JPS6112734A - 耐摩耗性のすぐれた被覆プラスチツク成形体の製造方法 - Google Patents

耐摩耗性のすぐれた被覆プラスチツク成形体の製造方法

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JPS6112734A
JPS6112734A JP59133850A JP13385084A JPS6112734A JP S6112734 A JPS6112734 A JP S6112734A JP 59133850 A JP59133850 A JP 59133850A JP 13385084 A JP13385084 A JP 13385084A JP S6112734 A JPS6112734 A JP S6112734A
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滝川 章雄
Hirotsugu Nagayama
永山 裕嗣
Motoaki Yoshida
元昭 吉田
Hideo Kawahara
秀夫 河原
Hisao Honda
本多 久男
Noboru Otani
昇 大谷
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチック成形体の表面硬度、耐候性、耐薬
品性などの表面状態を改善する方法に関し、特にプラス
チツタ成形体表面に耐摩耗性被覆を行なう方法に関する
〔従来技術) プラスチック成形体、たとえばポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンポリ塩化ビニルな
どは、その透明性、軽量性、易加工性、耐衝撃性などに
すぐれているが、耐摩耗性、耐溶剤性に乏しく、表面に
傷がつきやすく、また有機溶剤に侵されやすいという欠
点がある。
そこでこれら欠点を改良するための被膜の形成方法とし
ては(Al湿式法および(B)乾式法等が提案されてい
る。
ここで(A)の湿式法とは各種熱硬化性樹脂でプラスチ
ック成形体を被覆する方法を言うが、これらは耐摩耗性
、耐溶剤性が改良されるとはいうものの無機材料とくら
べるとまだまだその耐摩耗性、゛耐溶剤性について劣る
ものであった。
又ここで言う(Blの乾式法とはSi02S102t+
S b 203 HOeO21L a2031 PbF
 31 Pr 6011 s S 10 + T 10
2 +ThO2r ZnS I Zr0a p S i
3N4 + T13N 4 HAl2O3などの金属酸
化物、窒化物、弗化物および硫化物などを真空蒸着、プ
ラズマ処理、イオンブレーティング、CVD法などで被
膜形成する方法をいうが、これらは■その被膜形成に真
空系の装置が必要である。
■設備費が3多くかかる。■大形のプラスチック成形体
に対して被膜形成が出来ない。■四部゛を持つ様な成形
体表面に均一な被膜を形成することができない。などの
欠点があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上記従来法では難かしい大型形状又は四部等
を有する不定形のプラスチック成形体表面に耐摩耗性、
耐溶剤性の良好な被膜を形成する方法を提供することを
その目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記問題点を解決するためにプラスチック成
形体に下記一般式(1)で示されるケイ素化合物、それ
らの加水物解物、およびフロイダルシリ力からなる群よ
り選ばれた少なくとも1種のケイ素化合物を被覆硬化さ
せ第1次被膜とした後、該第1次被膜つきプラスチック
成形体と酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水素酸溶液とを
接触させて第1次被膜上に酸化珪素被膜を形成させる方
法を用いている。
一般弐N(11R1nSi(R2)、−n(式:中R1
は炭素数1〜乙の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキ
シ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素ま
たは塩素を有する有機基であり R2はアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基、アセトキシ基および塩素元素
から選ばれる7種もしくは複数の結合基であり、nは0
−+である。)ここで本発明に使用されるプラスチック
成形体は、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリ
アセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニ
レンオキサイド等に代表される熱可塑性樹脂、ポリジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート、フェノール
樹脂等に代表される熱硬化性樹脂等各種樹脂成形体であ
る。
又一般式(1)で示されるケイ素化合物としては、テト
ラメチルシラン、トリメチルメトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラ
エトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン
、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、r−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、τ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−(β−アミノエチル)−r−アミ/プロピ
ルトリメトキシシラン、N−ビス(β−ヒドロキシエチ
ル)−r−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(
β−アミ/エチル)−r−アミノプロピル(メチル)ジ
メトキシシラン、r−り四ロプロピルトリメトキシシラ
ン、r−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、J、
3.3−)リフルオロプロピルトリメトキシシラン、r
−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、β−(J
、4’−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシ
シラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシ
ラン、トリメチルクロロシラン、テトラクロロシラン等
がその代表例としてあげられる。
またこれら一般式(1)で表されるケイ素化合物の加水
分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、アルコキ
シアルフキシ基、アシルオキシ基、塩素元素の一部また
は全部が水酸基に置換されたもの、および置換された水
酸基同志が一部自然に縮合したものを含んでいる。これ
らの加水分解物は、例えば水およびアルコールの様な混
合溶媒中で酸の存在下で加水分解することによって得る
ことができる。
マタコロイダルシリ力とは、粒径/へ100  ミリミ
クロンのシリカの超微粒子を水またアルコール系分散媒
に分散せしめたゾルまたはこのゾルから分散媒を除去し
た乾燥粉末であり、通常市販されているものが使用可能
である。
これら一般式(1)で示されるケイ素化合物、それらの
加水分解物、およびコロイダルシリカからなる群より選
ばれた少なくとも7種を用いてプラスチック成形体に第
1次被膜を形成するが、その形成方法は、塗料として塗
布した後熱、紫外線、電子線等を用いて硬化させる湿式
法、真空蒸着、イオンブレーティング、スペッタリング
、プラズマ重合等の乾式法のいずれであってもかまわな
いが、大型、任意形状のプラスチック成形体に被膜を形
成するためには前記湿式法が好ましい。
形成される第1次被膜としては0.5〜30μm 特に
sμm程度の厚みのものが好まれる。
又本発明に使用される酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水
素酸溶液(以下処理液と略称する)とは、珪弗化水素酸
溶液に酸化珪素(シリカゲル、エアロゲル、シリカガラ
ス、その他酸化珪素含有物すど)を溶解させた復水又は
試薬(ホウ酸、塩化アルミニウム他)を添加し、酸化珪
素の過飽和状態としたものが使用出来る。
第1次被膜つきプラスチック成形体と接触させられる処
理液中の珪弗化水素酸の濃度としては/−2モル/lが
好まれるが、中でも2モル/lより濃い珪弗化水素酸水
溶液に酸化珪素を飽和させた復水で稀釈して1〜2モル
/lの濃度としたものが被膜形成速度が速く、効率良く
被膜形成が行なえるので望ましい。
過飽和状態とするためにホウ酸を添加する場合のホウ酸
の添加量は処理液中の珪弗化水素酸lモルに対して/X
10−”〜MX/(7−”モルの範囲であることが必要
であり、中でも八λ×10〜10X10−”’%/u7
あることが速く均質な被膜を得るために好ましい。
上記処理液と第1次被膜つきプラスチック成形体とを接
触させる方法としては、該成形体表面に処理液を流下さ
せる等の接触方法であってもかまわないが、処理液を満
たした浸漬槽に該成形体を浸漬する方法が簡単でしかも
均一な被膜が得られるので好ましい。
又該処理液は、 (イ)該成形体との接触時においても連続的にホウ酸水
溶液が添加、混合されている処1理液であり、(ロ) 
1分間あたり処理液全量の3%以上の処理液がフィルタ
ーで濾過され戻される処理液である。
ことが好ましい。
ここで接触時にわたって連続的にホウ酸水溶液を添加、
混合することは被膜の形成速度を向上させるために好ま
しく、又3%以上の処理液を循環させることは均質な被
膜を連続的に得るために好ましい。フィルターで処理液
を濾過することは凹凸形状のない被膜を得るた□めに好
まれ、珪弗化水素酸に酸化珪素を溶解・飽和させる酸化
珪素の供給源として通常のシリカゲルを用いた場合には
孔径7.58m以下のフィルターが、その他シリカガラ
スなどを用いた場合には70μm以下のフィルターであ
ることが好まれる。
又処理液を浸漬槽に入れて該成形体と接触させる場合に
は、浸漬中の該成形体表面において該処理液が層流とな
って流れるようにすることがむらのない均質な被膜を得
るために好ましい。
〔作 用〕
本発明はプラスチック成形体表面に付着性良好な珪素含
有被膜を7次被膜として被覆し、さらにその上に該1次
被膜と付着性良好な酸化珪素被膜を作成するものであり
、酸化珪素被膜を直接プラスチック成形体表面に被覆す
る時とくらべてはるかに耐久性の良い被膜を得ることが
でき、又塗布・浸漬法を使用出来る被膜形成法である。
〔実 施 例〕
本発明にもとづ〈実施例を以下に示すが実施例中の部、
%はそれぞれ重量部、重量%を示すものである。
実施例/ まずτ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン33
0部、水分散コロイダルシリカ(日量化学■製、商品名
スノーテックス−C1固形分、20%)/4Z部、蒸留
水9部及びへ2規定塩酸水溶液3部を混合しざO″Cで
グ時間還流後、57部の溶媒を溶出温度g’o−qo°
Cで部用した。この様にして得られたコロイダルシリカ
を含むr−グリンドキシプロビルトリメトキシシランの
加水分解物溶液33部にエチルセロソルブ100部及び
硬化触媒、フローコントロール剤を少々添加し塗料とし
た。この塗料をあらかじめ洗浄した、たて700mmよ
こ100mm厚さ八1mmのポリジエチレングリコール
ビスアリルカーボネート(以後−0R−39と呼ぶ)平
板に浸漬法で塗布し、120″Cの熱風乾燥炉で30分
間熱処理した。0R−39平板上には1μmの厚みの第
7次被膜が形成されていた。
上記7次被膜を形成した0R−39平板上に第1図に示
す酸化珪素被膜製造装置を用いて酸化珪素被膜を作成し
た。
第1図において浸漬槽は外槽(1)と内槽(2)から成
り、内槽と外槽の間には水(3)が満しである。この水
は温度が33”Cとなるようヒーター(Il)で加熱さ
れ、かつ温度分布均一化のため攪拌器(S)で攪拌され
ている。内槽は前部(6)、中部(7)、後部(ざ)か
ら成り、各部には工業用シリカゲル粉末を酸化珪素の供
給源として酸化珪素を溶解・飽和させた2、0モル/l
の濃度の珪弗化水素議水溶液を水を用いて倍に希釈した
31の反応液が満たしである。ここでます循環ポンプ(
10)を作動させ内槽後部(ざ)の反応液を一定量づつ
汲出してフィルター(//)で濾過し内槽前部(に)へ
戻す処理液循環を開始した。
その後、O,Sモル/lのホウ酸水溶液(12)を連続
的に内槽後部(、r)に摘下し10時間保持した。この
状態で反応液は適度な5i02過飽和度を有する処理液
となった。
ここでフィルター(//)の絶対除去率を八Sμmおよ
び処理液循環量を2QO’ml1分(処理液全量が約3
1であるので循環量はざ%/分である)と調整した。そ
して前記7次被膜を形成した0R−39平板(9)を内
槽中部(7) vc垂直に浸漬し前記条件(0,!;で
l6時間保持した。
上記処理で7次被膜上にさらに被膜が得られたが1次被
膜上の被膜は約!;0OOA厚であった。
この上記何着膜部をESOA(EiectronSpe
ctroscopy for Chemical An
alysis)を用いて分析した結果、殆どが8102
からなることが確1詔され、また電子顕微鏡による一万
倍観察によると、付着膜表面は極めて平滑な表面である
ことが認められた。
上記実施例で得られた酸化珪素被膜つきプラスチック成
形体をざO″Cの温水中に70時間浸漬したが被膜に変
化は見られず、付着性良好な被膜であることがわかった
又本実施例で得られた酸化珪素被膜に鉛筆引っかき試験
(JIS KsIloo、乙、ハ・を行なったところ名
Hとなった。
実施例2 プラスチック成形体としてポリカーボネート平板(たて
100mm、よこ100mm、厚さ、zmm)を用い、
7次被膜として下記二重塗布法を用いて形成された被膜
を利用した例を実施例!として示す。
まず以下の手順で下塗り液を作成した。始めにメチルイ
ソブチルケトン2’lO部、メタクリル酸メチル/60
部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランI
I0部の混合物を窒素雰囲下で7!;”CK保ちつつベ
ンゾイルパーオキサイド0.5部をメチルイソブチルケ
トン60部に溶かした溶液を2時間かかって加えた。さ
らVc2時間、同温度に保った後、ベンゾイルパーオキ
サイド0.5部をメチルイソブチルケトン60部に溶か
した溶液を再び1時間かかって加え、7j’Cでの保温
をq時間続けた。その後メチルイ、ツブチルケトン75
0部、メチルエチルケトン2IlO部、インプロパツー
ル630部、ノー(2/−ヒドロキシ−ジーを一ブチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリア/ −ル2θ部を
加えた。この溶液を共重合体溶液−/と呼ぶものとする
接方メチル無水ナジック酸/7g部にr−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン227部を70°Cに保ちつつ1
時間かかって加え、さらに1時間保温した後、エタノー
ル530部、イソプロパツール1070部を加えた。得
られた溶液の酸価は12であった。これはイミド基含有
シラン又は/及びポリシロキサンを約60モル%、アミ
ド基含有シラン又は/及びポリシロキサンを約40モル
%含むことを示す。この溶液をシラン溶液−/と呼ぶも
のとする。
そして共重合体溶液−/を100部とシラン溶液−7を
10部を混合して下塗り塗料とし、あらかじめ洗浄した
ポリカーボネート基材にこの下塗り塗料を塗布し、熱風
乾燥炉で/20°C,30分間加熱乾燥した。
次に上記下塗り塗料上に塗布する上塗り塗料を以下の手
段で作成した。まずγ−グリシドキシプロビルトリメト
キシシラン10部、メチルトリメトキシシラン/111
1部、コロイダルシリカ(日量化学工業■製、商品名ス
ノーテックス−C1固形分20%)7/部およびO,/
規定塩酸水溶液770部を混合し、ざO−ざS′Cで2
時間還流して加水分解を行なったつ として計算されたr−グリシドキシプロビルトリメトキ
シシラン加水分解物/2.2%、C1H3Si01.5
として計算されたメチルトリメトキシシラン加水分解物
15.3%及び5i02として計算されたコロイダルシ
リカ3.7%を含んでいた。
この様にして得られた3元共加水分解物溶液# / 0
部11C工チルセロソルブ73部、過塩素酸アンモニウ
ム八3部、フローコントロール剤少々を添加し上塗り塗
料とした。
釣 この様にして得られた上塗り塗料を全記下塗り層で被覆
されたポリカーボネート上に塗布し熱風乾燥炉で/30
°CtO分間加熱乾燥し硬化させた。
上記二重塗布法を用いて形成した1次被膜つきポリカー
ボネート平板に、実施例1と同様の操作で珪弗化水素酸
の酸化珪素過飽和溶液を用いた酸化珪素析出被膜(約r
oooh厚)を形成した。
得られた酸化珪素被膜つきポリカーボネート板に実施例
1と同様io時間go″C温水に浸す温水処理試験を行
なったが、付着性は実施例/と同様良好であった。
実施例3 メチルトリメトキシシラン207部、コロイダルシリカ
(日量化学工業■製、商品名スノーテックスC1固形分
20%)311部部および酢酸乙部を混合し外部冷却上
攪拌1時間実施後室温で7日放置した。この様にして得
られた加水分解物溶液ltO部にエチルセロソルブ30
部、塩化アンモニウムo、s#−yローコントロール剤
少々添加シ塗料とした。あらかじめ洗浄したアクリル基
板(たて100mm、よこ100mm、厚さ八#mm)
K前記塗料を塗布し熱風乾燥炉で90°C3時間加熱し
乾燥硬化させた。
その後この得られた1次被膜つきアクリル基板に実施例
/、2と同様珪弗化水素酸の酸化珪素過飽和溶液を用い
た酸化珪素被膜を形成した。
(膜厚約5oooX) 得られた酸化珪素被膜つきアクリル基板に実施例/、2
と同様70時間ざO″Cの温水に浸す温水処理試験を行
なったが、付着性は実施例/、2と同様良好であった。
実施例弘 実施例1とくらべて、浸漬槽に0R−39平板を浸漬す
る時間を73時間から3時間とした以外は同じ操作で0
RJq平桁トに約りooh厚の酸化珪素被膜を作成した
ここで、酸化珪素被膜のない0R−39平板および上記
qooX厚の酸化珪素被膜つき0R−39平板の波長5
tooXの光に対する透過率を測定したところおのおの
9.2%および9t%であり、本発明にと よって得られる酸化珪素被膜は反射防止騰として作用さ
せることも可能であることがわかった。
比較例 アクリル平板(たて100m凧よこ100mmJ$さ、
zmm)を用い、第1次被覆処理なしに実施例/と同様
の珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液を用いた酸化珪素
被膜処理を行なってアクリル平板上に酸化珪素被膜(約
5oooh厚)を作成した。
得られた酸化珪素被膜つきアクリル平板について、実施
例/ 、、2.Jと同様10時間go″Cの温水に浸す
温水処理試験を行なったところ、アクリル平板および酸
化珪素被膜とは剥離してしまった。
〔発明の効果〕
本発明によればプラスチック表面に表面硬度、耐候性、
耐薬品性の良好な酸化珪素被膜を付着性が良い状態で、
真空蒸着装置など大かがすな設備を用いずに簡単に作成
出来る。又溶液の塗布および/または浸漬によって酸化
珪素被膜を形成することが出来るので例えば四部を持つ
様な形状のプラスチック成形体であっても均一な被膜を
得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例および比較例に使用した循環式
処理装置の系統説明図である。 (1)外槽 (2)内槽 (3)水 (lI)  ヒー
ター(j)  攪拌器 (6)内槽前部 (7)内槽中
部(ざ)内槽後部 (ワ) プラスチック成形体(10
)循環ポンプ (//)フィルター(/2)ホウ酸水溶

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)プラスチック成形体に、下記一般式(1)で示さ
    れるケイ素化合物、それらの加水分解物、およびコロイ
    ダルシリカからなる群より選ばれた少なくとも1種のケ
    イ素化合物を被覆硬化させて第1次被膜とした後、該第
    1次被膜つきプラスチック成形体と酸化珪素の過飽和状
    態の珪弗化水素酸溶液とを接触させて第1次被膜上に酸
    化珪素被膜を形成させることを特徴とする耐摩耗性のす
    ぐれた被覆プラスチック成形体の製造方法。 一般式(1)R^1_nSi(R^2)_4_−_n(
    式中R^1は炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メ
    タクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
    、フッ素または塩素を有する有機基であり、R^2はア
    ルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アセトキシ基お
    よび塩素元素から選ばれる1種もしくは複数の結合基で
    あり、nは0〜4ある。)
  2. (2)該酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水素酸溶液が酸
    化珪素を溶解させた珪弗化水素酸水溶液にホウ酸を添加
    して酸化珪素の過飽和状態とした処理液である特許請求
    の範囲第1項記載の耐摩耗性のすぐれた被覆プラスチッ
    ク成形体の製造方法。
  3. (3)該処理液が、 (イ)該第1次被膜つきプラスチック成形体との接触時
    においても連続的にホウ酸水溶液が添加、混合されてい
    る処理液であり、 (ロ)1分間あたり処理液全量の3%以上の処理液がフ
    ィルターで濾過され戻される処理液である特許請求の範
    囲第2項記載の耐摩耗性のすぐれた被覆プラスチック成
    形体の製造方法。
  4. (4)該処理液中の珪弗化水素酸の濃度が1〜2モル/
    lであり、ホウ酸の添加量が該処理液中の珪弗化水素酸
    1モルに対して1×10^−^2〜40×10^−^2
    モルであり、該フィルターの孔径が1.5μm以下であ
    る特許請求の範囲第3項記載の耐摩耗性のすぐれた被覆
    プラスチック成形体の製造方法。
JP59133850A 1984-06-28 1984-06-28 耐摩耗性のすぐれた被覆プラスチツク成形体の製造方法 Granted JPS6112734A (ja)

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