JPS61152649A - ２―（２′―置換ベンゾイル）―１，３―シクロヘキサンジオン化合物またはそれらの塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 一般式 （式中、Ｘはアルキルであり、ｎは０，１又は２であり
、そしてａｔｔｏフェニルか置換７エ二ルである。）を
もつ念化合物は、 一般式 １式中、Ｒ，Ｘ及びｎは前記のとおりであり、Ｒ庶ハア
ルキル、アルケニル又はアルキニルである。）の除草性
化合物製造用の中間物として、日本特許出願昭４９−８
４６３２号公報中に記載されている。これには、後者の
式中において、罷が２であり、Ｘが５．５−ジメチルで
あり、へがアリルであり、セしてＲ８がフェニル、４−
クロロフェニル又は４−メトキシフェニルテアル除草性
化合物が特記されている。

これら３種の特記化合物の前駆中間物は、殆んど、若し
くは全く除草活性を有しない。

１９８３年１０月５日刊行の欧州特許出願第８３１０２
５９９．４号は、除草剤として新規化合物２−（２−［
換ベンゾイル）−７クロヘキサンー１．３−ジオン類を
記載している。これらの化合物は次記一般式 （式中、ＲとＲ１は水素又はＣＩ−Ｃ，アルキルであり
：Ｒ２は塩素、臭素又はヨウ素であり；Ｒ８は水素又は
ハロゲノであり；そして、Ｒ８は水素、塩素、臭素、ヨ
ウ素、Ｃ，−Ｃ４アルキル、Ｃ，−Ｃ，アルコキク、ニ
トロ、又はトリフルオロメチルである。）を有する。

この発明は、２−（２−ベンゾイル）　−１，３−フク
ロヘキサンジオン類に関する。

この発明の一態様は、除草活性を有する２−（２’−ｃ
、−ｃ４アルキルチオ、ＣＩ−Ｃ，アルキルスルフィニ
ル又ｔｄ　Ｃｔ　−Ｃ４アルキルスルフォニルベンゾイ
ル）　−１，３−シクロヘキサンジオンと不活性担体と
からなる除草組成物である。１．３−７クロヘキサンゾ
オン部分は、置換されてもよいが、置換する基はここで
述べるものが好ましい。さらに好ましくは１．３−シク
ロヘキサンジオン部分には置換基がないか、若しくは、
４−又は６−位は１個又は２個のメチル基で置換される
。ベンゾイル部分の３−１４−及び５−位は置換される
が、後に述べる基が置換基として好ましい。

この発明の範囲内の態様とし勿論次の一般式の新規化合
物も含まれる。

式中、ｎは０，１又は２の整数、好ましくは２である： Ｒｅ′ｉｃ、−Ｃ，アルキル、好ましくはメチルでろる
： Ｒ１は水素又はＣＩ−Ｃ，アルキル、好ましくはｃｌ−
ｃ、７Ａ／＊Ａ／、ｊ　ｌ）好ましくは、メチル、最モ
好ましくはＲ１は水素かメチルである；Ｒ７は水素、Ｃ
ｌ−Ｃ４アルキル、好ましくはＣ，−Ｃ，フルキル、よ
り好ましくはメチル又はＲ”−０−Ｃ− （式中、Ｈａ　　はｃ、−ｃ、アルキルである）、最も
好ましくはＲ２は水素又はメチルである；又は　１１と
Ｒ２は一緒になってＣ３−Ｃ，アルキレンである、 Ｂ１は水素又はＣ，−Ｃ，アルキル、好ましくはＣＩ−
Ｃ，アルキル、よシ好ましくはメチル、最も好ましくは
Ｒｓは水素又はメチルである：Ｒ４は水素又はＣ，−Ｃ
，アルキル、好ましくはＣ３−〇Ｒアル中ル、より好ま
しくはメチル、最も好ましくはＲ４は水素又はメチルで
ある；Ｒ３は水素又はＣ，−Ｃ，アルキル、好ましくは
ｑ−Ｃ，アルキル、より好ましくはメチル、最も好まし
くはＵＳは水素又はメチルである；Ｒ６は水素又はＣＩ
−Ｃ，アルキル、好まＬ　＜　ハｃ。

−Ｃ，アルキル、より好ましくはメチル、最も好ましく
はＲ７は水素である； Ｒ７とｎ＆は独立して（１）水素；（２）ハロダノ好ま
しくは塩素、フッ素、又は臭素；　（３）　Ｃ＠　−Ｃ
４アルキル、好ましくはメチル：　（４）　Ｃ，−負ア
ルコキク、好ましくはメトキシ：　（５）　ＯＣＦｍ　
：　　（６）シアノ；（７）ニトロ：　（ｓ）　ｃｔ　
−ｃ、ハロアルキル、よす好ｔｔ、＜はトリフルオロメ
チル：　（９３Ｒｂ８０−　　（式中、ｎは整数０，１
又は２、好ましくは２であり、そして Ｒｈは（ａ）　ＣＩ　−０４アルキル、好ましくはメチ
ル；（ｂ）ハロゲン又はシアノで置換され九〇、−Ｃ４
アルキル、好ましくはクロロメチル、トＩＪ　フルオロ
メチルかシアノメチル；（ｃ）フェニル；又は （ｄ）ベンシルである）； ｎＧ−ＮＲｃＲｄ（式中、ＲＣトＲｄハ独立シテ水素又
はＣ，−Ｃ４アルキルである）； （６）Ｒ＠Ｃ（ＯＬ　（式中、Ｒ＠はＣ１−Ｃ，アルキ
ル又はＣｌ−０４アルコキシである）；又は Ｃ１２−８ｏ、ＮＲｃＲｄ（式中、ＲｃトＲｄハ上記）
とおりである）、である。

但し、Ｒ？は６−位には位置しない。

Ｒ丁は３−位に位置するのが好ましい。最も好ましくは
、Ｒ７は水素又は３−塩素であり、Ｒａは水素、塩素、
臭素、フッ素、ＣＦ、又はＲ８０゜（ＲｂはＣ，−Ｃ４
アルΦル、好ましくはメチル）である。

「Ｃ１−Ｃ４アルキル」の語には、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、インプロピル、ｎ−ブチル、式−ブチル、
インブチル及びｔ−ブチルが含まれる。「ハロゲン」に
は塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素が含まれる。ｒｅ、−
ｃ、アルコキシ」には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロ
Ｉギシ、インプロポキシ、ｎ−ブトキシ、式−エトキシ
、イソッドΦシ及びｔ−ブトキシが含まれる。「ハロア
ルキル」には、１個又は２個の水素が、塩素、臭素、ヨ
ウ素又はフッ素で置換された８種のアルキル基が含まれ
る。

上記化合物類の塩（後記する）も勿論本発明の主題であ
る。

この発明の化合物は、互変異性によって欠配の４種の構
造式を有する。

式中、ｎ、　　Ｒ，Ｒ’、　　Ｒ”、　　Ｒ”、　　Ｒ
’、　Ｒ’、　　Ｒ”、　　Ｒ’及びＣ８は上記で定義
したとおシである。

この４個の互変異性体のそれぞれにおける循環プロトン
は、かなシネ安定である。これらプロトンは酸性であっ
て、どんな塩基によっても除去されて、欠配４つの共鳴
形従って、陰イオンをもった塩を生成する。

式中、ｎ、　　Ｒ’、　　Ｒ”、　　Ｒ”、　　Ｒ’、
　Ｒ’、　　Ｒ’、　　Ｒ’及びＢ＆は上記で定義し九
とおりである。

これら塩基の陽イオンの例は、アルカリ金属（リチウム
、ナトリウム及びカリウム）のような無機陽イオン、置
換アンモニウム、スルフオニウム又はホスホニウム（置
換基は脂肪族若しくは芳香族基である）のような有機陽
イオンである。

この発明の化合物及びそれらの塩は、一般タイブの活性
除草剤である。すなわち、これらは、広範な植物種に対
して除草効果を示す。この発明の、好ましくない植物の
抑制方法は、上記化合物の除草効果量を、目標とする場
所に適用することからなる。

この発明の化合物は、次の二工程若しくは三工程からな
る一般方法によって製造できる。

この方法は、反応（１）に示し九エノールエステル中間
体の製造を経由して進められる。反応（２）に示したと
おりこの二ノールエステルを転位することによって、最
終生成物が取得される。この二つの反応は、分離して別
個に行われる、すなワチ、エノールエステルは反応（２
）の実施に先立って、通常の方法で回収するか、若しく
は、エノールエステル生成の後に、その反応媒にシアナ
イド源を添加するか、又は反応（１）の開始時にシアナ
イド源をその中に含ませておいて一工程で実施できる。

式中、中庸塩基、及びＲ−Ｒ”はここに定義のとおりで
あり、Ｘはハロダン、好ましくは塩素、Ｃ，−Ｃ，アル
キル−Ｃ（Ｏ）−０−１ＣＩ−Ｃ４アルコキシ−Ｃ（ｄ
−０−又は Ｒ ここで、分子のこの部分のＲ，Ｒ’及びＲａは上記反応
剤のものと同じである。中庸塩基は、定義のとおりであ
り、好ましくは、トリー〇、−Ｃ，アルキルアミン、ピ
リジン、アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属リン酸塩
である。

一般的に、工程（１）では、同モル量のジオｙと置換ベ
ンゾイル反応剤とを、同モル量又は過剰量の塩基と共に
使用する。この二つの反応剤はメチレンクロライド、ト
ルエン、醋酸エチル又はジメチルホルムアマイドのよう
な有機溶媒中で結合させる。塩基又はベンゾイル反応剤
は、冷却下に反応混合物に添加するのが好ましい。

混合物は反応が充分に完結するまで０″Ｃ〜５０℃で攪
拌する。

＊＝定義のとおシのシアナイド源。中庸塩基＝定義のと
おり。

一般的に、工程（２）では、１モルの二ノールエステル
中間体を１〜４モルの塩基、好ましくは中庸塩基約２モ
ル、及び０．０１モル〜約０．５モル又はそれ以上のシ
アナイド源（好ましくは０．１モルのシアン化カリウム
又はアセトンシアノヒドリン）と反応させる。混合物を
反応器中で５０℃以下、好ましくは約２０℃〜４０℃で
転位が充分完結するまで攪拌し、目的の生成物は通常の
方法で回収する。

「シアナイド源」の語は、転位条件下において、シアン
化水素及び／又はシアナイド陰イオンからなるか、若し
くはこれらを発生する１つの化合物又は複数の化合物を
指す。

この製造方法は、エノールエステルに関して過剰モルの
中庸塩基と共に、触媒量のシアナイド陰イオン及び／又
はシアン化水素の存在下で行なわれるう 好ましいシアナイド源は、シアン化ナトリウム及びシア
ン化カリウムのようなアルカリ金属シアン化物；アセト
ン又はメチルペンツチルケトンシアノヒドリンのような
、アルキル基中の炭素原子数が１−４であるメチルアル
キルケトンのシアノヒドリン；ペンツアルデヒドのシア
ノヒドリン又はアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒ
ド等のよりなＣ，−Ｃ，脂肪族アルデヒドのシアノヒド
リン；シアン化亜鉛；トリ（低級アルキル）−シリルシ
アナイド、特にトリメチルシリルシアナイド及びシアン
化水素それ自体である。比較的反応を速めること及び安
価であることから、シアン化水素が最も有利であると考
えられる。シアノヒドリン中で好ｔｔ、いシアナイド源
は、アセトンシアノヒドリンｆ６る。

シアナイド源は、エノールエステルに対して約５０モル
優までの量が用いられる。小規模の場合、約４０℃にお
いて、約１モル嘔程の少量を使用して充分な反応速度が
見られる。より大規模の反応では、約２モル慢と幾分高
触媒水準で再現性のある結果がえられる。一般的には、
約１〜１０モルチのシアナイド源の使用が好ましい。

この方法は、エノールエステルに関シて、１モル過剰量
の中庸塩基の存在下で行われる。「中庸塩基」の語は、
その塩基としての強度すなわち活性度が、水酸化塩（エ
ノールエステルの加水分解を生起する）のような強塩基
と、重炭酸塩（有効には作用しない）のような弱塩基と
の間に位置して塩基として作用する化合物を意味する。

この発明の実施において使用される適当な中庸塩基には
、第三級アミンのような有機塩基とアルカリ金属の炭酸
塩及びリン酸のような無機塩基とがある。適切な第三級
アミンにはトリエチルアミンのようなトリアルキルアミ
ン、トリエタノールアミンのようなトリアルカノールア
ミン及びピリジンがある。適切な無機塩基としては、炭
酸カリウム及びリン酸三ナトリウムがある。

この塩基は、１モルのエノールエステル当す約１から約
４モル、好ましくは約２モル量が使用される。

シアナイド源がシアン化アルカリ金属、特にシアン化カ
リウムの場合には、反応時に相移動触媒が使用される。

特に適した相移動触媒はクラウン（Ｃｒｏｗｎ　）　　
エーテル類である。

この方法には、酸塩化物又はアシル化生成物の性質によ
って多数の異種溶剤が使用される。

この反応で好ましい溶剤はＬ２−ジクロロエタンである
。使用する反応剤又は生成物によっては、他の溶剤が使
用されるが、それには、トルエン、アセトニトリル、塩
化メチレン、醋酸エチル、ジメチルホルムアミド及びメ
チルイソブチルケト７　（ＭＩＢＫ　）がある。

一般的に、反応剤及びシアナイド源の性質によって、転
位反応は約５０℃までの温度で行われる。

式中、ｎは１又は２である。

工程（３）では、一般的に、工程（２）の生成物の１モ
ルを、メチレンクロライドのような溶剤に溶解した後に
、ｍ−クロロ過安息香酸のような酸化剤の微過剰又は２
モル過剰と反応させる。反応完結後、得られた混合物を
真空下でストリップする。残留物をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製して目的化合物をうる。

上記の置換塩化ベンゾイルは、Ｌ、Ｆ、Ｆｌ・３ｅｒ及
びＭ、Ｆｌ＠ｓ＠ｒ著Ｒａａｇｅｎｔｓ　ｆｏｒ　Ｏｒ
ｇａｎｌｅ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　。

■巻、　　７６７−７６９頁（１９６７）　　の記載に
より、相応する置換安息香酸から製造できる。

式中、Ｒ，Ｒ’及びＨａは前記したとおりである。

置換安息香酸は、８．Ｐａｔａ１編、　Ｔｈ＠Ｃｈ＠ｍ
１ｓｔｒｙｏｆ　Ｃａｒｂｏｘｙｌｌｅ　Ａｃ１ｄｓ　
ａｎｄ　Ｅｓｔｅｒｓ　　、　　Ｊ、　Ｗｌｌｅｙ　ａ
ｎｄＳａｎｇ、ＮｓｗＹｏｒｋ、　Ｎ、Ｙ、　　（１９
６９）　　及びＣ，Ａ。

５ｙｎｔｈｅｓｌｓ、　Ｊ、　Ｗｌｌｅｙ　ａｎｄ　５
ｏｎｓ　、　　（１９７０）の記載により、種々な一般
的方法で製造できる。

そこに記載の方法中３つの代表例を次に示す。

式中、Ｒ，Ｒ’及びＲ８は前記したとおりである。

反応（ａ）では、硫酸水中で置換ベンゾニトリルを数時
間加熱還流する。混合物を冷却して、通常の方法で反応
生成物を分離する。

式中、Ｒ，Ｒ’及びＨａは前記したとおりである。

反応（ｂ）では、次亜塩素酸塩の水溶液中で置換アセト
フェノンを数時間加熱還流する。混合物−を冷却して、
通常の方法で反り生成物を分離する。

式中、Ｒ，Ｒ’及びＲ８は前記のとおりであり、Ｘは塩
素、臭素又はヨウ素である。

反応（ｃ）では、置換芳香族塩化物をエーテルのような
溶媒中でマグネシウムと反応させる。次に溶液を破砕し
たドウイアイス上に注ぎ、通常の方法で安息香酸を分離
する。

この発明の代表的化合物の合成を次の例で示す。

実施例１ 塩化２−メチルチオベンゾイル（７，２ｆ　。

３　’Ｊｓｓ、モル）及ヒ４４６−　）リメチルシクロ
ヘキサンジオン（５，Ｏｆ、３９ｍ、モル）を塩化メチ
レンに溶解した。トリエチルアミン（７，０，５Ｏ態モ
ル）を、滴加した後この溶液を室温で１時間攪拌した。

その溶液を２規定の塩酸（２ＮＨα）、５慢炭酸カリウ
ム溶液（５％に、Ｃｏ、　）及び飽和塩化ナトリウム溶
液（プライン）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム（Ａ４
５Ｏ，）を加えて乾燥して、真空下で濃縮した。残留物
をアセトニトリル２０−に溶解した。これにトリエチル
アミン（Ｌ５当量）及びアセトン　シアンヒドリン（α
４−）を添加して室温で４５分間攪拌した。エーテルで
希釈後その溶液を２Ｎ　Ｈａで洗浄し、５ｅｌＩＫＩＣ
ＯＳで抽出した。この水性抽出液を塩酸で酸性としてエ
ーテルで抽出した。

このエーテルをプラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し
て真空下で濃縮した。残留物をエーテルと共に粉砕ｎＩ
製し、５．Ｏｆの粘性油をえた。この物は、核磁気共鳴
分光分析（ｎｍｒ　）　、　　赤外分光分析（ｉｒ）及
びａｔ分光分析（ｍｓ）で目的化合物であることを確認
した。

実施例２ ジオン 実施例１で製造したベンゾイル　シクロヘキサンジオン
（２−５ｔ　％　　？−９ｍ１モル）を塩化メチレン４
０ｍに溶解し友。ｍ−クロロ過安息香酸（３，５ｆ、１
６ｍ、モル）を添加して４５分間攪拌した。この溶液を
真空下で濃縮し九。残留物をシリカダル　クロマトグラ
フィーで精製して、粘性油１．７　ｆ　ｔ−え九。これ
は、ｎｍｒ、ｌｒ　　及びｍｓで目的の化合物であるこ
とを確認した。

実施例３ ２−（４’−）リフルオロメチル−２′−メチルチオベ
ンゾイル）−４４−ジメチル−１，３−シクロヘキサン
ゾオン（５，Ｏｆ、１４ｍ、モル）（これは実施例１の
方法で製造した）、を塩化メチレン５Ｇ＋ｄ、に溶解し
た。ｍ−クロロ過安息香酸（Ｚ、４ｔ、−８０９６，１
４ｍ、　’Ｅ：　ｋ　）を塩化メチレン５０−１に添加
した溶液を滴加し、室温で３時間攪拌した。真空下で濃
縮後、残留物をエーテルに溶解して、１％塩酸で洗浄し
た。

残留したコ９ム状固体を６Ｎ　Ｈα　とエーテルと共に
攪拌した。エーテル層をＭｇｓ　ｏ、で乾燥し、濃縮し
て淡黄色固体４．７９をえた。遠心高速薄層クロマトグ
ラフ（４ｍシリカｒル、５０：５０：１　へ中サン：醋
酸エチル：醋酸−溶岨剤）で精製して、粘性油２．４ｆ
を得た。これは、ｎｍｒ・　ｌｒ及びｍ８　　によって
目的の化合物であることを確認し九。

上記の方法によって製造が確認された化合物の表を次に
掲げる。それぞれの化合物に付し九化合物番号は、この
出願の以後の部分でも使用した。

−１１１ピピ６゜ シ１工ｇｇｇｇｇｂ□ “１　百巴巴巴σσ巴巴 工　国　閃　閣　悶　閃　閃　閑　閑　閤　閤　大　間
開　ズ　国　閃　閃　閃　閃　ヱ　ミ　閑　工　閃　工
ズ　ズ　国　閑　閃　閤　閃　閃　閃　閑　閃　工　開
国　＋！８　ヱ　閑　閤　閤　閃　閃　国　閃　工　ヱ
　国ロヘロヘーロー〇〇ｃ１１１ｃＳ３０へ　　−一υ
″　旨　＃　讐　♀　工　繁　出　魯　１）＝　８　コ
除草性スクリーニング試験 上記の方法で製造したここに記載の化合物は、既述のと
おり、植物毒性を有し、種々の植物種の抑制に有効であ
り高く評価できる。この発明の選択された化合物につい
て、次の方法で除草剤どしての試験を行つ九。

発芽前除草試験、薬剤処理の日 これに先立って、８種の異なつ之雑草種の種子を、フラ
ットの幅を横切って作られ九、ローム質砂土の蒔溝それ
ぞれに蒔付けた。使用した種子は、ＦＴニゲリーン　フ
ォックステイル（ｇｒｓｅｎ　ｆｏｘｔａｔｌ　）　［
：　５ｅｔａｒｉａ　ｖｌｒｌｄｌｇ　］　’、　ＷＧ
　：ウォーターグラス（Ｗａｔｅｒｇｒｉｓｓ　）　（
Ｅａｈｉｎｏｅｈｌｏａｅｒｕｓｇａｌｌｌ　）　＋＋
、　ＶＬ　：ベルベットリーフ（ｖｅｌｖｅｔｌｅａｆ
　）　（Ａｂｕｔｉｌｏｎ　ｔｈｅｏｐｈｒａａｔｉ　
）　：　ＡＭＧ　：アニウアル　モーニンググローリイ
（ａｎｎｕａｌイルド　オート（Ｗｉｌｄ　ｏａｔ　）
　［Ａｖｅｎａ　ｆａｔｕａ　］：ＭＤ：インディアン
　マスタード（Ｅｎｄｉａｎイ　　ドック（１！ｕｒｌ
ｙ　ｄｏｃｋ　）　ＣＲｕｍｅｘ　ｃｒｉｓｐｕｓ　］
及びＹＮＧ　：イエロー　ナットセツジ（ｙｅｌｌｏｗ
物の形状を考慮して、それぞれのラネに約２０〜４０本
の苗が発生するのに十分な量の種子を蒔付は友。

分析用天秤を用いて、試験化合物６００岬をグラシン秤
量紙に秤取した。秤量紙と共に試験化合物を６０−容の
清浄な広口ピン中に入れ、アセトン又はそれに代る溶剤
４５−を加えて溶解した。この溶液１Ｂ−を６０−容入
ロビンに移し、２２−の水−アセトン（１９：１）混合
液を注加した。この混合液には予め十分な量のポリオキ
シエチレン　ソルビタン　モノラウレート分散剤を加え
ておき、最終溶液中における分散剤の濃度が０．５％（
容積／容積）となるようにした。得られた溶液をリニヤ
−スプレィ　テーブル（１ｌｎｅａｒ　５ｐｒａｙ　ｔ
ａｂｌｓ　）の上で、種子を蒔付けておいたフラット上
に散布した。なお、このテーブルは予めニーカー当り試
験液が８０がロン（７４８Ｌ／ｈａ　）となるように調
整しておいた。適用割合は４ポンド／ニーカー（４，４
８４／ｈａ　ｌ　　である。

上記の処理後、それぞれのフラットを７０〜８０７（２
１〜２７℃）の温室内に置いて散水した。処理の２週間
後、植物の損傷度すなわち抑制度を、同齢の未処理の対
照植物と比較して測定した。それぞれの糧について損傷
割合をＯチから１００％を用いて表した。なおＯ慢は損
傷皆無、１００％は完全抑制を意味する。

この試験結果を次の表■に示す。

帽ロ０６０ロロ０６リ ロロのΦ口Φ 発芽後除草試験：この試験は、前記の発芽前除草試験の
試験方法と同じ様式で実施した。

但し、８種の異種雑草の種子を、薬剤処理の１０〜１２
日前に蒔付けた点が異なる。勿論、処理後の７ラツトへ
の散水は、土壌表面のみに限定して、発芽植物の葉には
およばないようにした。

発芽後除草試験の結果を表■に示す。

多種類雑草−発芽前除草試験：多種類の雑草に対する発
芽前除草試験を数種の化合物について、適用割合２又は
１ポンド／ニーカー（２２４又は１．１２　Ｋ４／ｈａ
　）で測定した。

試験方法は、前記の発芽前除草試験とほぼ同様に行った
。但し、試験化合物は、３００．１５０又は３７．５Ｗ
ｑの少量を使用し、適用割合はニーカー当り４０ｆ！ロ
ン（３７４ｔ／ｈａ　）　　で行つ次点が異なる。

この試験ではカーリ−ドック（ＣＤ）を除き、次の雑草
種を追加した。

イネ科：ダウニープローム（ｄａＷｎｙ　ｂｒｏｍｅ　
）アニウアル　ライグラス（ａｎｎｕａｌゾヨンンング
ラス（Ｊｏｈｎｓｏｎｇｒａｓｓ　）グロート９リーフ
　シグナルグラス （ｂｒｏａｄｌ＠ａｆ　ｓｉｌＨｎａｌｊｇｒａｓｓ　
ｌ　（Ｂｒａｅｈｌａｒｌａｐｌａｔｙｐｈｙｌｌａ　
　Ｊ　　　　（ＢＳＧ＞ヘング　セスパニア（ｈｅｍｐ
　５ｅｓｂａｎｌａ　）（Ｓ＠５ｂａｎｌａ　＠ｘａｌ
ｔａｔａ　）　　　　（ＳＥＳＢ）シクルＩド（５ｉｅ
ｋｌｅｐｏｄ　）　［ＣａａｓＩａｏｂｔｕｓｉｆｏｌ
ｌｍ　］　　　　（ＳＰ）試験結果を表ｔＶ及び表Ｖに
示す。

多種類雑草−発芽後除草試験：この試験は、前記の発芽
後除草試験の゛試験方法と同じ様式で実施した。但し、
前記多種類雑草−発芽後除草試験に用いた８種の雑草種
を用い、かつ、薬剤処理の１０〜１２日前に蒔付は次点
が異なる。

勿論処理後のフラットへの散水は、土壌表面のみに限定
して、発芽植物の葉にはおよばないようにした。

この多種類雑草−発芽後除草試験の結果は表■及び■に
示した。

此発明の化合物は、除草剤として有用であり、広い濃度
範囲で種々な方法による適用が可能である。実際に当り
、ここに述べた化合物は除草組成物に調製される。すな
わち、農業用適用の際に、活性成分の分散を容易にする
ため通常使用される助剤及び担体が除草有効量に配合さ
れる。なお、毒性物は使用の際、その製剤および適用方
法の如何によって、材料物質の活性が影響をうける。そ
こで、これら除草活性化合物は比較的形状の大きな顆粒
、湿潤性粉末、乳化性濃厚液、溶液、其他好みの製剤、
及び好みの適用方法に応じて公知の形の製剤に調製され
る。

発芽前除草剤として適用する場合は、湿潤性粉末、乳化
性濃厚液及び顆粒形製剤が好ましい。

これらの製剤には、少くて約０．５、多くて９５重ｉｔ
％又はそれ以上の活性成分が含有される。

除草有効量は、抑制すべき種子又は植物の性買により定
まり、かつ、適用割合は、ニーカー当り約０．０５〜２
５ポンド（０，０５６〜２８に／ｈａ　）　、好ましく
は、約０．１〜約１０ポンド（０，１１〜１１，２Ｖｈ
ａ）　　に変化できる。

湿潤性粉末は、微砕された粒子で、水又は他の分散媒中
に容易に分散できる。湿潤性粉末は、究極的には、乾燥
粉末として又は水やその他の液体に分散して適用される
う湿潤性粉末用の代表的担体には、白土、カオリン粘土
、シリカ及び其他湿潤性有機又は無機希釈剤がある。湿
潤性粉末では一般に約５嘔から約９５チの活性成分が含
まれるように調製され、湿潤及び分散を容易にするため
通常少量の湿潤、分散、又は乳化剤を含ませる。

乳化性濃厚液は、水又は他の分散媒中に分散し易い均一
液体組成物であって、活性化合物と液体又は個体乳化剤
のみからなるか、若しくは、更にキシレン、重質芳香族
ナフサ、イソプレン及び他の不揮発有機溶剤のような液
状担体からなる。除草に適用の際は、これら濃厚液は水
又は他の液状担体中に分散させて、通常は処理すべき場
所にスプレーとして適用する。活性成分の含有基は、そ
の組成物の適用方法に依存するが、通常は、除草組成物
の重量に対して約０．５係から９５％の活性成分を含む
。

顆粒製剤は、比較的粗い粒に作られ、植物を死滅させた
い場所に通常希釈せずに適用する。

顆粒製剤用の代表的担体には、砂、白土、ベントナイト
粘度、バーミキュライト、ノ臂−ライト及び他の有機又
は無機物質があり、これらは活性成分を吸収するか、又
はそれによって被覆される。顆粒製剤は通常約５慢から
約２５％の活性成分を含むように製造されるが、活性成
分には、重質芳香族ナフサ、ケロセン、若しくは他の石
油留分、又は植物油のような界面活性剤及び／又はデキ
ストリ／、にかわ、又は合成樹脂のような粘着剤も含ま
れる。

農業用製剤に含有させて使用される典型的湿潤剤、分散
剤又は乳化剤、例えば、アルキル及びアルキルアリール
のスルホネート、サルフェート及びそれらのナトリウム
塩；多価アルコール；及び他の型の界面活性剤は市販さ
れている。

界面活性剤は重量で通常除草剤組成物の０．１チから１
５慢が使用される。

微粉末は、土壌へ混入させることによって適用する製剤
として有利である。これは、毒性物の分散剤及び担体と
して作用する滑石、粘土、小麦粉及び他の有機、無機質
の微砕固体と活性成分との混合物であって、自由流動性
を有する。

ペーストは、微砕された固体毒物を水又は油性成分は重
量で約５９６から９５憾が含まれ、更に少量の湿潤剤、
分散剤又は乳化剤が含まれていて分散が容易である。使
用に当っては、（−ストは通常希釈して、目的の場所に
スプレーとして適用される。

除草剤適用に適したその他の製剤として、活性成分を単
にア七トン、アルキル化す７タレン、キシレン及びその
他の有機溶剤のような分散媒中に溶解したものがある。

これらの溶剤は活性成分を完全に溶解する故任意の濃度
の溶液を造るのに用いられる。加圧スプレーとして典型
なエアロゾールも勿論使用できる。これはフレオンのよ
うな低沸点分散溶媒が蒸発する結果その中に溶解してい
た活性成分が微砕された形状で飛散するものである。

この発明の植物毒組成物は、通常の方法で植物に適用さ
れる。従って、粉末及び液状組成物は、動力−ダスター
、ブーム（６００ｍ）及び手動スプレイヤー及びスプレ
ーダスターを用いて植物に適用できる。組成物は非常に
少量使用でも有効である故飛行機から噴射又は噴霧する
ことによっても適用できる。発芽中の種子又は生育中の
苗の生育を変更したり、調節するためには、例えば、粉
末及び液状組成物を通常の方法で出渠に適用すれば、土
壌表面下少なくともＶ２イき ンチ（１，２７ｃｍ　）の深さまでｄ＄たらせる。これ
らの組成物は勿論単に土壌表面にスプレーするか、散布
するのみでよく、毒性組成物を土壌粒子と混合する必要
はない。さらに又此植物毒性組成物は、処理すべき畑に
供給する潅がい水、に添加して適用することができる。

此適用法によると、水が±１中に吸収されるにつれて、
組成物も土壌中に浸透する。土壌表面に適用した粉末組
成物、顆粒又は液状製剤は、ディスキング（ｄｉｓｅｉ
ｎｇ）　、すきならし又は混合作業のような通常の方法
で、土壌の表面下に行きわたらすことができる。

除草性化合物　　　５〜５５　　　　除草性化合物　　
　　５４界面活性剤類　　　５〜２５　　　　油溶性ス
ルホネートとポリオギシ エチレン　ニー １００　％ 極性溶剤　　　　　　２７ 石油炭化水素　　　　　９ １００％ 湿潤性粉末処方 除草性化合物　　　３〜９０　　　　除草性化合物　　
　　８０湿潤剤　　　　　０！３〜２　　　ソアルキル
　ナフタレン　スルホ ン酸ナトリウム　　０．５ 分散剤　　　　　　１〜Ｂ リグノスルホン酸 ナトリウム　　　　　７ 希釈剤類　　　　　８．５〜８７ □　　　アタデルジャイト １００チ　　　　粘土　　　　　　　１２５１００慢 除草性化合物　　　１〜２０　　　　除草性化合物　　
　　ｌＯ［合剤０〜１０　　　スルホン酸リグニン　　
５希釈剤類　　　　７０〜９９　　　　炭酸カルシウム
　　　８５１００ＩＩＩ　　　　　　　　　　　　　１
００チ流動性処方 除草性化合物　　２０〜７０　　　　除草性化合物　　
　　４５界面活性剤類　　　１〜ｌＯポリオキシエチレ
ンエーテル　　　　　　５ 沈殿防止剤類　　０．０５〜ｌ アタｒル 不凍剤　　　　　　１−ＩＱ　　　　　（ａｔｔａｇ＠
ｌ　）　　　　０．０５抗菌剤　　　　　　１−１Ｏｆ
ロビレン　グリコール　　　　　　１０ あわ止め剤　　　０１〜ｌ ピー・アイ・ティ 溶剤　　７．９５〜７７８５　−　（ＢＩＴ）　　　０
．０３１００　％　　　　シリコン消泡剤　　０．０２
水　　　　　　　　　　３９．９ １００％ 此発明の植物毒組成物には又他の添加剤を含ませること
ができる。例えば、これには肥料及び他種の除草剤、農
薬その他類似物があり、これらは、それぞれ助剤として
、又は前記の助剤と組合せて使用できる。上記の化合物
と組合せて有効な他種植物毒性化合には、例えば次のも
のがある。

２−ベンゾチアゾール−２−イロキシ−Ｎ−メチル　ア
セタニライド、 ２−クロロ−ｚｌ、　　ｓ／−ジメチル−Ｎ−（ｔ＋−
プロピルエチル）　アセタニライド、 ２−クロロ−２′１６′−ジエチル−Ｎ−（ブトキシメ
チル）　アセタニライド、 のようなアニライＰ類；ス４−ジクロロフェノキシｌｌ
酸、２．４５−トリクロロフェノキシ醋酸、２−メチル
−４−クロロフェノキシ醋酸及びそれらの塩、エステル
及びアミド； ス４−ビス（３−メトキシプロピル−アミノ）−６−メ
チルチオ−８−トリアゾン、 ２−クロロ−４−エチルアミノ−６−インプロビルアミ
ノ−ｌ−トリアゾン及び ２−エチルアミノ−４−インプロピル−アミノ−６−メ
チル−メルカプト−Ｓ−）リアシンのようなトリアゾン
誘導体； ３−（亀５−ジクロロフェニル）　−１，１−ジメチル
尿素および ３−（ｐ−クロロフェニル）　−１，１−ジメチル尿素
のような尿素誘導体； Ｎ、Ｎ−ジアリル−α−クロロアセタミド及び類似物； ５−（１，１−ジメチルベンジル）−ピペＩＪ　７’ン
ーｌ−カルゲチオエート、 ３−（４−／ロロフェニル）−メチル　ゾエチルカルゲ
チオエート、 エチル−１−へキサヒドロ−１，４−アゼピン−１−カ
ルがチオエート、 Ｓ−エチル−ヘキサヒドロ−ＩＨ−アゼピン−１−カル
がチオエート、 Ｓ−プロピル　Ｎ、Ｎ−ジプロピルチオカルバメート、 Ｓ−プロピル　Ｎ、　Ｎ−ｄｉ　−ｎ−プロピルチオカ
ルバメート、 Ｓ−エチル　シクロヘキシルエチルチオカルバメート及
び類似物のようなチオカルバメート；４−　（メチルス
ルホニル）−２，６−ゾニトローＮ、Ｎ−置換アニリン
、 ４−トリフルオロメチル−λ６−ゾニトローベＮ−ジー
ｎ−プロピル　アニリン、 ４−　）　＋７　フルオロメチル−λ６−ゾニトローＮ
−エチルーＮ−ブチル　アニリン、 のようなアニリン； ２−Ｃ４−（２，４−ジクロロフェノキシ）フェノキシ
〕−プロパノイック　ア７ツド；２−［１−（エチルア
ミノ）ブチル〕−５−〔２−エチルチオプロピルツー３
−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オン； （至）−ブチル−２−（４−（（５−トリフルオロメチ
ル−２−ピリジニル）オキシ〕−フェノキシ〕プロノ臂
ネート； ナトリウム５−（２−クロロ−４−（）リフルオロメチ
ル）フェノキシ〕−２−フルオロメチル）フェノキシ〕
−２−二トロペンゾエート；３−インプロピル−ＩＨ−
２，１，３−ベンゾチアゾアゾン−４（３１）−オン−
２，２−ジオキシド； ４−アミノ−６−ｔ−ツチルー３−（メチルチオ）−ト
リアジン−５（４Ｈ）−オンスは４−アアミノー６−（
ＬＸ−ジメチルエチル）−３−（メチルチオ）−Ｌ＆４
−トリアゾン−５（４１）−オン及び ８−（０，０−／（ジプロピル）−ベンゼン　スルホン
アミド。

活性成分と組合せて有効な肥料には、例えば、次のもの
がある。硝酸アンモニウム、尿素及び過リン酸塩。他の
配合物で有効なものに、堆肥、こやし、腐植土、砂、類
似物のように、これらの中で植物体が根をはり、生育す
るのに役立つものがある。

代理人　弁理士　　桑　　原　　英　　明宮１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，’　　　　　　　識別記号　　　庁内
整理番号多発　明　者　　ウィリアム・ジエイム　　ア
メリカ合衆国、カリス・ミカエリー　　　　　ド、バー
ミンガム　ドフオルニア　９４８０６　　リツチモンラ
イブ　３１；Ｒ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次の一般式で表わされる化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 ｎは整数０、１又は２であり； ＲはＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり； Ｒ＿１は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾
   ２は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル又は▲数式、化学式
   、表等があります▼（Ｒ＾ａはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル
   である）、であるか；又は Ｒ＾１とＲ＾２は一緒になつてＣ＿３−Ｃ＿６のアルキ
   レンであり； Ｒ＾３は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾
   ４は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾５は
   水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾６は水素
   又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；そして Ｒ＾７とＲ＾８は独立して（１）水素、（２）ハロゲン
   、（３）Ｃ＿１Ｃ＿４アルキル、（４）Ｃ＿１−Ｃ＿４
   アルコキシ、（５）ＯＣＦ＿３、（６）シアノ、（７）
   ニトロ；（８）Ｃ＿１−Ｃ＿４ハロアルキル；（９）Ｒ
   ＾ｂＳＯ＿ｎ−、〔ｎは整数０、１又は２であり、Ｒ＾
   ｂは（ａ）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、（ｂ）ハロゲン又
   はシアノで置換されたＣ＿１−Ｃ＿４アルキル、（ｃ）
   フェニル又は（ｄ）ベンジルである〕；（１０）−ＮＲ
   ＾ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは独立して水素又はＣ＿１
   −Ｃ＿４アルキルである）、（１１）Ｒ＾ｅＣ（Ｏ）−
   ′（Ｒ＾ｅはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル又はＣ＿１−Ｃ＿
   ４アルコキシである）、或いは（１２）ＳＯ＿２ＮＲ＾
   ｃＲ＾ｄ、（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは上記定義のとおりである
   ）、である、但し、Ｒ＾７は６−位には結合しない。 ２、ｎは２であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素又
   はメチルであり；Ｒ＾２は水素又はメチルであり；Ｒ＾
   ３は水素又はメチルであり；Ｒ＾４は水素又はメチルで
   あり；Ｒ＾５は水素又はメチルであり；Ｒ＾６は水素又
   はメチルであり、Ｒ＾７とＲ＾８は独立して、（１）水
   素、（２）ハロゲン；（３）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル；
   （４）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルコキシ；（５）ＯＣＦ＿３；
   （６）シアノ；（７）ニトロ；（８）Ｃ＿１−Ｃ＿４ハ
   ロアルキル；（９）Ｒ＾ｂＳＯ＿ｎ−、〔ｎは整数０、
   １又は２であり；Ｒ＾ｂは（ａ）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキ
   ル、（ｂ）ハロゲン又はシアノで置換されたＣ＿１−Ｃ
   ＿４アルキル、（Ｃ）フェニル又は（ｄ）ベンジルであ
   る〕；（１０）−ＮＲ＾ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは独
   立して水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルである）；（１
   １）Ｒ＾ｅＣ（Ｏ）−、（Ｒ＾ｅはＣ＿１−Ｃ＿４アル
   キル又はＣ＿１−Ｃ＿４アルコキシである）、或いは（
   １２）ＳＯ＿２ＮＲ＾ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは上記
   定義のとおりである）である特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 ３、Ｒ＾７とＲ＾８は独立して水素；塩素；フッ素；臭
   素；メチル；メトキシ；ＯＣＦ＿３；シアノ；ニトロ；
   トリフルオロメチル；Ｒ＾ｂＳＯ＿ｎ−（ｎは整数２で
   あり、Ｒ＾ｂはメチル、クロロメチル、トリフルオロメ
   チル、シアノメチル、エチル、又はｎ−プロピルである
   ）；−ＮＲ＾ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは独立して水素
   又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルである）；Ｒ＾ｅＣ（Ｏ）
   −、（Ｒ＾ｅはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル又はＣ＿１−Ｃ
   ＿４アルコキシである）或いはＳＯ＿２ＮＲ＾ｃＲ＾ｄ
   （Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは上記定義のとおりである）であり、
   そしてＲ＾７は３−位に位置する特許請求の範囲第２項
   記載の化合物。 ４、Ｒ＾７は水素であり；Ｒ＾８は水素、塩素、臭素、
   フッ素、ＣＦ＿３又はＲ＾ｂＳＯ＿２（Ｒ＾ｂはＣ＿１
   −Ｃ＿４アルキルである）である特許請求の範囲第２項
   記載の化合物。 ５、ｎは２であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１はメチル
   であり；Ｒ＾２はメチルであり；Ｒ＾３は水素であり；
   Ｒ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水
   素であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８は水素で
   ある特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ６、ｎは２であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１はメチル
   であり；Ｒ＾２はメチルであり；Ｒ＾３は水素であり；
   Ｒ＾４は水素であり；Ｒ＾５はメチルであり；Ｒ＾７は
   水素であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８は水素
   である特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ７、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素で
   あり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ＾
   ４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾７は３−塩
   素であり；そしてＲ＾８は塩素である特許請求の範囲第
   ２項記載の化合物。 ８、ｎは２であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素で
   あり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ＾
   ４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水素で
   あり；Ｒ＾７は３−塩素であり；そしてＲ＾８は塩素で
   ある特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ９、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素で
   あり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ＾
   ４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水素で
   あり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８はトリフルオ
   ロメチルである特許請求の範囲第２項記載の化合物。 １０、ｎは２であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素
   であり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ
   ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水素
   であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８はトリフル
   オロメチルである特許請求の範囲第２項記載の化合物。 １１、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１はメチ
   ルであり；Ｒ＾２はメチルであり；Ｒ＾３は水素であり
   ；Ｒ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は
   水素であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８はトリ
   フルオロメチルである特許請求の範囲第２項記載の化合
   物。 １２、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１はメチ
   ルであり；Ｒ＾２はメチルであり；Ｒ＾３は水素であり
   ；Ｒ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は
   水素であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８はトリ
   フルオロメチルである特許請求の範範第２項記載の化合
   物。 １３、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１はメチ
   ルであり；Ｒ＾２はメチルであり；Ｒ＾３は水素であり
   ；Ｒ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は
   水素であり；Ｒ＾７は水素であり；そしてＲ＾８はトリ
   フルオロメチルである特許請求の範囲第２項記載の化合
   物。 １４、ｎは０であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素
   であり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ
   ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水素
   であり；Ｒ＾７は３−塩素であり；そしてＲ＾８はメチ
   ルチオである特許請求の範囲第２項記載の化合物。 １５、ｎは１であり；Ｒはメチルであり；Ｒ＾１は水素
   であり；Ｒ＾２は水素であり；Ｒ＾３は水素であり；Ｒ
   ＾４は水素であり；Ｒ＾５は水素であり；Ｒ＾６は水素
   であり；Ｒ＾７は３−塩素であり；そしてＲ＾８はＣＨ
   ＿３Ｓ（Ｏ）−である特許請求の範囲第２項記載の化合
   物。 １６、特許請求の範囲第１項乃至第１５項記載の化合物
   の除草効果量を抑制を所望する場所に適用することを特
   徴とする好ましくない植物の抑制方法。 １７、除草活性化合物２−（２−Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキ
   ルチオ、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキルスルフィニル又はＣ＿
   １−Ｃ＿４アルキルスルホニルベンゾイル）−１，３−
   シクロヘキサンジオンとそれに不活性な担体とからなる
   除草組成物。 １８、２−（２−Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキルチオ、Ｃ＿１
   −Ｃ＿４アルキルスルフィニル又はＣ＿１−Ｃ＿４アル
   キルスルホニルベンゾイル）−１，３−シクロヘキサン
   ジオンが特許請求の範囲第１項乃至第１５項記載の化合
   物である特許請求の範囲第１７項記載の除草組成物。 １９、工程（１）：一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔Ｒ＾１は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ
   ＾２は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル又は▲数式、化学
   式、表等があります▼（Ｒ＾ａはＣ＿１−Ｃ＿４アルキ
   ル）、であるか、又はＲ＾１とＲ＾２は一緒になつてＣ
   ＿３−Ｃ＿６のアルキレンであり； Ｒ＾３は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾
   ４は水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾５は
   水素又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルであり；Ｒ＾６は水素
   又はＣ＿１−Ｃ＿４アルキルである、〕で表わされるジ
   オンを一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ＲはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル、（任意にハロゲンで置
   換されている） Ｒ＾７とＲ＾８は独立して（１）水素、（２）ハロゲン
   、（３）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、（４）Ｃ＿１−Ｃ＿
   ４アルコキシ、（５）ＯＣＦ＿３、（６）シアノ、（７
   ）ニトロ、（８）Ｃ＿１−Ｃ＿４ハロアルキル、（９）
   Ｒ＾ｂＳＯ＿ｎ−、〔ｎは整数０、１又は２であり；Ｒ
   ＾ｂは（ａ）Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル；（ｂ）ハロゲン
   又はシアノで置換されたＣ＿１−Ｃ＿４アルキル、（ｃ
   ）フェニル又は（ｄ）ベンジルである〕、（１０）−Ｎ
   Ｒ＾ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは独立して水素又はＣ＿
   １−Ｃ＿４アルキルである）、（１１）Ｒ＾ｅＣ（Ｏ）
   −（Ｒ＾ｅはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル又はＣ＿１−Ｃ＿
   ４アルコキシである）、或いは（１２）ＳＯ＿２ＮＲ＾
   ｃＲ＾ｄ（Ｒ＾ｃとＲ＾ｄは上記定義のとおりである）
   、である、但しＲ＾７は６位には位置しない。そして Ｘはハロゲン、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｏ
   −、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルコキシＣ（Ｏ）−Ｏ−又は▲数
   式、化学式、表等があります▼ Ｒ、Ｒ＾７及びＲ＾８は上記に示したものと同じ〕で表
   わされる置換ベンゾイル反応剤と、少くとも１モルの中
   庸塩基とに反応させて、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ及びＲ＾１〜Ｒ＾８は上記定義のとおりである）で
   表わされるエノールエステルを生成させ、工程（２）：
   このエノールエステル１モルを１〜４モルの中庸塩基及
   び０．０１〜０．５モル又はそれ以上のシアナイド源と
   反応させて 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＾１〜Ｒ＾８は上記定義のとおりである）で表わさ
   れる２−Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキルチオベンゾイル化合物
   を生成させる、なお、任意にこの２−Ｃ＿１＿−＿４ア
   ルキルチオベンゾイル化合物を１〜２モルの酸化剤で酸
   化して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ及びＲ＾１〜Ｒ＾８は上記定義のとおりであり；ｎ
   は整数１又は２である） で表わされる化合物を生成させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ及びＲ＾１〜Ｒ＾８は上記定義のとおりである）で
   表わされる化合物の製造方法。 ２０、Ｘはハロゲンであり；中庸塩基はトリ−Ｃ＿１−
   Ｃ＿６アルキルアミン、ピリジン、アルカリ金属カーボ
   ネート又はアルカリ金属ホスフェートであり；シアナイ
   ド源はアルカリ金属シアナイド、メチルＣ＿１−Ｃ＿４
   アルキルケトンのシアノヒドリン、ベンツアルデヒド若
   しくはＣ＿２−Ｃ＿３脂肪族アルデヒドのシアノヒドリ
   ン、シアノヒドリン、亜鉛シアナイド、トリ（低級アル
   キル）シリルシアナイド又はシアン化水素である特許請
   求の範囲第１９項記載の方法。 ２１、Ｘは塩素であり；中庸塩基はトリ−Ｃ＿１−Ｃ＿
   ６アルキルアミン、ピリジン、ナトリウムカーボネート
   、又はナトリウムホスフェートであり；シアナイド源は
   カリウムシアナイド、アセトンシアノヒドリン又はシア
   ン化水素である特許請求の範囲第２０項記載の方法。