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009120488A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-06-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ノルボルナン骨格含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
US8034965B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-10-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Norbornane skeleton structure-containing organosilicon compound and method of producing same |
JP2016524589A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-08-18 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | 高屈折率シロキサン |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3635093C1 (de) * | 1986-10-15 | 1988-03-10 | Goldschmidt Ag Th | Neue Fluor enthaltende Siloxane,ihre Herstellung und Verwendung als Mittel zum Entschaeumen |
JPH0813821B2 (ja) * | 1987-09-28 | 1996-02-14 | 東芝シリコーン株式会社 | ビニルシラン化合物 |
JPH0196188A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-14 | Toshiba Silicone Co Ltd | 5−ビニルビシクロ〔2.2.1〕ヘプチルトリクロロシランの製造方法 |
JPH01132591A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Toshiba Silicone Co Ltd | 二量体化されたビニルビシクロヘプチル基含有ケイ素化合物およびその製造方法 |
FR2632962A1 (fr) * | 1988-06-17 | 1989-12-22 | Pola Chem Ind Inc | Poudres a revetement hydrofuge et oleofuge leur procede de production et produits cosmetiques les contenant |
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NZ303624A (en) * | 1995-03-08 | 1999-01-28 | Du Pont | Reactive organosilicons as coatings, adhesives, and sealants |
GC0000046A (en) * | 1998-02-26 | 2004-06-30 | Shell Int Research | Compositions for use in well construction, repair and/or abandonment. |
DE10147625C1 (de) * | 2001-09-27 | 2002-10-31 | Consortium Elektrochem Ind | Norbornylsubstituierte Silane und deren Verwendung |
US8131342B2 (en) * | 2004-08-24 | 2012-03-06 | General Electric Company | Method and system for field mapping using integral methodology |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB761505A (en) * | 1954-08-23 | 1956-11-14 | Velsicol Chemical Corp | Improvements in or relating to novel silanes and organosiloxane polymers and processes for preparing same |
US2884434A (en) * | 1957-03-07 | 1959-04-28 | Dow Corning | Haloorgano silcarbane siloxanes |
US3994947A (en) * | 1971-02-02 | 1976-11-30 | Copolymer Rubber & Chemical Corporation | Fulvene-silane adduct and ethylene interpolymers embodying same |
DE2614608C3 (de) * | 1976-04-05 | 1980-04-03 | Aleksej Ivanovitsch Ponomarev | Perfluoralkylphenyl- und Perfluoralkoxyphenyl-methyldichlorsilane sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
US4381396A (en) * | 1982-07-07 | 1983-04-26 | General Electric Company | Silynorbornane anhydrides and method for making |
CA1204760A (en) * | 1982-11-18 | 1986-05-20 | Hong-Son Ryang | Silicone-polyimide copolymers, condensation vulcanizable compositions obtained therefrom, and methods for making |
-
1984
- 1984-06-27 DE DE3423608A patent/DE3423608A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-05-07 JP JP60096574A patent/JPS6115887A/ja active Granted
- 1985-06-14 EP EP85107378A patent/EP0168645B1/de not_active Expired
- 1985-06-14 US US06/745,258 patent/US4642356A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-06-14 DE DE8585107378T patent/DE3566890D1/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
CHEMICAL ABSTRACTS=1967 * |
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US10570162B2 (en) | 2013-03-14 | 2020-02-25 | Momentive Performace Materials Inc. | High refractive index siloxanes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0168645B1 (de) | 1988-12-21 |
DE3566890D1 (en) | 1989-01-26 |
EP0168645A3 (en) | 1986-02-05 |
US4642356A (en) | 1987-02-10 |
DE3423608A1 (de) | 1986-01-02 |
JPH0134995B2 (ja) | 1989-07-21 |
EP0168645A2 (de) | 1986-01-22 |
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