JPS5817751B2 - イソオキサゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents

イソオキサゾ−ル誘導体の製造法

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JPS5817751B2
JPS5817751B2 JP12598178A JP12598178A JPS5817751B2 JP S5817751 B2 JPS5817751 B2 JP S5817751B2 JP 12598178 A JP12598178 A JP 12598178A JP 12598178 A JP12598178 A JP 12598178A JP S5817751 B2 JPS5817751 B2 JP S5817751B2
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JP
Japan
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hydrogen
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alkyl group
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JP12598178A
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行永寿二郎
杉田実男
石塚一郎
炭本信三郎
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Shionogi and Co Ltd
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Shionogi and Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なインオキサゾール誘導体の製造法に関す
る。
本発明の目的化合物は以下の一般式■で表わされる。
〔式中、 Rは水素、アルキル基(シクロアルキル基を含む、以下
同様)またはアリール基: R1は水素またはアルキル基; 各々水素、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
アリール基、アルキルチオ基またはアルコキシ基を表わ
すか、あるいはR3とR4は互いにもしくはペテロ原子
を介して結合して含窒素環を形成してもよい。
);Xは水素またはハロゲンを表わす。
さらに、RとXは互いに連結してアルキレン基を形成し
てもよい。
なお、上述の用語についてさらに説明を補足すれば、ア
ルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、t−ブチル、シクロプロピル、シクロヘキシルな
どが、ア、リール基としてはフェニル、トリル、メトキ
シフェニル、モノまたはジハロゲノフェニル、二l“ロ
フェニルナトカ、アルケニル基としてはビニル、アリル
、ブテニル、ブタジェニル、シクロヘキセニルなトカ、
アラルキル基としてはベンジル、フェネチル、メチルベ
ンジル、クロロベンジルなどが、アルキレン基としては
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなど
が、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシなどが、アルキルチオ基としてはメチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオなどが、ハロゲンとしては塩素
、臭素、ヨウ素などが、それぞれ例示され得るが、本発
明の目的上これらは上記具体例のみに限定されるもので
はな℃゛。
本発明にかかるイソオキサゾール誘導体の製造方法は以
下の3工法によるもので、各工法を詳細に説明する。
(1)第1工法 3−イソオキサシリルアミン誘導体(It)にイソシア
ン酸エステル(II)を反応させる方法。
(式中、R,R’、R3およびXは前記と同意義を表わ
す。
)本方法はイソシアン酸エステルとアミンの反応で、常
法に従って実施しうる。
反応は室温または加熱下にベンゼンなどの不活性溶媒中
で行已う。
反応を円滑に行うためにトリエチルアミンなどの塩基性
触媒を添加してもよい。
(2)第2工法 イソシアン酸3−イソオキサシリルエステル(IV)に
アミン類(V)を反応させる方法。
(式中、R,R3、R4およびXは前記と同意義を表わ
す。
)イソシアン酸エステルにアミンを反応させる方法で、
常法に従って実施しうる。
第1工法と同種の反応である。
本反応はベンゼン等の不活性溶媒中で室温または加熱下
に行う。
反応を円滑に行うためにトリエチルアミンなどの塩基性
触媒を用いてもよい。
(3)第3工法 3−インオキサシリルアミン誘導体(I)にカルボニル
化合物(L)を反応させる方法。
(式中、Aは水酸基またはハロゲンを表わし、R,R’
、R2およびXは前記と同意義を表わす。
)本方法は式 で表わされるカルバミン酸またはカルバミン酸ハロゲニ
ドとアミン化合物(1)の反応による(なおR3、R4
およびAは前記と同意義を表わす。
)反応はベンゼンなどの不活性溶媒の存在下または不存
在下に、所望によりアルカリアルコキシド、ピリジン等
の添加をし、室温または加熱下に実施するなど常法に従
って行えばよい。
本発明にかかる化合物■はすべて新規化合物であり、強
力な除草活性を有する。
・ 以下、実施例において本発明の実施態様を示すが、
これら実施例は本発明をなんら限定するものではない。
実施例 1 3−アミノ−5−t−ブチルインオキサゾール16.8
2fを無水ベンゼン140m1に溶解し、これにかきま
ぜながらインシアン酸メチルエステル8.90S’およ
びトリエチルアミン0.5 mlを加え、混合物を室温
下で約8時間かきまぜ、一夜放置し次いで1時間加熱還
流させる。
水冷後、反応液より析出した結晶をr取し、それを酢酸
エチルより再結晶し、融点187.0〜1875℃の無
色針状晶として1−メチルー:3−(5−t−ブチル−
3−インオキサゾリル)尿素21.61を得る。
実施例 2〜65 下記の原料物質(II)を使用し、実施例1と同様に反
応を行い、対応する目的物質(Ia)を得る: (注) 上記表中の略号は下記の意味を有する:■(水
素)、Me (メチル基)、Et (エチル基)、Pr
(プロピル基)、Bu (ブチル基)、ph (フェ
ニル基)、Al (アリル基)、He(ヘキシル基)
、Tol (トリル基)、C−(シクロ−)、i−(イ
ソ−)、1−(ターシャリイー)、m−(メタ−)、p
−’−(パラ−)、d(分解点)、mp(融点、℃)、
bp (融点)、1.Ro(赤外線吸収スペクトル)。
実施例 66 イソシアン酸5−t−ブチル−3−イソオキサシリルエ
ステル1.99S’をベンゼン120m1に懸濁させ、
これにN−メチルブチルアミン1.15Pを加え、3時
間還流させる。
今後、反応液から溶媒を留去し、残渣をシリカゲルの薄
層クロマトグラフィーに付し、1−ブチル−1−メチル
−3−(5−t−ブチル−3−イソオキサシリル)尿素
273グを得る。
本品はヘキサンより再結晶し、融点655〜66.5℃
の結晶を得る。
収率89.8%。
実施例 67−134 下記の原料物質(IV)を使用し、実施例66と同様に
反応を行い、対応する目的物質(Ib)を得る: (注) 表中の略記は下記の意義を有する:Met(メ
トキシ基)、Bz (ベンジル基)、s−(セカンダリ
イー)、その他は前記と同意義を有する。
実施例 135 インシアン酸3−インオキサシリルエステルを使用し、
実施例66と同様に反応を行い、油状物としてl−メト
キシ−1−メチル−3−(3−インオキサシリル)尿素
を得る。
1.R,1717,1595CTL ’ (CCI4
)。
実施例 136 3−アミノ−5−メチルイソオキサゾール490.6m
gにピリジン3′ifと塩化ジメチルカルバモイル1.
18S’を加え、60℃にて5.5時間かきまぜる。
ピリジンを減圧下に留去し、残渣に水15rrLlと5
%塩酸を加えてpH1とし、クロロホルムで抽出する。
クロロホルム抽出液よりクロロホルム・を留出し、残渣
に1.5%メタノール性水酸化ナトリウム液2.5 r
nlを加え、溶媒を留去する。
残渣をクロロホルムで再抽出し、クロロホルム層は水洗
し、芒硝で乾燥したのちクロロホルムを留去する。
残渣をシリカゲルの薄層クロマトグラフィーにて精製し
、融点150.5〜151.5℃の結晶として1・1−
ジメチル−3−(5−メチル−3−インオキサシリル)
尿素0.4735Pを得る。
収率56%。
実施例 137 3−メチルアミノ−5−t−ブチルイソオキサゾールを
使用し、実施例147と同時に反応を行い> 融点90
.0〜910℃の結晶として1・1・3−トリメチル−
3−(5−t−ブチル−3−インオキサシリル)尿素を
得る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式Iで表わされる3−イソオキサシリルアミン
    誘導体に、一般式■で表わされるインシアン酸エステル
    を反応させて一般式■で表わされるイソオキサゾール誘
    導体を得ることを特徴とするインオキサゾール誘導体の
    製造法。 〔式中、 Rは水素、アルキル基(シクロアルキル基を含む、以下
    同様)またはアリール基: R1は水素またはアルキル基; は各々水素、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基
    、アリール基、アルキルチオ基またはアルコキシ基を表
    わすか、あるいはR3とR4は互いにもしくはペテロ原
    子を介して結合して含窒素環を形成してもよい。 );Xは水素またはハロゲンを表わす。 さらに、RとXは互いに連結してアルキレン基を形成し
    てもよい。 〕。2一般式■で表わされるイソシアン酸3−イソオキ
    サシリルエステルに、一般式Vで表わされるアミン類を
    反応させて一般式Iで表わされるインオキサゾール誘導
    体を得ることを特徴とする特許オキサゾール誘導体の製
    造法。 〔式中、 Rは水素、アルキル基(シクロアルキル基を含む、以下
    同様)またはアリール基; R1は水素またはアルキル基; は各々水素、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基
    、アリール基、アルキルチオ基またはアルコキシ基を表
    わすか、あるいはR3とR4は互いにもしくはヘテロ原
    子を介して結合して含窒素環を形成してもよい。 );Xは水素またはハロゲンを表わす。 RとXは互いに連結してアルキレン基を形成してもよい
    。 〕。3一般式■で表わされる3−インオキサシリルアミ
    ン誘導体に、一般式■で表わされるカルボニル化合物を
    反応させて一般式■で表わされるイソオキサゾール誘導
    体を得ることを特徴とするインオキサゾール誘導体の製
    造法。 〔式中、 Rは水素、アルキル基(シクロアルキル基を含む、以下
    同様)またはアリール基; R1は水素またはアルキル基; は各々水素、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基
    、アリール基、アルキルチオ基またはアルコキシ基を表
    わすか、あるいはR3とR4は互いにもしくはヘテロ原
    子を介して結合して含窒素環を形成してもよ(・。 );Xは水素またはハロゲン; Aは水酸基またはハロゲンを表わす。 さらに、RとXは互いに連結してアルキレン基を形成し
    てもよい。 〕。
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