JPS61120305A - 垂直磁気記録ヘツド - Google Patents
垂直磁気記録ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61120305A JPS61120305A JP23995184A JP23995184A JPS61120305A JP S61120305 A JPS61120305 A JP S61120305A JP 23995184 A JP23995184 A JP 23995184A JP 23995184 A JP23995184 A JP 23995184A JP S61120305 A JPS61120305 A JP S61120305A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- constant
- film
- magnetic recording
- magnetostriction constant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は製造工程中の加熱及び加圧に起因するアモルフ
ァス薄膜の磁気特性の劣化を防止した垂直磁気記録ヘッ
ドに関する。
ァス薄膜の磁気特性の劣化を防止した垂直磁気記録ヘッ
ドに関する。
従来の垂直磁気記録ヘッドとして、例えば、第３図に示
すものがある。これは補助磁気励磁型のものであり、高
透磁率磁性体薄膜を主体に構成され、記録媒体１の一方
の面に近接して配設される主磁極２と、記録媒体の他方
の面に当接し且つ主磁極２に対面して配設される補助磁
極３と、該補助磁極３の先端部の近傍に巻回される信号
記録・再生用コイルとしての励磁コイル４とより構成さ
れる。主磁極２は、高透磁率磁性材料による主磁極材２
ａの両面より非磁性体ホルダ２ｂ及び２Ｃによって挟持
して構成される。また、補助磁極３は、フェライト等の
高透磁率磁性材料が用いられ、主磁極材２ａに比較して
十分な厚みを有している。
すものがある。これは補助磁気励磁型のものであり、高
透磁率磁性体薄膜を主体に構成され、記録媒体１の一方
の面に近接して配設される主磁極２と、記録媒体の他方
の面に当接し且つ主磁極２に対面して配設される補助磁
極３と、該補助磁極３の先端部の近傍に巻回される信号
記録・再生用コイルとしての励磁コイル４とより構成さ
れる。主磁極２は、高透磁率磁性材料による主磁極材２
ａの両面より非磁性体ホルダ２ｂ及び２Ｃによって挟持
して構成される。また、補助磁極３は、フェライト等の
高透磁率磁性材料が用いられ、主磁極材２ａに比較して
十分な厚みを有している。
以上の構成において、１１号記録又は信号再生時には、
記録媒体ｌを所定速度で搬送又は回転させ、励磁コイル
４に記録情報に応じた電流を供給して補助磁極３を励磁
する。これにより主磁極２の強い垂直磁界が発生し、記
録媒体１の磁性層に信号が記録される。一方、信号再生
の場合には、励磁コイル４には何ら信号を供給せず、記
録媒体１の磁性層より記録状態に応じて生じる磁界によ
って主磁極２に磁束を生じさせ、この磁束を補助磁極３
に誘導することにより、励磁コイル４に再生信号が誘起
される。
記録媒体ｌを所定速度で搬送又は回転させ、励磁コイル
４に記録情報に応じた電流を供給して補助磁極３を励磁
する。これにより主磁極２の強い垂直磁界が発生し、記
録媒体１の磁性層に信号が記録される。一方、信号再生
の場合には、励磁コイル４には何ら信号を供給せず、記
録媒体１の磁性層より記録状態に応じて生じる磁界によ
って主磁極２に磁束を生じさせ、この磁束を補助磁極３
に誘導することにより、励磁コイル４に再生信号が誘起
される。
このような垂直記録ヘッドは、垂直磁気記録に要求され
る次の２つの条件を満たしている。即ち、（ａ）記録媒
体が磁気的に垂直異方性を有するために、分布が鋭く且
つ大きな垂直方向磁界を発生して記録媒体を十分に磁気
し得ること、山）小さな起磁力によって記録媒体への記
録を可能にすると共に、記録した記録媒体から大きな再
生出力を取り出し得ること、が主に要求され、これらを
満たすことによって高密度記録を行うことができる。
る次の２つの条件を満たしている。即ち、（ａ）記録媒
体が磁気的に垂直異方性を有するために、分布が鋭く且
つ大きな垂直方向磁界を発生して記録媒体を十分に磁気
し得ること、山）小さな起磁力によって記録媒体への記
録を可能にすると共に、記録した記録媒体から大きな再
生出力を取り出し得ること、が主に要求され、これらを
満たすことによって高密度記録を行うことができる。
第３図に示した如き垂直磁気記録ヘッドの主磁極２の製
造方法を第４図に基づいて説明する。
造方法を第４図に基づいて説明する。
先ず、（ａ）図のように非磁性基板２ｃの片面にスパッ
タリング等により軟磁性薄膜２ａを形成する。軟磁性薄
膜２ａの材料としては、Ｎｉ−Ｐｅ、 Ｆｅ−Ａｌ −
５ｉ等が一般に用いられる。近年、Ｇｏに少量の添加元
素を加えることによってアモルファス化され、高い飽和
磁束密度と大きな透磁率を得られることが知られ（例え
ば、８４°通信会全国大会ｒＣｏ−Ｚｒ−Ｒｅ膜の磁気
特性」）、垂直磁気記録ヘッドの主磁極膜として有望視
されている。この添加元素としては、Ｔｉ、 Ｔａ、
Ｗ、 Ｈｆ等を用いることができる。膜形成したままの
Ｇｏ系アモルファス薄膜は異方性が非常に大きいため、
回転磁界中焼鈍を行って、この異方性を減少させると共
に透磁率の向上を図っている。
タリング等により軟磁性薄膜２ａを形成する。軟磁性薄
膜２ａの材料としては、Ｎｉ−Ｐｅ、 Ｆｅ−Ａｌ −
５ｉ等が一般に用いられる。近年、Ｇｏに少量の添加元
素を加えることによってアモルファス化され、高い飽和
磁束密度と大きな透磁率を得られることが知られ（例え
ば、８４°通信会全国大会ｒＣｏ−Ｚｒ−Ｒｅ膜の磁気
特性」）、垂直磁気記録ヘッドの主磁極膜として有望視
されている。この添加元素としては、Ｔｉ、 Ｔａ、
Ｗ、 Ｈｆ等を用いることができる。膜形成したままの
Ｇｏ系アモルファス薄膜は異方性が非常に大きいため、
回転磁界中焼鈍を行って、この異方性を減少させると共
に透磁率の向上を図っている。
次に、由）図のように、フォトエ・ノチングにより主磁
極膜のパターニングを実施する。このパターニングは、
レジスト塗布→プリベークーエツチング−レジスト剥離
を主とする各工程を経て行なわれる。このようなパター
ニング工程の終了ののち、そのパターニング処理面に第
２の非磁性基板２′Ｃを接着する。接着は、加熱及び加
圧を行いながら実施される。更に、Ｔｄ１図のように、
記録媒体に対向する面を整形研磨することにより、ヘッ
ドは完成する。
極膜のパターニングを実施する。このパターニングは、
レジスト塗布→プリベークーエツチング−レジスト剥離
を主とする各工程を経て行なわれる。このようなパター
ニング工程の終了ののち、そのパターニング処理面に第
２の非磁性基板２′Ｃを接着する。接着は、加熱及び加
圧を行いながら実施される。更に、Ｔｄ１図のように、
記録媒体に対向する面を整形研磨することにより、ヘッ
ドは完成する。
しかし、従来の垂直磁気記録へ・ノドにあっては、製造
工程中に含む加熱及び加圧の処理のために、Ｃ０系アモ
ルファス薄膜が本来有する優れた磁気特性が大幅に劣化
する不具合がある。
工程中に含む加熱及び加圧の処理のために、Ｃ０系アモ
ルファス薄膜が本来有する優れた磁気特性が大幅に劣化
する不具合がある。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
上記に鑑みてなされたものであり、製造工程中における
主磁極膜の磁気特性の劣化を防止するため、磁気ひずみ
定数を正にする元素と負にする元素とをＣｏに添加して
磁気特性の劣化の防止を図った垂直磁気記録ヘッドを提
供するものである。
上記に鑑みてなされたものであり、製造工程中における
主磁極膜の磁気特性の劣化を防止するため、磁気ひずみ
定数を正にする元素と負にする元素とをＣｏに添加して
磁気特性の劣化の防止を図った垂直磁気記録ヘッドを提
供するものである。
以下、本発明による垂直磁気記録ヘッドを詳細に説明す
る。
る。
本発明は、磁気特性の劣化の原因が磁気ひずみの逆効果
であることに着眼し、加工前の透磁率と加工後の透磁率
の比が所定値以下になるように磁気ひずみ定数を制御す
るようにした点に特徴がある。
であることに着眼し、加工前の透磁率と加工後の透磁率
の比が所定値以下になるように磁気ひずみ定数を制御す
るようにした点に特徴がある。
ヘッドの製造工程中に与えられる加熱及び加圧（特に、
接着工程におけるものが影響大）による劣化と磁気ひず
み定数の関係を示したのが第１図である。第１図より明
らかなように、磁気ひずみ定数が大きくなるにつれ、透
磁率の低下が太き（なっている、しかし、磁気ひずみ定
数がＩ Ｘｌ０−ｈ以下の範囲では殆ど透磁率の低下は
見られない。
接着工程におけるものが影響大）による劣化と磁気ひず
み定数の関係を示したのが第１図である。第１図より明
らかなように、磁気ひずみ定数が大きくなるにつれ、透
磁率の低下が太き（なっている、しかし、磁気ひずみ定
数がＩ Ｘｌ０−ｈ以下の範囲では殆ど透磁率の低下は
見られない。
磁気ひずみ定数λ３は、磁気ひずみ定数を正にする元素
と、磁気ひずみ定数を負にする元素の各々の添加量の比
を適宜設定することにより、任意の値を得ることができ
る。従って、添加元素の組成比を制御することにより、
１×１０−’以下の磁気ひずみ定数を持つ磁性薄膜を形
成することができる。
と、磁気ひずみ定数を負にする元素の各々の添加量の比
を適宜設定することにより、任意の値を得ることができ
る。従って、添加元素の組成比を制御することにより、
１×１０−’以下の磁気ひずみ定数を持つ磁性薄膜を形
成することができる。
この磁性薄膜を主磁極膜に適用することにより、十分な
飽和磁束密度と透磁率を有する垂直磁気記録ヘッドを得
ることができる。
飽和磁束密度と透磁率を有する垂直磁気記録ヘッドを得
ることができる。
磁気ひずみ定数を正にする元素としては、Ｚｒ。
Ｔｉ等があり、負にする元素としては、Ｎｂ、 Ｔａ、
Ｒｅ等があり、その内の少なくとも一種類の添加元素
としてコバルトに加える。
Ｒｅ等があり、その内の少なくとも一種類の添加元素
としてコバルトに加える。
発明者らは、主成分のコバルト（ｃｏ）に磁気ひずみ定
数を正にする元素と、負にする元素とを添加した磁性膜
を２００〜５００ ’Ｃで回転磁界中焼鈍を行って、ヘ
ッドの加工前（従来の添加元素による場合）と加工後（
本発明による場合）の特性の変化を７種類の組成につい
て実施したところ、次表の如き結果を得た。この表にお
いて、分母値は加工前の透磁率、分子値は加工後の透磁
率を示す。
数を正にする元素と、負にする元素とを添加した磁性膜
を２００〜５００ ’Ｃで回転磁界中焼鈍を行って、ヘ
ッドの加工前（従来の添加元素による場合）と加工後（
本発明による場合）の特性の変化を７種類の組成につい
て実施したところ、次表の如き結果を得た。この表にお
いて、分母値は加工前の透磁率、分子値は加工後の透磁
率を示す。
表より明らかなように、磁気ひずみ定数が１×１０−ｂ
以下である実施例１． ２． ３及び４は磁気特性の劣
化が小さい、これに対し、実施例７は、磁気ひずみ定数
が大きくなると共に、磁気特性の劣化が極めて大きなも
のとなっている。
以下である実施例１． ２． ３及び４は磁気特性の劣
化が小さい、これに対し、実施例７は、磁気ひずみ定数
が大きくなると共に、磁気特性の劣化が極めて大きなも
のとなっている。
なお、以上の説明においては、補助磁極励磁型を例に説
明したが、第２図の如き主磁極励磁型ヘッドに本発明を
適用することもできる。更には、薄膜ヘッドの軟磁性膜
に適用することも可能である。
明したが、第２図の如き主磁極励磁型ヘッドに本発明を
適用することもできる。更には、薄膜ヘッドの軟磁性膜
に適用することも可能である。
以上説明したように本発明による垂直磁気記録ヘッドに
よれば、磁気ひずみ定数を正にする元素と負にする元素
とを添加して磁気ひずみ定数を所定の値、例えば、コバ
ルトを主成分とした場合、１×１０−“以下の主磁極膜
を形成したため、製造工程中の加熱及び加圧に起因する
アモルファス薄膜の磁気特性の劣化を防止することがで
きる。
よれば、磁気ひずみ定数を正にする元素と負にする元素
とを添加して磁気ひずみ定数を所定の値、例えば、コバ
ルトを主成分とした場合、１×１０−“以下の主磁極膜
を形成したため、製造工程中の加熱及び加圧に起因する
アモルファス薄膜の磁気特性の劣化を防止することがで
きる。
第１図は磁気ひずみ定数に対するアモルファス薄膜の磁
気特性図、第２図は本発明を適用した主磁極励磁型ヘッ
ドの一例を示す斜視図、第３図は従来の垂直磁気記録ヘ
ッドの一例を示す斜視図、第４図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ
）、（ｄ）は第３図のヘッドの製造工程を示す説明図。 符号の説明 ｌ・・・記録媒体 ２ａ・・・主磁極膜２ｃ２’ｃ
・・・非磁性基板 ３・・・補助磁極 ４・・・励磁コイル。 特許出願人 富士ゼロックス株式会社 代理人 弁理士 松 原 伸 ２ 同 同 村木清司 同 同 平田忠雄 同 同 上島淳− 同 同 鉛末 均 第１図 楓机υず゛み定悉ｙ−一− 第２図 第３図 第４図
気特性図、第２図は本発明を適用した主磁極励磁型ヘッ
ドの一例を示す斜視図、第３図は従来の垂直磁気記録ヘ
ッドの一例を示す斜視図、第４図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ
）、（ｄ）は第３図のヘッドの製造工程を示す説明図。 符号の説明 ｌ・・・記録媒体 ２ａ・・・主磁極膜２ｃ２’ｃ
・・・非磁性基板 ３・・・補助磁極 ４・・・励磁コイル。 特許出願人 富士ゼロックス株式会社 代理人 弁理士 松 原 伸 ２ 同 同 村木清司 同 同 平田忠雄 同 同 上島淳− 同 同 鉛末 均 第１図 楓机υず゛み定悉ｙ−一− 第２図 第３図 第４図
Claims (2)
- （１）磁気記録媒体の記録面に対して垂直方向に伸びた
膜状主磁極によって前記磁気記録媒体を前記記録面に対
して垂直方向に磁化して磁気記録を行う垂直磁気記録ヘ
ッドにおいて、 前記膜状主磁極は磁気ひずみ定数を正にする添加元素と
磁気ひずみ定数を負にする添加元素を配合された磁性材
料によって構成され、その配合によって所定の値の磁気
ひずみ定数を有することを特徴とする垂直磁気記録ヘッ
ド。 - （２）前記膜状主磁極は１×１０＾−＾６以下の磁気ひ
ずみ定数を有することを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の垂直磁気記録ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23995184A JPS61120305A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 垂直磁気記録ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23995184A JPS61120305A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 垂直磁気記録ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120305A true JPS61120305A (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=17052248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23995184A Pending JPS61120305A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 垂直磁気記録ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120305A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02238223A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-09-20 | Italia | 放熱空調設備に使用されるプレハブ部材 |
-
1984
- 1984-11-14 JP JP23995184A patent/JPS61120305A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02238223A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-09-20 | Italia | 放熱空調設備に使用されるプレハブ部材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06318516A (ja) | 軟磁性多層膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| EP0168825A2 (en) | Magnetic alloy thin film | |
| JPS61120305A (ja) | 垂直磁気記録ヘツド | |
| JPH06215325A (ja) | 積層型磁気ヘッドコア | |
| JPS59170248A (ja) | 非晶質合金の熱処理方法 | |
| JPS60132305A (ja) | 鉄−窒素系積層磁性体膜およびそれを用いた磁気ヘツド | |
| JP2508479B2 (ja) | 軟磁性フエライト薄膜 | |
| JPH0283809A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製法 | |
| JP3127075B2 (ja) | 軟磁性合金膜と磁気ヘッドおよび軟磁性合金膜の熱膨張係数の調整方法 | |
| JPH0827908B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP3439519B2 (ja) | 軟磁性合金およびそれを用いた磁気ヘッド | |
| JPS63254709A (ja) | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド | |
| JP3279591B2 (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
| JPH02216604A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH02308408A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0935935A (ja) | 軟磁性膜の製造方法 | |
| JPH08167110A (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0645146A (ja) | 軟磁性膜の製造方法 | |
| JPH07114164B2 (ja) | 磁性人工格子膜 | |
| JPH04245610A (ja) | 磁性合金膜の製造方法および磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS63173215A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0376102A (ja) | 多層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH04214831A (ja) | 軟磁性膜 | |
| JPH01150211A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH04359501A (ja) | 多層状強磁性体 |