JPS61118384A - チアゾ−ル酢酸誘導体およびその製法 - Google Patents
チアゾ−ル酢酸誘導体およびその製法Info
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- JPS61118384A JPS61118384A JP59238869A JP23886984A JPS61118384A JP S61118384 A JPS61118384 A JP S61118384A JP 59238869 A JP59238869 A JP 59238869A JP 23886984 A JP23886984 A JP 23886984A JP S61118384 A JPS61118384 A JP S61118384A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
で表わされる新規なチアゾール酢酸誘導体またはその塩
およびその製法に関するものである。
およびその製法に関するものである。
一般式（Ｉ）中のＲ１，ＦＰ、 Ｒ’およびかについ
て具体的に説明すると Ｒ１およびビとしては水素原子
またはトリチル、ホルミル、第三級ブトキシカルボニル
、ハロアルコキシカルボニル等の、加水分解もしくは還
元により除去が可能な、アミ７基の保護基を示す。ｈ３
はカルボキシル基の保護基であり、保護基としてはメチ
ル、エチル。
て具体的に説明すると Ｒ１およびビとしては水素原子
またはトリチル、ホルミル、第三級ブトキシカルボニル
、ハロアルコキシカルボニル等の、加水分解もしくは還
元により除去が可能な、アミ７基の保護基を示す。ｈ３
はカルボキシル基の保護基であり、保護基としてはメチ
ル、エチル。
第三級ブチル等のアルキル基、ベンジル、ジフェニルメ
チル等のアラルキル基、フェニル等のアリール基、トリ
メチルシリル等のトリ低級アルキルシリル基等があげら
れる。♂は水素原子または、トリチル、ホルミル、第三
級ブトキシカルボニル、ハロアルコキシカルボニル等の
加水分解もしくは還元により除去可能な、アミン基の保
護基を示す。つぎに本発明化合物（１）の製造方法を反
応式を例示して説明する。
チル等のアラルキル基、フェニル等のアリール基、トリ
メチルシリル等のトリ低級アルキルシリル基等があげら
れる。♂は水素原子または、トリチル、ホルミル、第三
級ブトキシカルボニル、ハロアルコキシカルボニル等の
加水分解もしくは還元により除去可能な、アミン基の保
護基を示す。つぎに本発明化合物（１）の製造方法を反
応式を例示して説明する。
（ｘＩは水素原子またはハロゲンを、Ｘ２はハロゲンを
示し、化合物（Ｉ［）における脱離基Ｙは、ハロゲン、
アルチルスルホニルオキシ等、アニオンとして脱離する
残基のことである。） 工程人は、化合物（ｎ）と化合物（１）とを通常は適当
な溶媒中、塩基の存在下で反応させて行われる。溶媒と
してはジクロルメタン、アセトン。
示し、化合物（Ｉ［）における脱離基Ｙは、ハロゲン、
アルチルスルホニルオキシ等、アニオンとして脱離する
残基のことである。） 工程人は、化合物（ｎ）と化合物（１）とを通常は適当
な溶媒中、塩基の存在下で反応させて行われる。溶媒と
してはジクロルメタン、アセトン。
ベンゼン、テトラヒドロ７ラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等があげられるが９本
反応に悪影響を与えない溶媒であれば制限は受けない。
ムアミド、ジメチルスルホキシド等があげられるが９本
反応に悪影響を与えない溶媒であれば制限は受けない。
使用される塩基としては、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム等のアルカリもしくはアルカリ土類金属炭酸塩、水素
化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムア
ミド等のアルカリ金属アミド、ループチルリチウム等の
アルカリリチウム、ナトリウムメトキシド等のアルカリ
金属アルコキシド、トリエチルアミン等の有機アミン類
等があげられる。
ム等のアルカリもしくはアルカリ土類金属炭酸塩、水素
化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムア
ミド等のアルカリ金属アミド、ループチルリチウム等の
アルカリリチウム、ナトリウムメトキシド等のアルカリ
金属アルコキシド、トリエチルアミン等の有機アミン類
等があげられる。
反応温度は特に限定はないが通常−３０〜１００°Ｃで
行われる。
行われる。
工程Ｂは、一般式（Ｎ′）で表わされる化合物を一般に
溶媒中、触媒あるいは脱水剤の存在下二級アミンと反応
させることにより行われる。使用される溶媒としてはベ
ンゼン、トルエン、ジクロルメタン等があげられるが１
本反応に影響を及ぼさない溶媒であれば限定はされない
。二級アミンとしてはジエチルアミン等のジアルキルア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の環状二
級アミンがあげられる。触媒としてはｐ−トルエンスル
ホン酸、酢酸等の酸、あるいは、四塩化チタン、塩化ア
ルミニウム等通常エナミン合成に用いられている触媒が
用いられ。
溶媒中、触媒あるいは脱水剤の存在下二級アミンと反応
させることにより行われる。使用される溶媒としてはベ
ンゼン、トルエン、ジクロルメタン等があげられるが１
本反応に影響を及ぼさない溶媒であれば限定はされない
。二級アミンとしてはジエチルアミン等のジアルキルア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の環状二
級アミンがあげられる。触媒としてはｐ−トルエンスル
ホン酸、酢酸等の酸、あるいは、四塩化チタン、塩化ア
ルミニウム等通常エナミン合成に用いられている触媒が
用いられ。
また脱水剤としてはモレキュラーシーブ、酸化カルシウ
ム等があげられる。反応温度は通常−５０〜１００°Ｃ
の間で行われるが特に限定はない。
ム等があげられる。反応温度は通常−５０〜１００°Ｃ
の間で行われるが特に限定はない。
工程Ｏは、一般式（Ｖ）で示される化合物を一般に溶媒
中でハロゲン化剤と反応させることにより行われる。こ
の反応はジクロルメタン、クロロホルム、ジエチルエー
テル等１反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。
中でハロゲン化剤と反応させることにより行われる。こ
の反応はジクロルメタン、クロロホルム、ジエチルエー
テル等１反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。
ハロゲン化剤としては塩素、臭素等の分子状ハロゲン、
スル７リルクロライド等のスル７リルハライド、Ｎ−ク
ロルフハク酸イミド、Ｎ−ブロムコハク酸イミド、Ｎ−
ブロムアセトアミド等のＮ−ハロゲン化アミド等があげ
られる。反応温度は、ハロゲン化剤の種類で多少異なる
が１通常−７８〜１００℃の間が適当である。
スル７リルクロライド等のスル７リルハライド、Ｎ−ク
ロルフハク酸イミド、Ｎ−ブロムコハク酸イミド、Ｎ−
ブロムアセトアミド等のＮ−ハロゲン化アミド等があげ
られる。反応温度は、ハロゲン化剤の種類で多少異なる
が１通常−７８〜１００℃の間が適当である。
工程りは、一般式（ＶＤで示される化合物を通常溶媒中
でチオ尿素誘導体と反応させることにより行われる。使
用される溶媒はメタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン等の溶媒があげられるが本反応に影響を及ぼさな
い溶媒であれば限定されない。
でチオ尿素誘導体と反応させることにより行われる。使
用される溶媒はメタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン等の溶媒があげられるが本反応に影響を及ぼさな
い溶媒であれば限定されない。
本発明の化合物（１）は一般式
で表わされる化合物をアシル化剤またはアルキル化剤で
処理することによっても製造することができる。化合物
（４）をアシル化剤またはアルキル化剤、すなわち無水
酢酸等の酸無水物、アセチルクロライド、ペンゾイルク
四ライド等の酸ハライド、トリフェニルメチルクロライ
ド等のアルキルハライド等、と必要であればピリジン。
処理することによっても製造することができる。化合物
（４）をアシル化剤またはアルキル化剤、すなわち無水
酢酸等の酸無水物、アセチルクロライド、ペンゾイルク
四ライド等の酸ハライド、トリフェニルメチルクロライ
ド等のアルキルハライド等、と必要であればピリジン。
トリエチルアミン等の塩基の存在下で反応させ。
化合物（Ｉ）を製造する。この反応に使用される溶媒は
ジクロルメタン、テトラヒドロ７ラン。
ジクロルメタン、テトラヒドロ７ラン。
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒が好ましい。
ない溶媒が好ましい。
本発明の化合物（１）はそのカルボキシル基の保護基を
除去することにより一般式 で表わされる化合物に導くことができる。脱保護の方法
としては、保護基の種類によって、アルカリ加水分解、
酸加水分解あるいは接触還元等を適宜用いる。
除去することにより一般式 で表わされる化合物に導くことができる。脱保護の方法
としては、保護基の種類によって、アルカリ加水分解、
酸加水分解あるいは接触還元等を適宜用いる。
化合物（４）は抗菌剤の製造中間体として有用である（
特開昭５６−７７２８７号公報および特開昭５８−１７
４３８６号公報参照）。
特開昭５６−７７２８７号公報および特開昭５８−１７
４３８６号公報参照）。
次に実施例を挙げて説明するが、ヒドロキシイミノ基ま
たは置換メトキシイミ７基と保護基を有するカルボキシ
ル基の関係がシン型であるものを用いた。
たは置換メトキシイミ７基と保護基を有するカルボキシ
ル基の関係がシン型であるものを用いた。
実施例１
エチル−２−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル
）メトキシイミノシー８−オキソ−ブチレート エチル−２−（２−ヒドロキシイミノ）−８−オキソ−
ブチレート３．１８９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
５ＱｗＬｔに溶解し、−５℃に冷却後、ナトリウムメト
キシド１．０８９を加え、同温で１時間攪拌後、４−ク
ロロメチル−１−トリチルイミダゾール７．１７りを加
え、同温でさらに１２時間攪拌を続ける。反応混合物に
氷水と酢酸エチルを加え有機層を分離し、水洗後無水硫
酸す） ＩＪウムで乾燥する。濃縮乾固して得られる油
状物を、ベンゼン−酢酸エチル（１０：１）を溶媒系と
するシリカゲルカラムクロマトで精製し融点１５６〜１
５７’Ｃの標記化合物６．２ｇを得た。
）メトキシイミノシー８−オキソ−ブチレート エチル−２−（２−ヒドロキシイミノ）−８−オキソ−
ブチレート３．１８９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
５ＱｗＬｔに溶解し、−５℃に冷却後、ナトリウムメト
キシド１．０８９を加え、同温で１時間攪拌後、４−ク
ロロメチル−１−トリチルイミダゾール７．１７りを加
え、同温でさらに１２時間攪拌を続ける。反応混合物に
氷水と酢酸エチルを加え有機層を分離し、水洗後無水硫
酸す） ＩＪウムで乾燥する。濃縮乾固して得られる油
状物を、ベンゼン−酢酸エチル（１０：１）を溶媒系と
するシリカゲルカラムクロマトで精製し融点１５６〜１
５７’Ｃの標記化合物６．２ｇを得た。
元素分析 Ｇｚ９ＨｚｒＮｓＯ４に対する計算値 ０７
２．８３． Ｈ５，６５，Ｎ ８．７Ｂ実測値 Ｃ７
２，２９，Ｈ５，７０，Ｎ ８．ＨＩＲＶＫＢ”Ｃｍ−
’： １７４０．１６９０．１１０ａｘ ＮＭＲ（ＯＤＣｊ３）δ： １．２３ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈ２）２．２８（３Ｈ
，ｓ） ４．２４（２Ｈ，人Ｂｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）５４Ｏ
（２Ｈ，ｓ） ６．８１（ＩＨ，ｓ） ７．００〜７．４０ （１６Ｈ，ｍ ）実施例２ エチル−２−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル
）メトキシイミノ〕−８−オキソ−ブチレート Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２０−に、エチル−２−
（２−ヒドロキシイミノ）−３−オキソ−ブチレート６
４０■と炭酸カリウム２８０■を加え３０分間攪拌する
。同温度で４−クロロメチル−１−トリチルイミダゾー
ル１．１２５りを加え氷冷で一時間反応後室温にもどし
。
２．８３． Ｈ５，６５，Ｎ ８．７Ｂ実測値 Ｃ７
２，２９，Ｈ５，７０，Ｎ ８．ＨＩＲＶＫＢ”Ｃｍ−
’： １７４０．１６９０．１１０ａｘ ＮＭＲ（ＯＤＣｊ３）δ： １．２３ （８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈ２）２．２８（３Ｈ
，ｓ） ４．２４（２Ｈ，人Ｂｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ ）５４Ｏ
（２Ｈ，ｓ） ６．８１（ＩＨ，ｓ） ７．００〜７．４０ （１６Ｈ，ｍ ）実施例２ エチル−２−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル
）メトキシイミノ〕−８−オキソ−ブチレート Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２０−に、エチル−２−
（２−ヒドロキシイミノ）−３−オキソ−ブチレート６
４０■と炭酸カリウム２８０■を加え３０分間攪拌する
。同温度で４−クロロメチル−１−トリチルイミダゾー
ル１．１２５りを加え氷冷で一時間反応後室温にもどし
。
１５時間攪拌を続ける。水に反応液を注ぎ酢酸エチルで
抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、
濃縮乾固し、残渣にイソプロピルエーテルを加えて結晶
化させ、少量の３−ヘキサンを加えた後、結晶を濾取し
、融点１５６〜１５７°Ｃの標記化合物１．３７を得た
。
抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、
濃縮乾固し、残渣にイソプロピルエーテルを加えて結晶
化させ、少量の３−ヘキサンを加えた後、結晶を濾取し
、融点１５６〜１５７°Ｃの標記化合物１．３７を得た
。
本化合物の物理定数は実施例１で得た化合物のそれと完
全に一致した。
全に一致した。
実施例８
エチル−８−モルホリノ−２−（（１−）ジチルイミダ
ゾール−４−イル）メトキシイミノツー３−ブテノエー
ト 実施例１で得た化合物１りとモルホリン１．１９を無水
ベンゼン１０−に溶解する。０°Ｃに冷却したこの溶液
に四塩化チタン０．１４−を含む無水ジクロルメタン溶
液５ｇＬｔを窒素気流下に滴加する。滴加後反応温度を
室温まで上昇させ５時間攪拌を続けた後１反応液をセラ
イト濾過し濾液を濃縮乾固する。残渣にジクロルメタン
１〇−を加え、再び濾過により不溶物を除き、濾液を濃
縮乾固することにより標記化合物１．１フクを得る。本
化合物はこれ以上精製することなく次の反応に用いた。
ゾール−４−イル）メトキシイミノツー３−ブテノエー
ト 実施例１で得た化合物１りとモルホリン１．１９を無水
ベンゼン１０−に溶解する。０°Ｃに冷却したこの溶液
に四塩化チタン０．１４−を含む無水ジクロルメタン溶
液５ｇＬｔを窒素気流下に滴加する。滴加後反応温度を
室温まで上昇させ５時間攪拌を続けた後１反応液をセラ
イト濾過し濾液を濃縮乾固する。残渣にジクロルメタン
１〇−を加え、再び濾過により不溶物を除き、濾液を濃
縮乾固することにより標記化合物１．１フクを得る。本
化合物はこれ以上精製することなく次の反応に用いた。
Ｎ Ｍ Ｒ（（ＤＣｔａ ）δ：
１．２０（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ）
４．１９（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｊ−７Ｈｚ）４．３０（Ｉ
Ｈ，ｓ） ４．５０（ＬＨ，９） ５．０８（２Ｈ，ｓ） ６．７７ （Ｌ Ｈ，ｓ ） ６．９５〜７．４０ （１６Ｈ，ｍ ）ダシ−ルー４−
イル）メトキシイミノ）−ａ−オキソ−ブチレート 実施例２で得られた化合物１．１７７を無水ジクロルメ
タン１０−に溶解する。−７８℃に冷却したこの溶液に
、Ｎ−クロルコハク酸イミド８８６■のジクロルメタン
溶液７−を滴加し同温で１時間攪拌を続ける。反応温度
を０°Ｃに昇温し２０％酢酸溶液１０＋！１ｔを加え１
時間激しく攪拌した後、ジクロルメタンを加えて抽出、
水。
Ｈ，ｓ） ４．５０（ＬＨ，９） ５．０８（２Ｈ，ｓ） ６．７７ （Ｌ Ｈ，ｓ ） ６．９５〜７．４０ （１６Ｈ，ｍ ）ダシ−ルー４−
イル）メトキシイミノ）−ａ−オキソ−ブチレート 実施例２で得られた化合物１．１７７を無水ジクロルメ
タン１０−に溶解する。−７８℃に冷却したこの溶液に
、Ｎ−クロルコハク酸イミド８８６■のジクロルメタン
溶液７−を滴加し同温で１時間攪拌を続ける。反応温度
を０°Ｃに昇温し２０％酢酸溶液１０＋！１ｔを加え１
時間激しく攪拌した後、ジクロルメタンを加えて抽出、
水。
飽和重曹水、水の順で洗浄する。無水硫酸ナトリウムで
乾燥後濃縮乾固し、残渣をエタノールで結晶化させる事
により、融点１２６〜１２７’Ｃの標記化合物９１０”
’９を得る。
乾燥後濃縮乾固し、残渣をエタノールで結晶化させる事
により、融点１２６〜１２７’Ｃの標記化合物９１０”
’９を得る。
元素分析 ０２ ｅ ）ｈ ｓ ＣＩ Ｎｓ ０４に対
する計算値 Ｇ６７．５０．Ｈ５，０８，Ｎ ８．１４
． Ｃ１６，８７実測値 Ｃ６フ、５３．Ｈ５，２１，
Ｎ ８．０６． Ｃ１６，８１１ＲｖＫＢｒｃｍ−”：
ｌ’１Ｆ３０．１７００．１５９０゜ａｘ １２７０．９９Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ｃＤａｔｓ ）δ： １．２５（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ） ４．２６（２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ）４．４１（
２Ｈ，ｓ） ５．２０（２Ｈ，ｓ） ６．８５ （Ｌ Ｈ，ｄ、 Ｊ −１，５Ｈｚ ）６．
９０〜７．３５ （１５Ｈ，ｒｎ ）７．４０ （Ｌ
Ｈ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ ）ダシ−ルー４−イル）メ
トキシイミノ）−ａ−オキソ−ブチレート 実施例１で得られた化合物１りとモルホリン１．１ｇを
無水ベンゼン１０ｍに加える。０°Ｃに冷却したこの溶
液に、四塩化チタン０．１４−を含む無水ベンゼン２１
ｎｔを窒素気流下滴加する。
する計算値 Ｇ６７．５０．Ｈ５，０８，Ｎ ８．１４
． Ｃ１６，８７実測値 Ｃ６フ、５３．Ｈ５，２１，
Ｎ ８．０６． Ｃ１６，８１１ＲｖＫＢｒｃｍ−”：
ｌ’１Ｆ３０．１７００．１５９０゜ａｘ １２７０．９９Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ｃＤａｔｓ ）δ： １．２５（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ） ４．２６（２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ）４．４１（
２Ｈ，ｓ） ５．２０（２Ｈ，ｓ） ６．８５ （Ｌ Ｈ，ｄ、 Ｊ −１，５Ｈｚ ）６．
９０〜７．３５ （１５Ｈ，ｒｎ ）７．４０ （Ｌ
Ｈ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ ）ダシ−ルー４−イル）メ
トキシイミノ）−ａ−オキソ−ブチレート 実施例１で得られた化合物１りとモルホリン１．１ｇを
無水ベンゼン１０ｍに加える。０°Ｃに冷却したこの溶
液に、四塩化チタン０．１４−を含む無水ベンゼン２１
ｎｔを窒素気流下滴加する。
反応温度を室温に戻し５時間攪拌した後、不溶物をセラ
イト濾過で除去し、濾液を濃縮乾固する。残渣にジクロ
ルメタンｌＯ−を加え、不溶物を濾過で除き、得られる
澄明な溶液を一７８℃に冷却し、これにスルフリルクロ
ライド３４０■を含むジクロルメタン２−を滴加する。
イト濾過で除去し、濾液を濃縮乾固する。残渣にジクロ
ルメタンｌＯ−を加え、不溶物を濾過で除き、得られる
澄明な溶液を一７８℃に冷却し、これにスルフリルクロ
ライド３４０■を含むジクロルメタン２−を滴加する。
３０分間同温で攪拌した後、０℃に昇温し１０％酢酸溶
液２０−を加え１時間激しく攪拌する。ジクロルメタン
を加えて抽出し、水、飽和重曹水。
液２０−を加え１時間激しく攪拌する。ジクロルメタン
を加えて抽出し、水、飽和重曹水。
水の順で洗浄し、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥後溶媒
を留去して得られる油状物をベンゼン−酢酸エチル（２
０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精
製し、標記化合物４５０ｑを得た。この化合物の物理定
数は実施例４で得られた化合物のそれと完全に一致した
。
を留去して得られる油状物をベンゼン−酢酸エチル（２
０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精
製し、標記化合物４５０ｑを得た。この化合物の物理定
数は実施例４で得られた化合物のそれと完全に一致した
。
ダシ−ルー４−イ／Ｌ／）メトキシイミノツー３−オキ
ソ−ブチレート 実施例１で得られた化合物１ｇとモルホリン１．１７を
無水ベンゼン１０−に加える。ＯｏＣに冷却したこの溶
液に、四塩化チタン０．１４−を含む無水ベンゼン２−
を窒素気流下滴加する。
ソ−ブチレート 実施例１で得られた化合物１ｇとモルホリン１．１７を
無水ベンゼン１０−に加える。ＯｏＣに冷却したこの溶
液に、四塩化チタン０．１４−を含む無水ベンゼン２−
を窒素気流下滴加する。
反応温度を室温にもどし、５時間攪拌した後。
不溶物をセライト濾過で除去し濾液を濃縮乾固する。残
渣にジクロルメタン１０−を加え、不溶物を濾過で除き
、得られる溶液をＯｏＣに冷却し、これにＮ−ブロムコ
ハク酸イミド３７４１１１９を溶解したジクロルメタン
溶液１０−を滴加した後、同温で１時間攪拌を続ける。
渣にジクロルメタン１０−を加え、不溶物を濾過で除き
、得られる溶液をＯｏＣに冷却し、これにＮ−ブロムコ
ハク酸イミド３７４１１１９を溶解したジクロルメタン
溶液１０−を滴加した後、同温で１時間攪拌を続ける。
反応液にジクロルメタンを加え抽出し、水、飽和重曹水
。
。
水の順で洗浄し、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥後溶媒
を留去して得られる油状物をベンゼン−酢酸エチル（２
０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精
製し、標記化合物２５０１１１９を得た。
を留去して得られる油状物をベンゼン−酢酸エチル（２
０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトで精
製し、標記化合物２５０１１１９を得た。
ｕＭＲ（ａｎｃｌａ）δ：
１．２４（３Ｈ，ｓ、Ｊ−７Ｈｚ）
４．１７（２Ｈ，ｓ）
４．２５（２Ｈ，ＡＢＱ、、 Ｊ−？Ｈ２）５Ｊ１（２
Ｈ，ｓ） ６．８５（ＬＨ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ）７．００〜？
、４５ （１６Ｈ，ｍ ）実施例７ ｚ−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル チオ尿素１３２■、酢酸ナトリウム１５５Ｗｕｊを水ｌ
ｔｔ／ 、エタノール１−の混合溶媒に加え。
Ｈ，ｓ） ６．８５（ＬＨ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ）７．００〜？
、４５ （１６Ｈ，ｍ ）実施例７ ｚ−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル チオ尿素１３２■、酢酸ナトリウム１５５Ｗｕｊを水ｌ
ｔｔ／ 、エタノール１−の混合溶媒に加え。
０°Ｃに冷却する。これに実施例４で得た化合物７５０
ｍ！９をエタノール−テトラヒドロ７ラン（３ＷＬｔ−
３ｍ ）に溶解した溶液を加える。反応温度を室温まで
上昇させ６時間攪拌した後、水１５−を加え、析出物を
濾取し、よく水洗した後乾燥し無色の粉末を得る◇これ
をクロロホルメ ムー―タノールで再結晶し、融点２１９〜２２１℃の標
記化合物５８５■を得た。
ｍ！９をエタノール−テトラヒドロ７ラン（３ＷＬｔ−
３ｍ ）に溶解した溶液を加える。反応温度を室温まで
上昇させ６時間攪拌した後、水１５−を加え、析出物を
濾取し、よく水洗した後乾燥し無色の粉末を得る◇これ
をクロロホルメ ムー―タノールで再結晶し、融点２１９〜２２１℃の標
記化合物５８５■を得た。
元素分析 ＣａｏＨｚｒＨ５ＯｓＪｈＯに対する計算値
Ｇ ６５．９２． Ｈ５，１６，Ｎ １２．８１実
測値 Ｃ６６，２５，Ｉ（５，０２，Ｎ １２．７７Ｉ
ＲＪ／ＫＢｒＣ１ｌ−’ ：１７２５，１６１５．１５
４０゜ｍ＋Ｌｘ ７５０．６９５ 丁 Ｆ％−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−＋１６．９０ＭＨｚ ）１．
１２（３Ｈ，ｔ、Ｊ−７，２Ｈｚ）４．１８（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、、Ｊ−７，２Ｈｚ）５．００（２Ｈ，ｓ） ６．８２（ＬＨ，ｓ） ６．８８ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ ）７．００
〜７．５０ （１６Ｈ，ｍ ）実施例８ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１で得た化合物１ｇを無水ベンゼン１２−に溶解
し、これにモルホリン１．１りを加え０°Ｃに冷却した
。この溶液に四塩化チタン０．１４ｇＬｔを含む無水ベ
ンゼン２−を滴加する。
Ｇ ６５．９２． Ｈ５，１６，Ｎ １２．８１実
測値 Ｃ６６，２５，Ｉ（５，０２，Ｎ １２．７７Ｉ
ＲＪ／ＫＢｒＣ１ｌ−’ ：１７２５，１６１５．１５
４０゜ｍ＋Ｌｘ ７５０．６９５ 丁 Ｆ％−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−＋１６．９０ＭＨｚ ）１．
１２（３Ｈ，ｔ、Ｊ−７，２Ｈｚ）４．１８（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、、Ｊ−７，２Ｈｚ）５．００（２Ｈ，ｓ） ６．８２（ＬＨ，ｓ） ６．８８ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ−１，５Ｈｚ ）７．００
〜７．５０ （１６Ｈ，ｍ ）実施例８ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１で得た化合物１ｇを無水ベンゼン１２−に溶解
し、これにモルホリン１．１りを加え０°Ｃに冷却した
。この溶液に四塩化チタン０．１４ｇＬｔを含む無水ベ
ンゼン２−を滴加する。
反応温度を室温に戻し５時間攪拌を続けた後。
不溶物をセライト濾過により除き、濾液を濃縮乾固する
。得られた残渣にジクロルメタン１０−を加え、再び濾
過により不溶物を除く。濾液を一５０°Ｃに冷却し、こ
れにＮ−プ四ムコノ１り酸イミド５６０’９をジクロル
メタン１０−に溶解した溶液を攪拌下に加え、同温度で
１時間攪拌を続ける。温度を０°Ｃに上昇させ１０％酢
酸溶液１５ｔｎｔを加え４５分間激しく攪拌後、ジクロ
ルメタンを加え抽出、水、飽和重曹水、水の順で洗浄し
、無水硫酸す） ＋７ウムで乾燥後濃縮乾固し１．８２
の飴状物を得る。これをエタノール７−に溶解し、チオ
尿素８２０１１９を加え室温にて３時間攪拌した後、エ
チルエーテル２〇−を加え析出物を濾取し、水および少
量のエタノールで洗浄した後乾燥し標記化合物４３０＋
１１９を得た。本化合物の物理定数は実施例７で得た化
合物のそれと完全に一致した。
。得られた残渣にジクロルメタン１０−を加え、再び濾
過により不溶物を除く。濾液を一５０°Ｃに冷却し、こ
れにＮ−プ四ムコノ１り酸イミド５６０’９をジクロル
メタン１０−に溶解した溶液を攪拌下に加え、同温度で
１時間攪拌を続ける。温度を０°Ｃに上昇させ１０％酢
酸溶液１５ｔｎｔを加え４５分間激しく攪拌後、ジクロ
ルメタンを加え抽出、水、飽和重曹水、水の順で洗浄し
、無水硫酸す） ＋７ウムで乾燥後濃縮乾固し１．８２
の飴状物を得る。これをエタノール７−に溶解し、チオ
尿素８２０１１９を加え室温にて３時間攪拌した後、エ
チルエーテル２〇−を加え析出物を濾取し、水および少
量のエタノールで洗浄した後乾燥し標記化合物４３０＋
１１９を得た。本化合物の物理定数は実施例７で得た化
合物のそれと完全に一致した。
実施例９
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１で得た化合物１ｇを無水ジクロルメタン１５−
に溶解し、これにモルホリン１．１９を加えて０℃に冷
却する。この溶液に、四塩化チタン０．１４−を含むジ
クロルメタン５−を窒素気流下で滴加した後、室温に戻
し５時間攪拌する。反応液を０°Ｃに冷却し、Ｎ−クロ
ルコハク酸イミド４２０■を溶解したジクロルメタン溶
液１０−を攪拌下に潤油後、室温で１５時間攪拌を続け
、１０％酢酸溶液２０−を加えさらに８時間攪拌する。
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１で得た化合物１ｇを無水ジクロルメタン１５−
に溶解し、これにモルホリン１．１９を加えて０℃に冷
却する。この溶液に、四塩化チタン０．１４−を含むジ
クロルメタン５−を窒素気流下で滴加した後、室温に戻
し５時間攪拌する。反応液を０°Ｃに冷却し、Ｎ−クロ
ルコハク酸イミド４２０■を溶解したジクロルメタン溶
液１０−を攪拌下に潤油後、室温で１５時間攪拌を続け
、１０％酢酸溶液２０−を加えさらに８時間攪拌する。
反応液にジクロルメタンを加え抽出、水、飽和重曹水、
水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮乾固する。得られた１、２ｇの油状物をエタ
ノール７ｇＬｔに溶解し、チオ尿素３２０１１９を加え
室温で３時間攪拌する。エーテル２０−を加えて析出物
を濾取し、水、少量のエタノールで洗浄し、標記化合物
４３０ｍ５＋を得る。本化合物の物理定数は実施例７で
得た化合物のそれと完全に一致した。
水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮乾固する。得られた１、２ｇの油状物をエタ
ノール７ｇＬｔに溶解し、チオ尿素３２０１１９を加え
室温で３時間攪拌する。エーテル２０−を加えて析出物
を濾取し、水、少量のエタノールで洗浄し、標記化合物
４３０ｍ５＋を得る。本化合物の物理定数は実施例７で
得た化合物のそれと完全に一致した。
イミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕−８−オキ
ソ−ブチレート 実施例１で得た化合物１ｇを無水ベンゼン１５−に溶解
し、さらにモルホリン１．１ｇを加えて０°Ｃに冷却す
る。この溶液に四塩化チタン０．１４４を含む無水ベン
ゼン２−を窒素気流下潤油した後、室温で５時時攪拌を
続ける。反応液をセライト濾過し、濾液を濃縮乾固する
。残渣にジクロルメタン５−を加え再び濾過して得られ
る溶液を、臭素０．２５−を含むジクロルメタン１０−
を−７８℃に冷却した溶液中に加える。同温度で５分間
攪拌した後、室温に戻し。
ソ−ブチレート 実施例１で得た化合物１ｇを無水ベンゼン１５−に溶解
し、さらにモルホリン１．１ｇを加えて０°Ｃに冷却す
る。この溶液に四塩化チタン０．１４４を含む無水ベン
ゼン２−を窒素気流下潤油した後、室温で５時時攪拌を
続ける。反応液をセライト濾過し、濾液を濃縮乾固する
。残渣にジクロルメタン５−を加え再び濾過して得られ
る溶液を、臭素０．２５−を含むジクロルメタン１０−
を−７８℃に冷却した溶液中に加える。同温度で５分間
攪拌した後、室温に戻し。
水１０−を加え３０分間攪拌する。分液し、水層をジク
ロルメタンで一度抽出する。ジクロルメタン溶液を合わ
せて水、飽和重曹水、水の順で洗浄し、無水硫酸す）
ＩＪウムで乾燥、濃縮乾固して得られる油状物を、ベン
ゼン−酢酸エチル（２０：１）を溶媒系とするシリカゲ
ルカラムクロマトで精製し、融点１５９〜１６２°Ｃ（
分解点）の標記化合物８５０ｉ１１９を得る。
ロルメタンで一度抽出する。ジクロルメタン溶液を合わ
せて水、飽和重曹水、水の順で洗浄し、無水硫酸す）
ＩＪウムで乾燥、濃縮乾固して得られる油状物を、ベン
ゼン−酢酸エチル（２０：１）を溶媒系とするシリカゲ
ルカラムクロマトで精製し、融点１５９〜１６２°Ｃ（
分解点）の標記化合物８５０ｉ１１９を得る。
ＩＲ、ＫＢｒＣ，−ｔ、１７４０，１６９５，１１２０
゜ａｘ ９Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤ０１３ ）δ： １．２６（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ） ４．２８（２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ＝７Ｈｚ）５．２４（
２Ｈ，ｓ） ６．６０（ＬＨ，ｓ） ６．８８（ＩＨ，ｓ） ７．００〜７．４５（１６Ｈ，ｍ） 実施例１１ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１０で得た化合物＄７３１１１９をエタノール５
−、テトラヒドロフラン５−の混合溶媒に溶解し、これ
にチオ尿素１３８■、酢酸ナトリウムトｂｓｗｓｏを加
え室温にて１５時間攪拌する。
゜ａｘ ９Ｏ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤ０１３ ）δ： １．２６（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ） ４．２８（２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ＝７Ｈｚ）５．２４（
２Ｈ，ｓ） ６．６０（ＬＨ，ｓ） ６．８８（ＩＨ，ｓ） ７．００〜７．４５（１６Ｈ，ｍ） 実施例１１ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（１
−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシイミノ〕
酢酸エチル 実施例１０で得た化合物＄７３１１１９をエタノール５
−、テトラヒドロフラン５−の混合溶媒に溶解し、これ
にチオ尿素１３８■、酢酸ナトリウムトｂｓｗｓｏを加
え室温にて１５時間攪拌する。
溶媒を留去し残渣に酢酸エチルと飽和重曹水を加え分配
し、有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸す
） ＩＪウムで乾燥後濃縮乾固する。残渣に少量の酢酸
エチルを加え結晶化させ。
し、有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸す
） ＩＪウムで乾燥後濃縮乾固する。残渣に少量の酢酸
エチルを加え結晶化させ。
これを濾取した後少量のエタノールで洗浄後乾燥し、標
記化合物７０１１９を得た。本物質の物理定数は実施例
７で得た化合物のそれと完全に一致した。
記化合物７０１１９を得た。本物質の物理定数は実施例
７で得た化合物のそれと完全に一致した。
実施例１２
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２
−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸エチル実施例７で得た化合物５．８７１９
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０−、ジクロルメタ
ン３−の混液に懸濁し、トリチルクロライド３８６■を
加え２次いでトリエチルアミン１８０＋１９を加える。
−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸エチル実施例７で得た化合物５．８７１９
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０−、ジクロルメタ
ン３−の混液に懸濁し、トリチルクロライド３８６■を
加え２次いでトリエチルアミン１８０＋１９を加える。
反応液を室温で２時間攪拌した後、トリチルクロライド
５０ＩＩＩ９およびトリエチルアミン５０１１９を追加
し、さらに１６時間攪拌する。酢酸エチルで反応液を希
釈し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮乾
固して得られる残渣をクロロホルムを溶媒系とするシリ
カゲルカラムクロマトで精製し、標記化合物７７０１１
９を得る。
５０ＩＩＩ９およびトリエチルアミン５０１１９を追加
し、さらに１６時間攪拌する。酢酸エチルで反応液を希
釈し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮乾
固して得られる残渣をクロロホルムを溶媒系とするシリ
カゲルカラムクロマトで精製し、標記化合物７７０１１
９を得る。
ＺＲｙ””ａｍ−”：１７８５．１４５０１１ＬＸ
ＮＭｕ（ａｎｃｌａ）δ：
１．１８（８Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ）
４、ｊ！４（２Ｈ，ＡＢｑ、、 Ｊ−７Ｈｚ）５４２（
２Ｈ，ｇ） ６．４６（ＩＨ，ｓ） ６．８６（ＬＨ，ａ、 Ｊ−ＩＨｚ） ７．００〜７．４６（８１Ｈ，ｍ） 実施例１３ ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ＃）−１
−（（１−トリチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸エチル実施例７で得た化合物４００１１１
９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド７−に懸濁し、トリ
チルクロア イ） ８１０ ”９ ｔ ） ９ ”
ｆ ｋ ７ ミン１１ ｍ ”９を加え、室温にて１５
時間攪拌を続けた後１反応液に氷水２０ｇＬｔを加え析
出物を濾取、水洗後乾燥し、淡黄色粉末８１０”９を得
る。これをクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクｐ、 マドで精製し、標記化合物５３０１１９を得
る。本化合物の物理定数は実施例１８で得たものと完全
に一致した。
２Ｈ，ｇ） ６．４６（ＩＨ，ｓ） ６．８６（ＬＨ，ａ、 Ｊ−ＩＨｚ） ７．００〜７．４６（８１Ｈ，ｍ） 実施例１３ ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ＃）−１
−（（１−トリチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸エチル実施例７で得た化合物４００１１１
９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド７−に懸濁し、トリ
チルクロア イ） ８１０ ”９ ｔ ） ９ ”
ｆ ｋ ７ ミン１１ ｍ ”９を加え、室温にて１５
時間攪拌を続けた後１反応液に氷水２０ｇＬｔを加え析
出物を濾取、水洗後乾燥し、淡黄色粉末８１０”９を得
る。これをクロロホルムを溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクｐ、 マドで精製し、標記化合物５３０１１９を得
る。本化合物の物理定数は実施例１８で得たものと完全
に一致した。
実施例１４
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２
−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸 実施例１２で得た化合物７２０■をメタノール２０ＷＬ
ｌに溶解し、２Ｎ−水酸化リチウム１１１Ｌｌを加え８
時間加熱還流する。反応液を冷却して得られる析出晶を
濾取し、これをジメチルスルホキシド２ｇＬｔに溶解し
、酢酸０．０フーを加える。
−（（１−）ジチルイミダゾール−４−イル）メトキシ
イミノ〕酢酸 実施例１２で得た化合物７２０■をメタノール２０ＷＬ
ｌに溶解し、２Ｎ−水酸化リチウム１１１Ｌｌを加え８
時間加熱還流する。反応液を冷却して得られる析出晶を
濾取し、これをジメチルスルホキシド２ｇＬｔに溶解し
、酢酸０．０フーを加える。
次いで水１２−を加え冷却し、析出晶を濾取。
水洗した後乾燥し、融点１８６〜１８８℃（分解）の標
記化合物５４５１１９を得る。
記化合物５４５１１９を得る。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＭ８０−（１６）δ：
４．９６（２Ｍ、ｓ）
６．７フ（ＩＨ，Ｓ）
６．９０〜７．５０（３２Ｈ，ｍ）
実施例１５
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ｌ−
（（１−トリチルイミダゾール−４−イル）メトキシイ
ミノ〕酢酸 実施例１２で得た化合物６９１１１１９をテトラヒト０
７ラン２−に溶解し、エタノール１５一ついで水２−お
よび２Ｎ−水酸化リチウム０．９−を加え、１．５時間
加熱還流する。反応液に水１５−を加え冷却し、析出晶
を濾取し、乾燥することにより標題化合物のリチウム塩
を融点１８３°Ｃ（分解）の無色粒状晶として６０８■
得る。
（（１−トリチルイミダゾール−４−イル）メトキシイ
ミノ〕酢酸 実施例１２で得た化合物６９１１１１９をテトラヒト０
７ラン２−に溶解し、エタノール１５一ついで水２−お
よび２Ｎ−水酸化リチウム０．９−を加え、１．５時間
加熱還流する。反応液に水１５−を加え冷却し、析出晶
を濾取し、乾燥することにより標題化合物のリチウム塩
を融点１８３°Ｃ（分解）の無色粒状晶として６０８■
得る。
Ｎ Ｍ Ｒ（ａＤｃｔｓ ）δ：
４．８７（２Ｈ，ｓ）
６．５８（ＬＨ，ｓ）
６．６１（ＩＨ，ｓ）
６．９０〜７．４０ （１３１Ｈ，ｍ ）ここで得られ
たリチウム塩をジメチルスルホキシド２−に溶解し、酢
酸０．０７−を加え２次いで水１２ｍ！！を加え冷却し
析出晶を濾取、水洗した後乾燥し、標記化合物５２０１
１９を得る。本化合物の物理定数は、実施例１４で得た
化合物すそれと完全に一致した。
たリチウム塩をジメチルスルホキシド２−に溶解し、酢
酸０．０７−を加え２次いで水１２ｍ！！を加え冷却し
析出晶を濾取、水洗した後乾燥し、標記化合物５２０１
１９を得る。本化合物の物理定数は、実施例１４で得た
化合物すそれと完全に一致した。
手続補正書
昭和６０年 １月２ｅ日
１、事件の表示
昭和５９年特許願第２８８８６９号
２、発明の名称
チアゾール酢酸誘導体およびその製法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
〒１０３東京都中央区日本橋三丁目１４番ｌＯ号５、補
正の内容 （１）明細書第５頁の反応式を以下の通りに訂正します
。
正の内容 （１）明細書第５頁の反応式を以下の通りに訂正します
。
（２）同第６頁第３行
「アルチルスルホニルオキシ等」とあるを「アルキルス
ルホニルオキシ等」と訂正します。
ルホニルオキシ等」と訂正します。
（３）同第６頁第１６行
「アルカリリチウム」とあるを
「アルキルリチウム」と訂正します。
（４）同第８頁第１５行〜下から第２行「本発明の・・
・・・・・・・で表わされる化合物を」とあるを ［本発明の化合物（Ｉ）は一般式 で表わされる化合物を」と訂正します。
・・・・・・・で表わされる化合物を」とあるを ［本発明の化合物（Ｉ）は一般式 で表わされる化合物を」と訂正します。
（５）同第９頁第１２行〜下から第５行「一般式・・・
・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・で表わさ
れる化合物」とあるを ［一般式 以上
・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・で表わさ
れる化合物」とあるを ［一般式 以上
Claims (2)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１およびＲ＾２は水素原子またはアミノ基の
保護基を意味し、Ｒ＾３はカルボキシル基の保護基を意
味し、Ｒ＾４は水素原子またはアミノ基の保護基を意味
する）で表わされる化合物およびその塩 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物と反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を製し、この化合物を二級アミンで
処理して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物となし、次いでこの化合物をハロゲ
ン化剤で処理して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を製し、更にこの化合物を一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるチオ尿素誘導体と反応させることを特徴と
する、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物の製法。ただし、Ｒ＾１およびＲ＾
２は水素原子またはアミノ基の保護基を意味し、Ｒ＾３
はカルボキシル基の保護基を意味し、Ｒ＾４は水素原子
またはアミノ基の保護基を意味する。Ｒ＾５およびＲ＾
６は同一または異なって、それぞれアルキル基を意味す
るか、あるいはＲ＾５とＲ＾６がそれらが結合する窒素
原子と一緒になって環状アミノ基を形成する。この環状
アミノ基は一個の窒素原子以外にさらにヘテロ原子を環
内に有してもよい。Ｘ＾１は水素原子またはハロゲン原
子を意味し、Ｘ＾２はハロゲン原子を意味する。Ｙは脱
離基を意味する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59238869A JPS61118384A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | チアゾ−ル酢酸誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59238869A JPS61118384A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | チアゾ−ル酢酸誘導体およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61118384A true JPS61118384A (ja) | 1986-06-05 |
Family
ID=17036462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59238869A Pending JPS61118384A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | チアゾ−ル酢酸誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61118384A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58174386A (ja) * | 1982-04-06 | 1983-10-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
-
1984
- 1984-11-13 JP JP59238869A patent/JPS61118384A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58174386A (ja) * | 1982-04-06 | 1983-10-13 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
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