JPS61123163A - ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法 - Google Patents
ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61123163A JPS61123163A JP24680684A JP24680684A JPS61123163A JP S61123163 A JPS61123163 A JP S61123163A JP 24680684 A JP24680684 A JP 24680684A JP 24680684 A JP24680684 A JP 24680684A JP S61123163 A JPS61123163 A JP S61123163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diode
- weight
- pellet
- electrode
- diode pellet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はダブル・ヒートシンク書ダイオード(以下r
DHDJという。)の製造方法の改良に関するものであ
る。
DHDJという。)の製造方法の改良に関するものであ
る。
第2図は一般的なりHDの構造を示す薪面図で、(1)
は半導体基板、(2)は金属バンブを甑、(3)は半導
体基板(1)と金属バン1電匝(2)とからなるダイオ
ードペレット、(4)は下at甑、(5) H上1ff
i ’! 11、(6)ハガラススリーブであって、下
部・上FiA電甑(4) 、 (6)はそれぞれガラス
スリーブ(6)に融着しており、ダイオードペレット(
3)と下部−・下部電極(4) 、 (5)との接触は
ダイオードペレット(3)とガラススリーブ(6)との
熱収縮差によって保たれている。
は半導体基板、(2)は金属バンブを甑、(3)は半導
体基板(1)と金属バン1電匝(2)とからなるダイオ
ードペレット、(4)は下at甑、(5) H上1ff
i ’! 11、(6)ハガラススリーブであって、下
部・上FiA電甑(4) 、 (6)はそれぞれガラス
スリーブ(6)に融着しており、ダイオードペレット(
3)と下部−・下部電極(4) 、 (5)との接触は
ダイオードペレット(3)とガラススリーブ(6)との
熱収縮差によって保たれている。
第3図はこのDHDの従来方法での封止冷却時の・状態
を示す断面図で、(7) 、 (8)はヒータの役割を
する治具、(9)はおもりである。治A (7) 、
(8)内にダイオードペレッ) (3) 、下部・上部
電ffl (4) 、 <51及びガラススリーブ(6
)を図示のように組み込んで、治具(7) 、 (8)
を昇温させて両電極(4) 、 (5)をガラススリー
ブ(6)と融着させる。このとき下部電極(5)の上に
はおもり(9)による荷重をかけ、この状態で常温まで
冷却して騒た。
を示す断面図で、(7) 、 (8)はヒータの役割を
する治具、(9)はおもりである。治A (7) 、
(8)内にダイオードペレッ) (3) 、下部・上部
電ffl (4) 、 <51及びガラススリーブ(6
)を図示のように組み込んで、治具(7) 、 (8)
を昇温させて両電極(4) 、 (5)をガラススリー
ブ(6)と融着させる。このとき下部電極(5)の上に
はおもり(9)による荷重をかけ、この状態で常温まで
冷却して騒た。
前述のように、ダイオードペレット(3)と両電極(4
) 、 (5)との接触をダイオードペレット(3)と
ガラススリーブ(6)との熱収縮差によって確保するに
は上記常温への冷却過程が重要であり、理想的には両[
I! (4) 、 (5)が同等の速さで冷却した後に
ガラススリーブ(6)が冷却するのが望ましい。
) 、 (5)との接触をダイオードペレット(3)と
ガラススリーブ(6)との熱収縮差によって確保するに
は上記常温への冷却過程が重要であり、理想的には両[
I! (4) 、 (5)が同等の速さで冷却した後に
ガラススリーブ(6)が冷却するのが望ましい。
ところが、従来の方法では第3図にも示したように、下
品電極(5)の上に熱容量の大きいおもり(9)が置か
れており、上II [極(5) fllの冷却が熱容量
の小さい下品電極(4)に比して非常に遅くなり、場合
によってはガラススリーブ(6)の冷却と殆んど差がな
い状態にな9、ダイオードペレット(3)と両tW(4
) 、 (5)との接触不良を生じ、このようにして得
たDHI)は大電流を流すとオープン不良を起こすとい
う問題点があった。
品電極(5)の上に熱容量の大きいおもり(9)が置か
れており、上II [極(5) fllの冷却が熱容量
の小さい下品電極(4)に比して非常に遅くなり、場合
によってはガラススリーブ(6)の冷却と殆んど差がな
い状態にな9、ダイオードペレット(3)と両tW(4
) 、 (5)との接触不良を生じ、このようにして得
たDHI)は大電流を流すとオープン不良を起こすとい
う問題点があった。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、ダイオードペレットと上部・下品電極との接触の良
好なりHDを得る方法を提供することを目的とする。
で、ダイオードペレットと上部・下品電極との接触の良
好なりHDを得る方法を提供することを目的とする。
この発明に係るDHDの製造方法では上述の昇温封止後
、冷却過程においては上部電極の上のおもシを除去する
。
、冷却過程においては上部電極の上のおもシを除去する
。
この発明では冷却過程で上部電極上の熱容量の大きいお
もりを除去するのでJ:a、下部両電極は同時に速かに
冷却でき、ガラススリーブよりも早くダイオードペレッ
トを冷却できるので、ダイオードペレットと両電極との
接触の良好なりHDが得られる。
もりを除去するのでJ:a、下部両電極は同時に速かに
冷却でき、ガラススリーブよりも早くダイオードペレッ
トを冷却できるので、ダイオードペレットと両電極との
接触の良好なりHDが得られる。
第1図はこの発明の一実施例の封止冷却時の状態を示す
断面図で、前述の従来例と同一符号は同等部分を示す。
断面図で、前述の従来例と同一符号は同等部分を示す。
治具(7) 、 (8)内における加熱加圧封止段階ま
では従来と全く同様であるが、冷却段階に入ると直ちに
上部型@(5)の土のおもり(9)を除去する。第1図
では上部型ti@ (5)の上方に浮すた状態で示しで
ある。これによっておもり(9)の大きな熱容量の影響
は除去され下部・上部両電極(4) 、 (5)はとも
に同時に速かに冷却できる。
では従来と全く同様であるが、冷却段階に入ると直ちに
上部型@(5)の土のおもり(9)を除去する。第1図
では上部型ti@ (5)の上方に浮すた状態で示しで
ある。これによっておもり(9)の大きな熱容量の影響
は除去され下部・上部両電極(4) 、 (5)はとも
に同時に速かに冷却できる。
以と説明したように、この発明ではDIDの封止過程に
おいて、加熱加圧封止融着段階を経て冷却段階に入ると
上部電極上に置いていたおもりを除去するので、上下両
電極はともに速かに冷却でき、従ってダイオードペレッ
トも封止用ガラススリーブよりも早く冷却し、ダイオー
ドペレットと上下両電極との接触の確実良好なり 、H
Dが得られる。
おいて、加熱加圧封止融着段階を経て冷却段階に入ると
上部電極上に置いていたおもりを除去するので、上下両
電極はともに速かに冷却でき、従ってダイオードペレッ
トも封止用ガラススリーブよりも早く冷却し、ダイオー
ドペレットと上下両電極との接触の確実良好なり 、H
Dが得られる。
第1図はこの発明の一実施例の封止冷却時の状態を示す
断面図、第2図は一般的なりHDの構造を示す断面図、
第3図は従来の製造方法での封止冷却時の状態を示す断
面図である。 図において、(3)はダイオードペレツ) 、(4)は
下部電極、(5)は上部電極、(6)はガラススリーブ
、(9)はおもりである。 なお、各図中向−符号μ同一または相当品分を示す。
断面図、第2図は一般的なりHDの構造を示す断面図、
第3図は従来の製造方法での封止冷却時の状態を示す断
面図である。 図において、(3)はダイオードペレツ) 、(4)は
下部電極、(5)は上部電極、(6)はガラススリーブ
、(9)はおもりである。 なお、各図中向−符号μ同一または相当品分を示す。
Claims (1)
- (1)半導体からなるダイオードペレットをそれぞれヒ
ートシンクを構成する下部電極及び上部電極で挾持し、
上記下部電極及び上部電極に接するように設けたガラス
スリーブで上記ダイオードペレットを包囲し、上記上部
電極の上におもりを載せて加重を与えた状態で昇温させ
、上記両電極と上記ガラススリーブとを融着させた後、
上記おもりを除去した状態で常温まで冷却することを特
徴とするダブル・ヒートシンク・ダイオードの製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24680684A JPS61123163A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24680684A JPS61123163A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61123163A true JPS61123163A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17153955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24680684A Pending JPS61123163A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61123163A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0673060A1 (en) * | 1994-03-17 | 1995-09-20 | Fuji Electric Co. Ltd. | Jig and manufacturing method for a semiconductor device |
-
1984
- 1984-11-19 JP JP24680684A patent/JPS61123163A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0673060A1 (en) * | 1994-03-17 | 1995-09-20 | Fuji Electric Co. Ltd. | Jig and manufacturing method for a semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3369290A (en) | Method of making passivated semiconductor devices | |
US3870850A (en) | Method of connecting electrically conducting bodies | |
JPS61123163A (ja) | ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法 | |
US4504427A (en) | Solder preform stabilization for lead frames | |
JPH0447461B2 (ja) | ||
JPH04253323A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH02141442A (ja) | シリコンウエハとガラス基板の陽極接合法 | |
JP3336822B2 (ja) | はんだ付け方法 | |
CN107902626A (zh) | 共晶键合的方法及半导体器件的制造方法 | |
JPS61168247A (ja) | セラミツクパツケ−ジ | |
US20240047294A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
JPH10294127A (ja) | ナトリウム−硫黄電池の製造方法及び製造装置 | |
JPS5951132B2 (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
CN207615930U (zh) | 一种提高焊接系统热均匀性的装置 | |
JPH0411B2 (ja) | ||
JPS59148198A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0383870A (ja) | 金属Si含有炭化ケイ素セラミックスの電気接合方法 | |
JPS63197345A (ja) | 半導体素子のダイスボンデイング方法 | |
JPH0379649B2 (ja) | ||
JPH0436034Y2 (ja) | ||
JPH0249726Y2 (ja) | ||
JPS61136247A (ja) | 半導体装置 | |
JPS5966152A (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
JPS5936947A (ja) | 半導体装置 | |
GB2109997A (en) | Method of manufacturing semi-conductor assemblies |