JP3349735B2 - ヒドロシリル化法 - Google Patents
ヒドロシリル化法Info
- Publication number
- JP3349735B2 JP3349735B2 JP32679692A JP32679692A JP3349735B2 JP 3349735 B2 JP3349735 B2 JP 3349735B2 JP 32679692 A JP32679692 A JP 32679692A JP 32679692 A JP32679692 A JP 32679692A JP 3349735 B2 JP3349735 B2 JP 3349735B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- atom
- carbon atoms
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 51
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 33
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 10
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- -1 polysiloxanes Polymers 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- GUSQYBRZWHTZGT-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylsilane Chemical compound CCCCC=C[SiH3] GUSQYBRZWHTZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- XQOLMPJRVURWFY-UHFFFAOYSA-N dichloro-hex-5-enyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCC=C XQOLMPJRVURWFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BARXLYNPSKAQQC-UHFFFAOYSA-N hex-5-enyl-[hex-5-enyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=CCCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCCC=C BARXLYNPSKAQQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N tetradeca-1,13-diene Chemical compound C=CCCCCCCCCCCC=C XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 241000682622 Andracantha sigma Species 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019032 PtCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N butenyne Chemical group C=CC#C WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXQDLAPWGSRDCV-UHFFFAOYSA-N dichloro-[14-[dichloro(methyl)silyl]tetradecyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl PXQDLAPWGSRDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDFFILGCGJJGOS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[6-[dichloro(methyl)silyl]hexyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl NDFFILGCGJJGOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHSOOADWBVJAOF-UHFFFAOYSA-N dichloro-hex-1-enyl-methylsilane Chemical compound CCCCC=C[Si](C)(Cl)Cl CHSOOADWBVJAOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRNUBUXSHRXLQV-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-tetradec-13-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCCC=C XRNUBUXSHRXLQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSXKBBEJCDMBT-UHFFFAOYSA-M lead(2+);octanoate Chemical compound [Pb+2].CCCCCCCC([O-])=O DSSXKBBEJCDMBT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
- C07F7/0878—Si-C bond
- C07F7/0879—Hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、≡ＳｉＨ基を有する珪
素化合物とジエン類との反応を含むオルガノシリコーン
物質の製造方法に関する。
素化合物とジエン類との反応を含むオルガノシリコーン
物質の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】≡ＳｉＨ基を有するシリコーン化合物類
例えばシラン類及びポリシロキサン類と、オレフィン性
またはアセチレン性不飽和結合を有する化合物類との反
応は周知である。この操作はしばしばヒドロシリル化
（以下に、ハイドロシリレーションとも記載する）また
はヒドロシル化と呼ばれ、オルガノシリコーン物質の合
成方法として広く使用されている。ヒドロシリル化反応
を促進するために有効である多数の触媒が知られている
が、最も普通には白金、ロジウム及びパラジウムのよう
な遷移金属の化合物類または錯化合物類である。該触媒
類の例はハロゲン化白金及びハロゲン化ロジウム例えば
H２PtCl6、PtCl2、RhCl3、RhCl3(SEt２)3(Etはエチル基
を表す)、Rh2(CO)4Cl2、塩化白金と不飽和基を有するシ
ロキサン類との錯化合物、及び白金化合物類とオレフィ
ン類との錯化合物である。
例えばシラン類及びポリシロキサン類と、オレフィン性
またはアセチレン性不飽和結合を有する化合物類との反
応は周知である。この操作はしばしばヒドロシリル化
（以下に、ハイドロシリレーションとも記載する）また
はヒドロシル化と呼ばれ、オルガノシリコーン物質の合
成方法として広く使用されている。ヒドロシリル化反応
を促進するために有効である多数の触媒が知られている
が、最も普通には白金、ロジウム及びパラジウムのよう
な遷移金属の化合物類または錯化合物類である。該触媒
類の例はハロゲン化白金及びハロゲン化ロジウム例えば
H２PtCl6、PtCl2、RhCl3、RhCl3(SEt２)3(Etはエチル基
を表す)、Rh2(CO)4Cl2、塩化白金と不飽和基を有するシ
ロキサン類との錯化合物、及び白金化合物類とオレフィ
ン類との錯化合物である。
【０００３】種々のオルガノシリコーン化合物類がヒド
ロシリル化法により合成できる。オルガノ官能性のシラ
ン類およびシロキサン類は、シランまたはシロキサンの
≡ＳｉＨをオレフィン性不飽和化合物例えばアリルクロ
ライドまたはアリルグリシジルエーテルへ付加すること
により得ることができる。同様の方法において、≡Ｓｉ
Ｈをオレフィン例えばヘキセン−１またはデセン−１と
反応させてそれぞれ珪素と結合したヘキシル基またはデ
シル基を有するシランまたはシロキサン造ることができ
る。またヒドロシリル化反応は、≡ＳｉＨとジエン類と
を反応させることによりオレフィン性不飽和結合を含む
珪素と結合した基を有するオルガノシリコーン化合物を
得るのに使用することができる。得られた不飽和オルガ
ノシリコーン化合物類はこれを他のオルガノシリコーン
化合物と反応させてエラストマー類、及びプラスチッ
ク、紙及び他の支持体上の皮膜のような有用な生成物を
得ることができる。しかし、本発明者らは、このヒドロ
シリル化反応中に所望の珪素と結合した基中の二重結合
が末端位置から内部へ移行する異性化が若干生ずること
を見出した。上述のような内部不飽和結合を有する生成
物はエラストマー類及び他の生成物を製造するための更
なるヒドロシリル化反応に対して低反応性を示し、従っ
て、反応生成物中の所望でない成分である。
ロシリル化法により合成できる。オルガノ官能性のシラ
ン類およびシロキサン類は、シランまたはシロキサンの
≡ＳｉＨをオレフィン性不飽和化合物例えばアリルクロ
ライドまたはアリルグリシジルエーテルへ付加すること
により得ることができる。同様の方法において、≡Ｓｉ
Ｈをオレフィン例えばヘキセン−１またはデセン−１と
反応させてそれぞれ珪素と結合したヘキシル基またはデ
シル基を有するシランまたはシロキサン造ることができ
る。またヒドロシリル化反応は、≡ＳｉＨとジエン類と
を反応させることによりオレフィン性不飽和結合を含む
珪素と結合した基を有するオルガノシリコーン化合物を
得るのに使用することができる。得られた不飽和オルガ
ノシリコーン化合物類はこれを他のオルガノシリコーン
化合物と反応させてエラストマー類、及びプラスチッ
ク、紙及び他の支持体上の皮膜のような有用な生成物を
得ることができる。しかし、本発明者らは、このヒドロ
シリル化反応中に所望の珪素と結合した基中の二重結合
が末端位置から内部へ移行する異性化が若干生ずること
を見出した。上述のような内部不飽和結合を有する生成
物はエラストマー類及び他の生成物を製造するための更
なるヒドロシリル化反応に対して低反応性を示し、従っ
て、反応生成物中の所望でない成分である。
【０００４】今般、本発明者らは驚くべきことに、≡Ｓ
ｉＨ基のジエン類への付加中に生ずる二重結合の移行量
が、固体支持体に化学的に結合した特定の白金化合物類
及び錯化合物類からなる触媒の使用により顕著に減少で
きることを見出した。粒子状固体支持体へ化学的に結合
した特定の白金化合物類がペンテン−１、ヘキセン−
２、アセチレン及びブタジエンを含む不飽和オレフィン
質化合物類のヒドロシリル化触媒として使用できること
は英国特許第１,526,324号明細書に開示されている。し
かし、この英国特許第１,526,324号明細書には、上記触
媒を使用すると生成物中の二重結合内部移行量の望まし
い減少を生ずることができることを開示も示唆もしては
いない。英国特許第2,145,701A号明細書(特開昭60−841
44号公報)は、Ｐｔ−Ｓ結合を介して化学的に結合した
白金原子を有するヒドロキシル化された珪素酸化物また
はアルミニウム酸化物よりなるヒドロキシル化触媒を開
示している。ヒドロキシル化反応を実施する際に使用で
きる種々の不飽和化合物類として、エチレン、プロピレ
ン、スチレン、ビニル−アセチレン、ブタジエン及びペ
ンタジエンが記載されている。しかし、不飽和結合が末
端炭素原子だけに位置するジエンの使用について並びに
本発明に従ってジエン類を使用することに付随する利点
についての特別の開示はない。
ｉＨ基のジエン類への付加中に生ずる二重結合の移行量
が、固体支持体に化学的に結合した特定の白金化合物類
及び錯化合物類からなる触媒の使用により顕著に減少で
きることを見出した。粒子状固体支持体へ化学的に結合
した特定の白金化合物類がペンテン−１、ヘキセン−
２、アセチレン及びブタジエンを含む不飽和オレフィン
質化合物類のヒドロシリル化触媒として使用できること
は英国特許第１,526,324号明細書に開示されている。し
かし、この英国特許第１,526,324号明細書には、上記触
媒を使用すると生成物中の二重結合内部移行量の望まし
い減少を生ずることができることを開示も示唆もしては
いない。英国特許第2,145,701A号明細書(特開昭60−841
44号公報)は、Ｐｔ−Ｓ結合を介して化学的に結合した
白金原子を有するヒドロキシル化された珪素酸化物また
はアルミニウム酸化物よりなるヒドロキシル化触媒を開
示している。ヒドロキシル化反応を実施する際に使用で
きる種々の不飽和化合物類として、エチレン、プロピレ
ン、スチレン、ビニル−アセチレン、ブタジエン及びペ
ンタジエンが記載されている。しかし、不飽和結合が末
端炭素原子だけに位置するジエンの使用について並びに
本発明に従ってジエン類を使用することに付随する利点
についての特別の開示はない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、
（Ａ）分子中に少なくとも１個の珪素と結合した水素原
子を有するシリコーン化合物と、（Ｂ）少なくとも５個
の炭素原子を有しかつ不飽和結合が末端炭素原子に位置
するジエンとを、（Ｃ）（ｉ）表面反応性基を有する無
機質固体と、（ｉｉ）一般式
（Ａ）分子中に少なくとも１個の珪素と結合した水素原
子を有するシリコーン化合物と、（Ｂ）少なくとも５個
の炭素原子を有しかつ不飽和結合が末端炭素原子に位置
するジエンとを、（Ｃ）（ｉ）表面反応性基を有する無
機質固体と、（ｉｉ）一般式
【化２】 [式中、Ｚは（ｉ）中の表面反応性基と反応する原子ま
たは基を表し、Ｒはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素
原子数１〜６個の１価の炭化水素基、炭素原子数１〜６
個のアルコキシ基、または炭素原子数１４個以下のオキ
シム基を表し、Ｒ’はそれぞれ炭素原子数１〜８個の１
価の炭化水素基を表し、Ｘは１１個までの炭素原子を有
しかつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、且つ珪素−炭
素結合を介して珪素へ結合する１価の基であって、Ｘ中
には少なくとも１個の窒素原子が存在し、ａは０または
１〜２０の整数である]のオルガノシリコーン化合物
と、（ｉｉｉ）白金化合物または錯化合物ＰｔＬｂ（式
中、Ｌはアミノ基により置換可能である少なくとも１個
の配位子を表し、ｂはＰｔの遊離の原子価を満足する数
である）との反応により調製された触媒の存在下で反応
させることからなる、オレフィン性不飽和結合を含み、
且つ珪素と結合した、炭化水素基を有するオルガノシリ
コーン化合物の調製方法を提供するにある。
たは基を表し、Ｒはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素
原子数１〜６個の１価の炭化水素基、炭素原子数１〜６
個のアルコキシ基、または炭素原子数１４個以下のオキ
シム基を表し、Ｒ’はそれぞれ炭素原子数１〜８個の１
価の炭化水素基を表し、Ｘは１１個までの炭素原子を有
しかつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、且つ珪素−炭
素結合を介して珪素へ結合する１価の基であって、Ｘ中
には少なくとも１個の窒素原子が存在し、ａは０または
１〜２０の整数である]のオルガノシリコーン化合物
と、（ｉｉｉ）白金化合物または錯化合物ＰｔＬｂ（式
中、Ｌはアミノ基により置換可能である少なくとも１個
の配位子を表し、ｂはＰｔの遊離の原子価を満足する数
である）との反応により調製された触媒の存在下で反応
させることからなる、オレフィン性不飽和結合を含み、
且つ珪素と結合した、炭化水素基を有するオルガノシリ
コーン化合物の調製方法を提供するにある。
【０００６】シリコーン化合物（Ａ）として、少なくと
も１個の≡ＳｉＨ基を有するモノマー化合物、オリゴマ
ー化合物またはポリマー化合物のいずれもが本発明方法
において使用できる。これらの化合物類及びヒドロシリ
ル化反応におけるそれらの使用は業界で良く文献に記載
されており、シラン類、線状ポリシロキサン類、枝分か
れポリシロキサン類及び環状シロキサン類を包含する。
水素原子のほかに存在する珪素と結合する置換基の性質
は厳格な制限を要するものではないが、通常前記置換基
は炭素原子数１〜１０個をもちかつ脂肪性不飽和結合が
不在である１価の炭化水素基、ハロゲン例えば塩素原
子、及び約８個以下の炭素原子をもつアルコキシ基から
選択される。このような化合物類の例は、C６H５SiHC
l2、HSi(OCH3)3、HSiCl3、CH3HSi(OC2H5)2、(CH3)2HSiC
l、メチルハイドロジェンポリシロキサン類、メチルハ
イドロジェンポリシロキサン単位と１種または２種以上
の他のシロキサン単位例えばジメチルシロキサン、トリ
メチルシロキサン及びジメチルハイドロジェンシロキサ
ン単位とのコポリマーである。しかし、本発明方法は、
二重結合内部移行量が最大の減少を示すと思われるクロ
ロシラン類例えばCH3HSiCl２及びHSiCl3 の反応に関連
していることが特に重要である。
も１個の≡ＳｉＨ基を有するモノマー化合物、オリゴマ
ー化合物またはポリマー化合物のいずれもが本発明方法
において使用できる。これらの化合物類及びヒドロシリ
ル化反応におけるそれらの使用は業界で良く文献に記載
されており、シラン類、線状ポリシロキサン類、枝分か
れポリシロキサン類及び環状シロキサン類を包含する。
水素原子のほかに存在する珪素と結合する置換基の性質
は厳格な制限を要するものではないが、通常前記置換基
は炭素原子数１〜１０個をもちかつ脂肪性不飽和結合が
不在である１価の炭化水素基、ハロゲン例えば塩素原
子、及び約８個以下の炭素原子をもつアルコキシ基から
選択される。このような化合物類の例は、C６H５SiHC
l2、HSi(OCH3)3、HSiCl3、CH3HSi(OC2H5)2、(CH3)2HSiC
l、メチルハイドロジェンポリシロキサン類、メチルハ
イドロジェンポリシロキサン単位と１種または２種以上
の他のシロキサン単位例えばジメチルシロキサン、トリ
メチルシロキサン及びジメチルハイドロジェンシロキサ
ン単位とのコポリマーである。しかし、本発明方法は、
二重結合内部移行量が最大の減少を示すと思われるクロ
ロシラン類例えばCH3HSiCl２及びHSiCl3 の反応に関連
していることが特に重要である。
【０００７】有機化合物(Ｂ)は少なくとも５個の炭素原
子をもちかつ不飽和結合(二重結合)が末端炭素原子に位
置する任意のジエン例えば１,４−ペンタジエン、１,５
−ヘキサジエン、１,９−デカジエン及び１,１３−テト
ラデカジエンであることができる。好適なジエン類は炭
素原子数６〜１４個のものである。
子をもちかつ不飽和結合(二重結合)が末端炭素原子に位
置する任意のジエン例えば１,４−ペンタジエン、１,５
−ヘキサジエン、１,９−デカジエン及び１,１３−テト
ラデカジエンであることができる。好適なジエン類は炭
素原子数６〜１４個のものである。
【０００８】触媒（Ｃ）は、無機質固体（ｉ）を、オル
ガノシリコーン化合物（ｉｉ）及び白金化合物または錯
化合物と反応させることにより下記の基
ガノシリコーン化合物（ｉｉ）及び白金化合物または錯
化合物と反応させることにより下記の基
【化３】 を介して支持体に化学的に結合した白金を含むと思われ
る生成物を生成させることにより調製できる。ここに、
白金は、同一結合基中に、あるいは異なる結合基中にあ
ってもよいＸ中の１個または２個以上の窒素原子と配位
結合している。反応は任意の順番に反応剤類を混合する
ことにより、例えば必要ならばそれぞれ加温及び触媒を
使用して上記（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を混合す
ることにより、行うことができる。別法として、まず、
白金化合物または錯化合物（ｉｉｉ）をオルガノシリコ
ーン化合物（ｉｉ）と反応させ、次に、得られた生成物
を無機質固体（ｉ）と反応させることができる。触媒
（Ｃ）を調製するためのより好都合でかつ好適な操作は
英国特許第1,526,324号明細書に記載されている操作で
あり、この操作においては第１工程としてオルガノシリ
コーン化合物（ｉｉ）を無機質固体（ｉ）と反応させ、
次に第２工程として生成物を白金化合物または錯化合物
（ｉｉｉ）と反応させるものである。
る生成物を生成させることにより調製できる。ここに、
白金は、同一結合基中に、あるいは異なる結合基中にあ
ってもよいＸ中の１個または２個以上の窒素原子と配位
結合している。反応は任意の順番に反応剤類を混合する
ことにより、例えば必要ならばそれぞれ加温及び触媒を
使用して上記（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を混合す
ることにより、行うことができる。別法として、まず、
白金化合物または錯化合物（ｉｉｉ）をオルガノシリコ
ーン化合物（ｉｉ）と反応させ、次に、得られた生成物
を無機質固体（ｉ）と反応させることができる。触媒
（Ｃ）を調製するためのより好都合でかつ好適な操作は
英国特許第1,526,324号明細書に記載されている操作で
あり、この操作においては第１工程としてオルガノシリ
コーン化合物（ｉｉ）を無機質固体（ｉ）と反応させ、
次に第２工程として生成物を白金化合物または錯化合物
（ｉｉｉ）と反応させるものである。
【０００９】配位結合したＰｔの存在もしくは不在のオ
ルガノシリコーン化合物(ｉｉ)と無機質固体(支持体)
(ｉ)の反応は、不活性溶媒例えばトルエン、キシレン、
ペンタンまたはヘプタンの存在下で好都合に行われる。
オルガノシリコーン化合物が水溶性である場合、水性媒
体中で反応を行うことが好ましい。若干の場合におい
て、反応は通常の環境温度で生ずるが、加温通常約８０
℃ないし１５０℃の使用により反応を促進することが好
ましい。所望であれば、触媒を使用して反応を促進する
ことができ、適当な触媒の例はナトリウムエトキシド、
オクタン酸鉛、ジブチルスズジアセテート及び他のシラ
ノール縮合触媒類である。
ルガノシリコーン化合物(ｉｉ)と無機質固体(支持体)
(ｉ)の反応は、不活性溶媒例えばトルエン、キシレン、
ペンタンまたはヘプタンの存在下で好都合に行われる。
オルガノシリコーン化合物が水溶性である場合、水性媒
体中で反応を行うことが好ましい。若干の場合におい
て、反応は通常の環境温度で生ずるが、加温通常約８０
℃ないし１５０℃の使用により反応を促進することが好
ましい。所望であれば、触媒を使用して反応を促進する
ことができ、適当な触媒の例はナトリウムエトキシド、
オクタン酸鉛、ジブチルスズジアセテート及び他のシラ
ノール縮合触媒類である。
【００１０】オルガノシリコーン化合物（ｉｉ）または
支持体と結合したオルガノシリコーン化合物と白金化合
物または錯化合物（ｉｉｉ）との反応は、通常環境温度
すなわち約１５〜２５℃で行うことができる。しかし、
所望であればより高い温度を使用することもできる。こ
の反応は好適には溶媒、最適には極性溶媒例えばメタノ
ール、エタノール、ジオキサン及び/または水の存在下
で行われる。白金化合物または錯化合物は、白金１原子
当たり５〜２００原子、より好適には３０〜１５０原子
の窒素原子を触媒中に与える割合で反応させることが好
ましい。
支持体と結合したオルガノシリコーン化合物と白金化合
物または錯化合物（ｉｉｉ）との反応は、通常環境温度
すなわち約１５〜２５℃で行うことができる。しかし、
所望であればより高い温度を使用することもできる。こ
の反応は好適には溶媒、最適には極性溶媒例えばメタノ
ール、エタノール、ジオキサン及び/または水の存在下
で行われる。白金化合物または錯化合物は、白金１原子
当たり５〜２００原子、より好適には３０〜１５０原子
の窒素原子を触媒中に与える割合で反応させることが好
ましい。
【００１１】オルガノシリコーン化合物(ｉｉ)の一般式
において、置換基Ｚは無機質固体上のヒドロキシル基と
反応する任意の原子または基であることができ、例えば
塩素、臭素、アルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基、
ヒドロキシル基、オキシム例えば-ON=C(C2H5)2及び-ON=
C(C6H5)2であることができる。Ｒ置換基はそれぞれＺに
ついて例示したものと同一タイプのものでもよいが、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリル基及
びハロゲン化アルキル基から選択することもできる。好
適には、Ｚは炭素原子数１〜４個のアルコキシ基例えば
メトキシ基またはエトキシ基を表し、Ｒはメチル基、フ
ェニル基または炭素原子数１〜４個のアルコキシ基を表
す。
において、置換基Ｚは無機質固体上のヒドロキシル基と
反応する任意の原子または基であることができ、例えば
塩素、臭素、アルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基、
ヒドロキシル基、オキシム例えば-ON=C(C2H5)2及び-ON=
C(C6H5)2であることができる。Ｒ置換基はそれぞれＺに
ついて例示したものと同一タイプのものでもよいが、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリル基及
びハロゲン化アルキル基から選択することもできる。好
適には、Ｚは炭素原子数１〜４個のアルコキシ基例えば
メトキシ基またはエトキシ基を表し、Ｒはメチル基、フ
ェニル基または炭素原子数１〜４個のアルコキシ基を表
す。
【００１２】置換基Ｒ’が存在する場合、Ｒ’はそれぞ
れメチル基、プロピル基、ヘキシル基またはフェニル基
であることができる。Ｘ基は珪素−炭素結合を介して珪
素へ結合している１価の基であり、この基中には少なく
とも１個の窒素原子が存在する。Ｘ基は窒素に加えて炭
素及び水素よりなることが好ましいが、エーテル結合の
形態の酸素を含有することもできる。Ｘ基の例は−(C
H2)3NH2、−(CH2)4NHCH3、−CH2CH(CH3)CH2N(C3H7)2、
−(CH2)3NHCH2CH2NH2 及び−(CH2)4NH(CH2)4NH2であ
る。好適には、Ｘ基は窒素含有基、例えば−(CH2)3N
H2、−(CH2)3NHCH2CH2NH2または−CH2CH(CH3)CH2NHCH2C
H2 --NH2である。１個または２個以上の配位子Ｌは例え
ばアルキル基例えばメチル基、ブチル基またはヘキシル
基、フェニル基、−ＣＯ、ハロゲン原子例えば塩素、
Ｈ、アセチルアセトネート、アミノ基またはオレフィン
例えばＣＨ２＝ＣＨ２である。有効な白金化合物または
錯化合物（ｉｉｉ）の例は、PtCl2、H2PtCl6、Na2PtCl4
・4H2O、K[Pt(CH2=CH2)Cl3]H2O、Pt2(CH2=CH2)2Cl4、Cl
2Pt(Et2S)2(Etはエチル基である)、[PtCl2P(C6H5)3]2及
びPtBr2(NH3)2 である。
れメチル基、プロピル基、ヘキシル基またはフェニル基
であることができる。Ｘ基は珪素−炭素結合を介して珪
素へ結合している１価の基であり、この基中には少なく
とも１個の窒素原子が存在する。Ｘ基は窒素に加えて炭
素及び水素よりなることが好ましいが、エーテル結合の
形態の酸素を含有することもできる。Ｘ基の例は−(C
H2)3NH2、−(CH2)4NHCH3、−CH2CH(CH3)CH2N(C3H7)2、
−(CH2)3NHCH2CH2NH2 及び−(CH2)4NH(CH2)4NH2であ
る。好適には、Ｘ基は窒素含有基、例えば−(CH2)3N
H2、−(CH2)3NHCH2CH2NH2または−CH2CH(CH3)CH2NHCH2C
H2 --NH2である。１個または２個以上の配位子Ｌは例え
ばアルキル基例えばメチル基、ブチル基またはヘキシル
基、フェニル基、−ＣＯ、ハロゲン原子例えば塩素、
Ｈ、アセチルアセトネート、アミノ基またはオレフィン
例えばＣＨ２＝ＣＨ２である。有効な白金化合物または
錯化合物（ｉｉｉ）の例は、PtCl2、H2PtCl6、Na2PtCl4
・4H2O、K[Pt(CH2=CH2)Cl3]H2O、Pt2(CH2=CH2)2Cl4、Cl
2Pt(Et2S)2(Etはエチル基である)、[PtCl2P(C6H5)3]2及
びPtBr2(NH3)2 である。
【００１３】オルガノシリコーン化合物（ｉｉ）中の基
が結合する固体は好ましくは粒状で無機質のものであ
り、オルガノシリコーン化合物（ｉｉ）中の基の化学的
結合を許容できるものでなければならない。通常このよ
うな固体類は、有機−珪素結合基が結合する前にはオル
ガノシリコーン化合物類と反応して所要の表面と結合し
た窒素含有基を生成できる表面基、通常ヒドロキシル基
を有する固体類である。粒状固体類として特に好適なも
のはシリカ類例えば石英、沈降シリカ及びシリカゲルで
ある。しかし、他の個体類例えばゼオライトモレキュラ
ーシーブ、カオリン、アルミナ及びチタニアを使用する
こともできる。固体が粒状形態である場合、５〜１００
メッシュ英国標準テスト・シーブ（British Standard T
est Sieve）(BS 410:1962) の範囲内の粒径をもつこと
が好ましく、それによってジエンと珪素−水素化合物の
反応生成物からの粒状固体の分離がより容易に達成でき
る。
が結合する固体は好ましくは粒状で無機質のものであ
り、オルガノシリコーン化合物（ｉｉ）中の基の化学的
結合を許容できるものでなければならない。通常このよ
うな固体類は、有機−珪素結合基が結合する前にはオル
ガノシリコーン化合物類と反応して所要の表面と結合し
た窒素含有基を生成できる表面基、通常ヒドロキシル基
を有する固体類である。粒状固体類として特に好適なも
のはシリカ類例えば石英、沈降シリカ及びシリカゲルで
ある。しかし、他の個体類例えばゼオライトモレキュラ
ーシーブ、カオリン、アルミナ及びチタニアを使用する
こともできる。固体が粒状形態である場合、５〜１００
メッシュ英国標準テスト・シーブ（British Standard T
est Sieve）(BS 410:1962) の範囲内の粒径をもつこと
が好ましく、それによってジエンと珪素−水素化合物の
反応生成物からの粒状固体の分離がより容易に達成でき
る。
【００１４】シリコーン化合物(珪素−水素化合物)(Ａ)
と有機化合物(ジエン)(Ｂ)の反応は任意の慣用の操作技
法を使用して行うことができる。例えば、常圧下、減圧
下または加圧下で、溶媒の存在または不在下、２０℃以
下から１６０℃以上までの温度で行うことができる。通
常、約８０℃ないし約１８０℃の範囲の温度、及び所望
であれば加圧を使用することによって反応を促進するこ
とが好ましい。珪素−水素化合物とジエン中の両方の不
飽和基との反応を最少限にするために、ジエンは少なく
とも化学量論量の２倍の過剰量で使用することが好まし
い。触媒(Ｃ)はデカンテーションまたは濾過により反応
混合物から容易に回収できる。触媒を回収した後、触媒
はリサイクルすることができる。しかし、触媒(Ｃ)の不
均質特性のために、触媒(Ｃ)はバッチ式ではなく連続式
で使用することが特に適当である。従って、本発明方法
は、所望の反応時間及び生成物類を得るための温度及び
圧力のような反応条件を使用して有機化合物(ジエン)
(Ｂ)とシリコーン化合物(珪素−水素化合物)(Ａ)を触媒
床の上または中に通すことにより行うことができる。
と有機化合物(ジエン)(Ｂ)の反応は任意の慣用の操作技
法を使用して行うことができる。例えば、常圧下、減圧
下または加圧下で、溶媒の存在または不在下、２０℃以
下から１６０℃以上までの温度で行うことができる。通
常、約８０℃ないし約１８０℃の範囲の温度、及び所望
であれば加圧を使用することによって反応を促進するこ
とが好ましい。珪素−水素化合物とジエン中の両方の不
飽和基との反応を最少限にするために、ジエンは少なく
とも化学量論量の２倍の過剰量で使用することが好まし
い。触媒(Ｃ)はデカンテーションまたは濾過により反応
混合物から容易に回収できる。触媒を回収した後、触媒
はリサイクルすることができる。しかし、触媒(Ｃ)の不
均質特性のために、触媒(Ｃ)はバッチ式ではなく連続式
で使用することが特に適当である。従って、本発明方法
は、所望の反応時間及び生成物類を得るための温度及び
圧力のような反応条件を使用して有機化合物(ジエン)
(Ｂ)とシリコーン化合物(珪素−水素化合物)(Ａ)を触媒
床の上または中に通すことにより行うことができる。
【００１５】本発明方法により得られる生成物類は、珪
素と結合したオレフィン性不飽和結合を含む炭化水素基
が少なくとも１個存在するシラン類及びシロキサン類で
ある。触媒(Ｃ)を使用することにより、より一般的な白
金触媒を使用する方法と比較して末端でない位置のオレ
フィン性不飽和結合の割合が顕著に減少した生成物を得
ることができることを見出した。本発明方法による生成
物は、ハイドロシリレーション反応または他の反応によ
り硬化することができるオルガノシリコーン化合物例え
ばエラストマー類及び被覆組成物の調製に使用すること
ができる。
素と結合したオレフィン性不飽和結合を含む炭化水素基
が少なくとも１個存在するシラン類及びシロキサン類で
ある。触媒(Ｃ)を使用することにより、より一般的な白
金触媒を使用する方法と比較して末端でない位置のオレ
フィン性不飽和結合の割合が顕著に減少した生成物を得
ることができることを見出した。本発明方法による生成
物は、ハイドロシリレーション反応または他の反応によ
り硬化することができるオルガノシリコーン化合物例え
ばエラストマー類及び被覆組成物の調製に使用すること
ができる。
【００１６】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明する。な
お、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。 実施例１ 水(２５００ｇ)に溶解した（EtO)3Si(CH2)3NH2(９０ｇ)
をシリカゲル［グレース(Grace)ＩＤ１１２］(３００
ｇ)へ添加し、混合物を通常の環境温度で約１６時間に
わたり撹拌した。１.４３重量％の窒素を含有するシリ
カゲルを回収し、乾燥した。次に、この生成物(１００
ｇ)を水(４００ｍｌ)及びメタノール(２００ｍｌ)中に
溶解したNa2PtCl4・4H2O(４.７１ｇ)と混合した。固体を
回収し、乾燥して０.４９重量％の白金及び４０：１の
Ｎ：Ｐｔモル比を有する粒状触媒を得た。１,５−ヘキ
サジエン(９８.４ｇ)、HSiMeCl2(４６.０ｇ)及び上述の
ようにして調製した触媒１.６３ｇをフラスコ中で混合
し、４時間にわたり還流温度へ加熱した。蒸留して過剰
の１,５−ヘキサジエンを除去した後、１,５−ヘキセニ
ル(メチル)ジクロロシラン及びCl2MeSi(CH2)6SiMeCl2の
混合物６０.７ｇを得た。ヘキセニルシランは、内部不
飽和異性体への異性化が１％以下であることが観察され
た。イソプロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2O溶液を同
一Ｐｔ重量を提供する量で使用して反応を反復したとこ
ろ、ヘキセニルシランは３３％の内部結合異性体を含有
することが観察された。触媒をリサイクルし、更に６回
再使用して合計１,５−ヘキサジエン６８８.８ｇとHMeS
iCl2３２２ｇとを反応させた。
お、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。 実施例１ 水(２５００ｇ)に溶解した（EtO)3Si(CH2)3NH2(９０ｇ)
をシリカゲル［グレース(Grace)ＩＤ１１２］(３００
ｇ)へ添加し、混合物を通常の環境温度で約１６時間に
わたり撹拌した。１.４３重量％の窒素を含有するシリ
カゲルを回収し、乾燥した。次に、この生成物(１００
ｇ)を水(４００ｍｌ)及びメタノール(２００ｍｌ)中に
溶解したNa2PtCl4・4H2O(４.７１ｇ)と混合した。固体を
回収し、乾燥して０.４９重量％の白金及び４０：１の
Ｎ：Ｐｔモル比を有する粒状触媒を得た。１,５−ヘキ
サジエン(９８.４ｇ)、HSiMeCl2(４６.０ｇ)及び上述の
ようにして調製した触媒１.６３ｇをフラスコ中で混合
し、４時間にわたり還流温度へ加熱した。蒸留して過剰
の１,５−ヘキサジエンを除去した後、１,５−ヘキセニ
ル(メチル)ジクロロシラン及びCl2MeSi(CH2)6SiMeCl2の
混合物６０.７ｇを得た。ヘキセニルシランは、内部不
飽和異性体への異性化が１％以下であることが観察され
た。イソプロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2O溶液を同
一Ｐｔ重量を提供する量で使用して反応を反復したとこ
ろ、ヘキセニルシランは３３％の内部結合異性体を含有
することが観察された。触媒をリサイクルし、更に６回
再使用して合計１,５−ヘキサジエン６８８.８ｇとHMeS
iCl2３２２ｇとを反応させた。
【００１７】実施例２ 内径１.５ｃｍ及び長さ４１ｃｍをもつガラス管に実施
例１に記載したようにして調製した触媒１８.５ｇを充
填した。次に、HSiMeCl2６.７２ｋｇと１,５−ヘキサジ
エン１５.１ｋｇの混合物を２３４時間にわたり触媒上
に通した。ガラス管から流出する生成物の分析は、実質
上完全な反応が生じ、得られたヘキセニル(メチル)ジク
ロロシラン生成物の異性化は１％以下であることを示し
た。
例１に記載したようにして調製した触媒１８.５ｇを充
填した。次に、HSiMeCl2６.７２ｋｇと１,５−ヘキサジ
エン１５.１ｋｇの混合物を２３４時間にわたり触媒上
に通した。ガラス管から流出する生成物の分析は、実質
上完全な反応が生じ、得られたヘキセニル(メチル)ジク
ロロシラン生成物の異性化は１％以下であることを示し
た。
【００１８】
【００１９】
【００２０】実施例４ 水(３０００ｇ)中に溶解した(MeO)3SiCH2CH2CH2NH2(１
５ｇ)をシリカゲル(６００ｇ：グレースＩＤ１１３)へ
添加し、混合物を２４時間にわたり環境温度で撹拌し
た。次に、シリカゲルを回収し、熱トルエンで抽出し、
乾燥して０.１重量％の窒素を含有する生成物を得た。
次に、この生成物(５０ｇ)を水(１５０ｍｌ)、メタノー
ル(１００ｍｌ)及び水(５０ｍｌ)中のNa2PtCl4・4H2O
(０.０３２５ｇ)と混合し、得られた混合物を２４時間
にわたり室温で撹拌した。固体を回収し、メタノール
(５×２００ｍｌ)で洗浄し、エーテル(３×２００ｍｌ)
で洗浄し、乾燥して０.０１１重量％の白金を含有し、
１２６：１のＮ：Ｐｔ比を有する粒状触媒を得た。１,
５−ヘキサジエン(４９.２ｇ、０.６モル)、メチルジク
ロロシラン(２３.０ｇ、０.２モル)及び上述の触媒８.
８ｇ(５×１０-6モルＰｔ)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了ま
でに還流温度が５３℃から７２℃へ上昇した。次に、生
成物を触媒からデカンテーションし、更に、１,５−ヘ
キサジエン(４９.２ｇ)及びメチルジクロロシラン(２
３.０ｇ)をフラスコへ添加し、反応を反復した。触媒を
更に２回同様にリサイクルした。得られた生成物のガス
−液体クロマトグラフ分析により以下の表に示すピーク
面積割合が得られ、また、反応が完了する時間について
も記載する。
５ｇ)をシリカゲル(６００ｇ：グレースＩＤ１１３)へ
添加し、混合物を２４時間にわたり環境温度で撹拌し
た。次に、シリカゲルを回収し、熱トルエンで抽出し、
乾燥して０.１重量％の窒素を含有する生成物を得た。
次に、この生成物(５０ｇ)を水(１５０ｍｌ)、メタノー
ル(１００ｍｌ)及び水(５０ｍｌ)中のNa2PtCl4・4H2O
(０.０３２５ｇ)と混合し、得られた混合物を２４時間
にわたり室温で撹拌した。固体を回収し、メタノール
(５×２００ｍｌ)で洗浄し、エーテル(３×２００ｍｌ)
で洗浄し、乾燥して０.０１１重量％の白金を含有し、
１２６：１のＮ：Ｐｔ比を有する粒状触媒を得た。１,
５−ヘキサジエン(４９.２ｇ、０.６モル)、メチルジク
ロロシラン(２３.０ｇ、０.２モル)及び上述の触媒８.
８ｇ(５×１０-6モルＰｔ)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了ま
でに還流温度が５３℃から７２℃へ上昇した。次に、生
成物を触媒からデカンテーションし、更に、１,５−ヘ
キサジエン(４９.２ｇ)及びメチルジクロロシラン(２
３.０ｇ)をフラスコへ添加し、反応を反復した。触媒を
更に２回同様にリサイクルした。得られた生成物のガス
−液体クロマトグラフ分析により以下の表に示すピーク
面積割合が得られ、また、反応が完了する時間について
も記載する。
【００２１】
【表１】 サイクル １ ２ ３ ４ 反応時間／分 335 282 289 216 １,５−ヘキサジエン（％） 56.2 65.1 64,8 66.1 １−（メチルジクロロシリル） −５−ヘキセン（％） 39.0 34.7 34.9 33.6 １,６−ビス（メチルジクロロシリル） ヘキサン（％） 2.9 0.1 0.2 0.1 １−（メチルジクロロシリル）−５−ヘキセンのプロト
ンＮ.ＭＲ.分析は末端二重結合の１.１％が内部位置に
移行したことを示した。
ンＮ.ＭＲ.分析は末端二重結合の１.１％が内部位置に
移行したことを示した。
【００２２】実施例５ １,１３−テトラデカジエン(１５５.２ｇ、０.８モ
ル)、メチルジクロロシラン(２３.０ｇ、０.２モル)及
びハイドロシリレーション触媒(０.４０ｇ、１０-5モル
Ｐｔ、実施例１に記載したように調製したもの)を反応
容器へ装入した。試薬を６６℃へ加熱し、９０分間掛け
て９０℃へ昇温させ、次に、反応混合物をこの温度で更
に１５０分間維持した。得られた生成物のガス−液体ク
ロマトグラフ分析により以下のピーク面積割合が得られ
た： 1,13-テトラデカジエン ７２.９％ 1-(メチルジクロロシリル)-13-テトラデセン １７.７％ 1,14-ビス(メチルジクロロシリル)テトラデカン ２.４％ １−(メチルジクロロシリル)−１３−テトラデセンは、
末端二重結合の２.９％が内部位置に移行した。
ル)、メチルジクロロシラン(２３.０ｇ、０.２モル)及
びハイドロシリレーション触媒(０.４０ｇ、１０-5モル
Ｐｔ、実施例１に記載したように調製したもの)を反応
容器へ装入した。試薬を６６℃へ加熱し、９０分間掛け
て９０℃へ昇温させ、次に、反応混合物をこの温度で更
に１５０分間維持した。得られた生成物のガス−液体ク
ロマトグラフ分析により以下のピーク面積割合が得られ
た： 1,13-テトラデカジエン ７２.９％ 1-(メチルジクロロシリル)-13-テトラデセン １７.７％ 1,14-ビス(メチルジクロロシリル)テトラデカン ２.４％ １−(メチルジクロロシリル)−１３−テトラデセンは、
末端二重結合の２.９％が内部位置に移行した。
【００２３】実施例６ １,５−ヘキサジエン(２４６ｇ、３.０モル)、１,１,
３,３−テトラメチルジシロキサン(１０５ｇ、０.７５
モル)及び触媒１.８８ｇ(実施例１と同様に調製したも
の、５×１０-5モルＰｔ)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了す
るまでに還流温度が５８℃から７２℃へ上昇した。次
に、生成物を触媒からデカンテーションし、更に１,５
−ヘキサジエン(２４６ｇ)及び１,１,３,３−テトラメ
チルジシロキサン(１０５ｇ)をフラスコへ添加し、反応
を反復した。得られた生成物のガス−液体クロマトグラ
フ分析により以下の表に示すピーク面積割合が得られ、
また、反応が完了するまでの時間も記載する。
３,３−テトラメチルジシロキサン(１０５ｇ、０.７５
モル)及び触媒１.８８ｇ(実施例１と同様に調製したも
の、５×１０-5モルＰｔ)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了す
るまでに還流温度が５８℃から７２℃へ上昇した。次
に、生成物を触媒からデカンテーションし、更に１,５
−ヘキサジエン(２４６ｇ)及び１,１,３,３−テトラメ
チルジシロキサン(１０５ｇ)をフラスコへ添加し、反応
を反復した。得られた生成物のガス−液体クロマトグラ
フ分析により以下の表に示すピーク面積割合が得られ、
また、反応が完了するまでの時間も記載する。
【００２４】
【表３】 サイクル １ ２ 反応時間／時間 3.5 3.3 1,5-ヘキサジエン 49.9 50.2 1,3-ビス(5-ヘキセニル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン 31.7 30.6 より高分子量の生成物 17.1 17.2 １,３−ビス(５−ヘキセニル)−１,１,３,３−テトラメ
チルジシロキサンのプロトンＮ.Ｍ.Ｒ.分析は、１.６％
の二重結合が内部位置に移行したことを示した。
チルジシロキサンのプロトンＮ.Ｍ.Ｒ.分析は、１.６％
の二重結合が内部位置に移行したことを示した。
【００２５】実施例７ 実施例１に記載した操作及び触媒を使用してHSiCl3(２
７.１ｇ)と１,５−ヘキサジエン(４９.２ｇ)とを反応さ
せた。得られたヘキセニルシランは、内部二重結合異性
体を１.６％しか含有していなかった。触媒としてイソ
プロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2Oの溶液を使用し
て反応を反復したところ、異性体の割合は７.８％であ
った。
７.１ｇ)と１,５−ヘキサジエン(４９.２ｇ)とを反応さ
せた。得られたヘキセニルシランは、内部二重結合異性
体を１.６％しか含有していなかった。触媒としてイソ
プロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2Oの溶液を使用し
て反応を反復したところ、異性体の割合は７.８％であ
った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブライアン・ジョン・グリフィツ イギリス国、ウェイルズ、ミッド・グラ モーガン、ニア・ブリッジェンド、コイ トラヘン、ヘオル・トレハルン ６ (72)発明者 デイヴィッド・ランドール・トーマス イギリス国、ウェイルズ、サウス・グラ モーガン、バリー、セント・ブラノック ス・クローズ 14 (56)参考文献 特開 昭60−84144（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07F 7/12
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）分子中に少なくとも１個の珪素と
結合した水素原子を有するシリコーン化合物と、（Ｂ）
オレフィン性不飽和結合を含む有機化合物とを、 （Ｃ）（ｉ）表面反応性基を有する無機質固体と、 （ｉｉ）一般式 【化１】 [式中、Ｚは（ｉ）中の表面反応性基と反応する原子ま
たは基を表し、Ｒはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素
原子数１〜６個の１価の炭化水素基、炭素原子数１〜６
個のアルコキシ基、または炭素原子数１４個以下のオキ
シム基を表し、Ｒ’はそれぞれ炭素原子数１〜８個の１
価の炭化水素基を表し、Ｘは１１個までの炭素原子を有
しかつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、且つ珪素−炭
素結合を介して珪素へ結合する１価の基であって、Ｘ中
には少なくとも１個の窒素原子が存在し、ａは０または
１〜２０の整数である]のオルガノシリコーン化合物
と、 （ｉｉｉ）白金化合物または錯化合物ＰｔＬｂ（式中、
Ｌはアミノ基により置換可能である少なくとも１個の配
位子を表し、ｂはＰｔの遊離の原子価を満足する数であ
る）との反応により調製された触媒の存在下で反応させ
ることからなる、オレフィン性不飽和結合を含み且つ珪
素と結合した炭化水素基を有するオルガノシリコーン化
合物の調製方法であって、有機化合物（Ｂ）が少なくと
も５個の炭素原子をもちかつ不飽和結合が末端炭素原子
に位置するジエンであることを特徴とする、オルガノシ
リコーン化合物の調製方法。 - 【請求項２】 無機固体（ｉ）がシリカである、請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 ジエンが６〜１４個の炭素原子を有す
る、請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 触媒（Ｃ）中のＮ原子とＰｔ原子との比
が３０：１〜１５０：１である、請求項１ないし３のい
ずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】 オルガノシリコーン化合物（Ａ）がＣＨ
３ＨＳｉＣｌ２及びＨＳｉＣｌ３から選択される、請求
項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 シリコーン化合物（Ａ）と有機化合物
（Ｂ）とを触媒（Ｃ）の床上を通過させるか、または該
床中を通過させる、請求項１ないし５のいずれか１項記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB919126049A GB9126049D0 (en) | 1991-12-07 | 1991-12-07 | Hydrosilylation process |
| GB9126049.7 | 1991-12-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05271249A JPH05271249A (ja) | 1993-10-19 |
| JP3349735B2 true JP3349735B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=10705878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32679692A Expired - Lifetime JP3349735B2 (ja) | 1991-12-07 | 1992-12-07 | ヒドロシリル化法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5270424A (ja) |
| EP (1) | EP0546716B1 (ja) |
| JP (1) | JP3349735B2 (ja) |
| DE (1) | DE69219741T2 (ja) |
| GB (1) | GB9126049D0 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9223335D0 (en) * | 1992-11-06 | 1992-12-23 | Dow Corning | Hydrosilylation process |
| KR950003310A (ko) * | 1993-07-22 | 1995-02-16 | 에리히 프랑크, 칼-하인즈 림뵉 | 균질 히드로실릴화 촉매 |
| DE59504844D1 (de) * | 1994-12-12 | 1999-02-25 | Huels Silicone Gmbh | Verfahren zur herstellung von im wesentlichen cyclenfreien polyorgano-siloxanen und organofunktionellen siloxanen |
| US5672660A (en) * | 1995-12-01 | 1997-09-30 | Advanced Elastomer Systems, L.P. | Hydrosilylation crosslinking |
| US5567848A (en) * | 1996-01-16 | 1996-10-22 | Dow Corning Corporation | Alkyne hydrosilation using cycloalkadiene-platinum complex as catalyst |
| US6365696B1 (en) | 1999-12-17 | 2002-04-02 | Crompton Corporation | Process for producing epoxyorganosilicon compounds |
| US8497338B2 (en) | 2011-10-31 | 2013-07-30 | Momentive Performance Materials Inc. | Process of manufacturing organosilicon products with improved quality using heterogeneous precious metal catalysts |
| US9656294B2 (en) * | 2012-11-20 | 2017-05-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Fabrication and passivation of silicon surfaces |
| JP2015098459A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | 信越化学工業株式会社 | 含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法 |
| JP6656045B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2020-03-04 | 信越化学工業株式会社 | 担持白金触媒を含有する樹脂組成物、及びそれを用いた熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物ならびにその硬化方法 |
| WO2021119443A1 (en) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | Dow Silicones Corporation | Process for synthesizing alkenyl disiloxane |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE553159A (ja) * | 1955-12-05 | |||
| BE789152A (ja) * | 1971-09-22 | 1973-01-15 | Ceskoslovenska Akademie Ved | |
| GB1438949A (en) * | 1972-08-21 | 1976-06-09 | Dow Corning Ltd | Hydrosilylation of dienes and acetylenes |
| GB1527598A (en) * | 1974-11-12 | 1978-10-04 | Dow Corning Ltd | Catalysts and carriers therefor |
| US4268682A (en) * | 1975-09-05 | 1981-05-19 | Exxon Research & Engineering Co. | ω-Alkenyl silanes and αω-silyl alkanes |
| GB1526324A (en) * | 1976-07-14 | 1978-09-27 | Dow Corning Ltd | Hydrosilylation catalysts |
| GB2013207B (en) * | 1977-11-14 | 1982-10-27 | Spencer J L | Hydrosilylation catalysts |
| US4503160A (en) * | 1983-08-29 | 1985-03-05 | General Electric Company | Hydrosilylation method, catalyst and method for making |
-
1991
- 1991-12-07 GB GB919126049A patent/GB9126049D0/en active Pending
-
1992
- 1992-11-23 US US07/980,061 patent/US5270424A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-24 DE DE69219741T patent/DE69219741T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-24 EP EP92310739A patent/EP0546716B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-07 JP JP32679692A patent/JP3349735B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69219741D1 (de) | 1997-06-19 |
| EP0546716B1 (en) | 1997-05-14 |
| GB9126049D0 (en) | 1992-02-05 |
| US5270424A (en) | 1993-12-14 |
| EP0546716A1 (en) | 1993-06-16 |
| DE69219741T2 (de) | 1997-09-18 |
| JPH05271249A (ja) | 1993-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2111221C1 (ru) | Кремнийорганические соединения, образующие клеткоподобную структуру, и способы их получения | |
| JP4351058B2 (ja) | アルケン−白金−シリル錯体 | |
| US4064154A (en) | Catalysts and carriers therefor | |
| US4503160A (en) | Hydrosilylation method, catalyst and method for making | |
| JPS5931533B2 (ja) | アルケニル基及びＳｉの結合された水素を有するオルガノポリシロキサンを基礎とする物質の架橋方法 | |
| JP6620823B2 (ja) | 新規イソシアニド化合物及びヒドロシリル化反応触媒 | |
| JP3349735B2 (ja) | ヒドロシリル化法 | |
| JPH0267290A (ja) | 鳥かご状構造を有する親油性二重環ケイ酸誘導体、その製造方法及びその使用方法 | |
| US4005046A (en) | Catalysts and carriers therefor | |
| WO2015077306A1 (en) | Cobalt catalysts and their use for hydrosilylation and dehydrogenative silylation | |
| KR20170042319A (ko) | 하이드로실릴화 반응 촉매 | |
| JP6515930B2 (ja) | ヒドロシリル化反応触媒 | |
| EP3071585B1 (en) | Cobalt catalysts and their use for hydrosilylation and dehydrogenative silylation | |
| US5359112A (en) | Hydrosilylation process | |
| JPH0353317B2 (ja) | ||
| CN1085558A (zh) | 合成环氧(聚)硅氧烷单体和聚合物的新型含铑选择性催化剂 | |
| US4533744A (en) | Hydrosilylation method, catalyst and method for making | |
| JP3839498B2 (ja) | 白金−オルガノシロキサン錯体の調製方法 | |
| JP4009335B2 (ja) | アクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| US6147243A (en) | Method for preparing organosilicon compounds | |
| JPH06192275A (ja) | アザシラシクロアルキル官能性アルコキシシラン及びアザシラシクロアルキル官能性テトラメチルジシロキサン | |
| JPH0786117B2 (ja) | アルコキシシラン | |
| JP3408277B2 (ja) | 硬化性組成物 | |
| JP2884074B2 (ja) | 新規含シルセスキオキサンポリマーとその製造法および耐熱性素材 | |
| JP2001181398A (ja) | 含ケイ素重合体およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090913 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110913 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120913 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913 Year of fee payment: 11 |