JPS61102628A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPS61102628A JPS61102628A JP59224770A JP22477084A JPS61102628A JP S61102628 A JPS61102628 A JP S61102628A JP 59224770 A JP59224770 A JP 59224770A JP 22477084 A JP22477084 A JP 22477084A JP S61102628 A JPS61102628 A JP S61102628A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/13—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body combined with thin-film or thick-film passive components
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
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- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、互いに対向する一対の電極間に封入されてい
る液晶から成る表示部と、上記一対の電極間に印加する
電圧を制御するための駆動用薄膜トランジスタとをそれ
ぞれ゛具備する液晶表示装置に関する。
る液晶から成る表示部と、上記一対の電極間に印加する
電圧を制御するための駆動用薄膜トランジスタとをそれ
ぞれ゛具備する液晶表示装置に関する。
従来の技術
従来、この種の液晶表示装置は、例えば第3A図〜第3
■図に示すような方法により製造され′ζいる。すなわ
ら、まず第3A図に示すようG、二石英基板1上に所定
形状の多結晶シリコン膜2を形成し、次いで熱酸化を行
うごとにより、第3B図に示すように、この多結晶シリ
コン膜20表面にSiO□膜3を形成すると共にこの多
結晶シリコン膜2を所定膜厚にv311Q化した後、全
面に多結晶シリコン膜4を形成する。
■図に示すような方法により製造され′ζいる。すなわ
ら、まず第3A図に示すようG、二石英基板1上に所定
形状の多結晶シリコン膜2を形成し、次いで熱酸化を行
うごとにより、第3B図に示すように、この多結晶シリ
コン膜20表面にSiO□膜3を形成すると共にこの多
結晶シリコン膜2を所定膜厚にv311Q化した後、全
面に多結晶シリコン膜4を形成する。
次に上記多結晶シリコン膜4及び5i02膜3の所定部
分を順次エツチング除去して、第3c図に示すように所
定形状めSiO□膜から成るゲート絶縁膜6及び所定形
状の多結晶シリコンIIりから成るゲート電極7をそれ
ぞれ形成する。
分を順次エツチング除去して、第3c図に示すように所
定形状めSiO□膜から成るゲート絶縁膜6及び所定形
状の多結晶シリコンIIりから成るゲート電極7をそれ
ぞれ形成する。
次に第3D図に示すように、全面にPSGSaO2成し
、次いで1000℃程度で熱処理を行うごとによりこの
PSGllB中に含まれているリン(P)を多結晶シリ
コン膜2中Gq拡散させて、n。
、次いで1000℃程度で熱処理を行うごとによりこの
PSGllB中に含まれているリン(P)を多結晶シリ
コン膜2中Gq拡散させて、n。
型のソース領域10及びドレイン領域11を形成する。
次に第3E図に示すように、PSGSaO2定部分をエ
ツチング除去して開口8a、8bを形成した後、これら
の開口3a、3bを通してA/から成る電極12.13
を形成する。
ツチング除去して開口8a、8bを形成した後、これら
の開口3a、3bを通してA/から成る電極12.13
を形成する。
次に第3F図に示すように、プラズマCV D法により
全面に層間絶縁膜としての5iJ4膜14を形成した後
、この5i3N41模14の所定部分をエツチング除去
して開口14aを形成する。
全面に層間絶縁膜としての5iJ4膜14を形成した後
、この5i3N41模14の所定部分をエツチング除去
して開口14aを形成する。
次に第3G図に示すように、スパッタ法により300°
C程度で全面にITO膜を被着形成し、次いでこのIT
O膜の所定部分をエツチング除去して所定形状のITO
膜16 (透明電極)を形成した後、第3H図に示すよ
うに全面にパンシベーション膜としてのSi3N4膜1
7を形成する。この後、第3I図に示すように、ITO
膜から成る対向電極18がその一面に予め形成されてい
るガラス仮19と上記5iJ4膜17との間に表示部を
構成する液晶20を封入して液晶表示装置を完成させる
。
C程度で全面にITO膜を被着形成し、次いでこのIT
O膜の所定部分をエツチング除去して所定形状のITO
膜16 (透明電極)を形成した後、第3H図に示すよ
うに全面にパンシベーション膜としてのSi3N4膜1
7を形成する。この後、第3I図に示すように、ITO
膜から成る対向電極18がその一面に予め形成されてい
るガラス仮19と上記5iJ4膜17との間に表示部を
構成する液晶20を封入して液晶表示装置を完成させる
。
なおこのようにして製造される液晶表示装置においては
、ゲート絶縁膜6、ゲート電極7、ソース領域10及び
ドレイン領域11等から成る薄膜トランジスタ(T P
T)が駆動用トランジスタを構成していて、この駆動
用トランジスタのスイ7・チング動作により、透明電極
としてのlTO膜16と対向電極18との間に印加する
電圧、従って液晶20に印加する電圧を制御するような
っている。
、ゲート絶縁膜6、ゲート電極7、ソース領域10及び
ドレイン領域11等から成る薄膜トランジスタ(T P
T)が駆動用トランジスタを構成していて、この駆動
用トランジスタのスイ7・チング動作により、透明電極
としてのlTO膜16と対向電極18との間に印加する
電圧、従って液晶20に印加する電圧を制御するような
っている。
上述の第3I図に示す従来の液晶表示装置は、次のよう
な欠点を有している。すなわち、液晶20に電圧を印加
するための、駆動用トランジスタ側の透明電極をITO
膜16で構成しているので、液晶表示装置を製造するた
めには、上述のようにTFTを形成するための工程と透
明電極を形成するための工程とが必要である。このため
、lTo膜16の被着工程及びそのパターンニングの工
程が必要となるのみならず、眉間絶縁膜としての5iJ
4膜14を形成するための工程及びこのSi3N4膜1
4に開口14aを形成するための工程等が必要であると
いう欠点がある。またTPTを形成後に、ITO膜16
を形成するためのスバ・ツタや、5tJs膜17を形成
するためのプラズマCVDを行っているので、これらの
スパッタやプラズマCVD時にTPTに損傷が生じ、そ
の結果、実効移動度 μoftが低下したり、しきい値
電圧Vthが大きくなったりしてしまう。このため、駆
動用トランジスタの特性があまり良好でないという欠点
もある。
な欠点を有している。すなわち、液晶20に電圧を印加
するための、駆動用トランジスタ側の透明電極をITO
膜16で構成しているので、液晶表示装置を製造するた
めには、上述のようにTFTを形成するための工程と透
明電極を形成するための工程とが必要である。このため
、lTo膜16の被着工程及びそのパターンニングの工
程が必要となるのみならず、眉間絶縁膜としての5iJ
4膜14を形成するための工程及びこのSi3N4膜1
4に開口14aを形成するための工程等が必要であると
いう欠点がある。またTPTを形成後に、ITO膜16
を形成するためのスバ・ツタや、5tJs膜17を形成
するためのプラズマCVDを行っているので、これらの
スパッタやプラズマCVD時にTPTに損傷が生じ、そ
の結果、実効移動度 μoftが低下したり、しきい値
電圧Vthが大きくなったりしてしまう。このため、駆
動用トランジスタの特性があまり良好でないという欠点
もある。
なお上述の液晶表示装置において用いられるTPTに関
する先行文献としては、日本応用物理学会箱45回学術
講演会予稿集、14p−A−4〜14p−A−6(19
84)が挙げられる。
する先行文献としては、日本応用物理学会箱45回学術
講演会予稿集、14p−A−4〜14p−A−6(19
84)が挙げられる。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、上述の問題にかんがみ、従来の液晶表示装置
が有する上述のような欠点を是正した液晶表示装置を提
供することを目的とする。
が有する上述のような欠点を是正した液晶表示装置を提
供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向する一対の電
極(例えばITO膜16から成る透明電極及び対向電極
18)間に封入されている液晶(例えば液晶20)から
成る表示部と、上記一対の電極間に印加する電圧を制御
するための駆動用薄膜トランジスタとをそれぞれ具備す
る液晶表示装置において、上記駆動用薄膜トランジスタ
のトレイン領域(例えばn゛型のドレイン領域II)と
上記一対の電極の一方の電極とを多結晶シリコン膜(例
えばn゛型の多結晶シリコン膜2)で構成している。
極(例えばITO膜16から成る透明電極及び対向電極
18)間に封入されている液晶(例えば液晶20)から
成る表示部と、上記一対の電極間に印加する電圧を制御
するための駆動用薄膜トランジスタとをそれぞれ具備す
る液晶表示装置において、上記駆動用薄膜トランジスタ
のトレイン領域(例えばn゛型のドレイン領域II)と
上記一対の電極の一方の電極とを多結晶シリコン膜(例
えばn゛型の多結晶シリコン膜2)で構成している。
実施例
以下本発明に係る液晶表示装置の一実施例につき図面を
参照しながら説明する。なお以下の第1A図〜第1G図
及び第2図においては、第3A図〜第3■図と同一部分
には同一の符号を(−t L 、、必要に応じてその説
明を省略する。
参照しながら説明する。なお以下の第1A図〜第1G図
及び第2図においては、第3A図〜第3■図と同一部分
には同一の符号を(−t L 、、必要に応じてその説
明を省略する。
まず第1A図に示すように、石英基板1上に1画素(ま
たはl絵素)に対応する大きさを有しかつ膜厚が例えば
700人の多結晶シリコン膜2を形成し、次いで熱酸化
を行うことにより、第1B図に示すように、この多結晶
シリコン膜20表面に例えば膜厚1000人のSin、
膜3を形成すると共に、この多結晶シリコン膜2を例え
ばN厚200人に薄膜化する。この後、第3B図〜第3
D図と同様に第1B図〜第1D図に示すように工程を進
めて、ゲート絶縁膜6、ゲート電極7、PSG膜8、n
3型のソース領域10及びドレイン領域11を形成する
。
たはl絵素)に対応する大きさを有しかつ膜厚が例えば
700人の多結晶シリコン膜2を形成し、次いで熱酸化
を行うことにより、第1B図に示すように、この多結晶
シリコン膜20表面に例えば膜厚1000人のSin、
膜3を形成すると共に、この多結晶シリコン膜2を例え
ばN厚200人に薄膜化する。この後、第3B図〜第3
D図と同様に第1B図〜第1D図に示すように工程を進
めて、ゲート絶縁膜6、ゲート電極7、PSG膜8、n
3型のソース領域10及びドレイン領域11を形成する
。
次に第1E図に示すように、PSG膜8に開口8aを形
成した後、この間口8aを通じて^lから成る電極12
を形成する。
成した後、この間口8aを通じて^lから成る電極12
を形成する。
次に第1F図に示すように、パッシベーション膜として
のSi3N4膜17を形成した後、第31図に示すと同
様に、ガラス板19に形成された対向電極18と上記5
i3Na膜17との間に液晶20を封入して、第1G図
に示すように目的とする液晶表示装置を完成させる。こ
の状態における液晶表示装置の平面図を第2図に示す。
のSi3N4膜17を形成した後、第31図に示すと同
様に、ガラス板19に形成された対向電極18と上記5
i3Na膜17との間に液晶20を封入して、第1G図
に示すように目的とする液晶表示装置を完成させる。こ
の状態における液晶表示装置の平面図を第2図に示す。
なおこの第2図においては、Si3N4膜17、対向電
極18、ガラス板19、液晶20等の図示を省略した。
極18、ガラス板19、液晶20等の図示を省略した。
、 こ0第16図43示す液晶表示装置ゝ
おI、%T−4:!・□ ドレイン領域1
1を構成する膜厚200人の多結晶シリコン膜2が透明
電極を兼用している。このように薄い多結晶シリコン膜
2は、短波長の光(青色)が多少吸収されることを除け
ば、その他の波長の光に対しては殆ど透明である。
おI、%T−4:!・□ ドレイン領域1
1を構成する膜厚200人の多結晶シリコン膜2が透明
電極を兼用している。このように薄い多結晶シリコン膜
2は、短波長の光(青色)が多少吸収されることを除け
ば、その他の波長の光に対しては殆ど透明である。
このように、上述の実施例によれば、駆動用゛1゛FT
のドレイン領域11と透明電極とをn°型の多結晶シリ
コン膜2で構成しているので、次のような種々の利点が
ある。すなわら、従来のように透明電極としてITO膜
16 (第3G図参照)を形成する必要がなく、従って
層間絶縁膜としてのSi3N、膜14(第3F図参照)
を形成する必要もない。このため、液晶表示装置の構成
が従来に比べて簡単である。またこれに伴って、TTO
膜16のパターンニングのためのフォトレジスト」工程
やSi3N、膜14の開D 14 aを形成するための
フォトレジスト工程を省略することができる。従って、
従来に比べて液晶表示装置の製造工程を簡略化すること
ができる。さらに、上述のようにlTO膜1膜中6iJ
a膜14を形成する必要がない )ので、これら
の膜形成のためのスパックやプラス )マCVD
により生ずるTPTの損傷の問題を解消することができ
、従ってTPTの特性が極めて良好である。
のドレイン領域11と透明電極とをn°型の多結晶シリ
コン膜2で構成しているので、次のような種々の利点が
ある。すなわら、従来のように透明電極としてITO膜
16 (第3G図参照)を形成する必要がなく、従って
層間絶縁膜としてのSi3N、膜14(第3F図参照)
を形成する必要もない。このため、液晶表示装置の構成
が従来に比べて簡単である。またこれに伴って、TTO
膜16のパターンニングのためのフォトレジスト」工程
やSi3N、膜14の開D 14 aを形成するための
フォトレジスト工程を省略することができる。従って、
従来に比べて液晶表示装置の製造工程を簡略化すること
ができる。さらに、上述のようにlTO膜1膜中6iJ
a膜14を形成する必要がない )ので、これら
の膜形成のためのスパックやプラス )マCVD
により生ずるTPTの損傷の問題を解消することができ
、従ってTPTの特性が極めて良好である。
のみならず、従来のようにITO膜16を形成していな
いので、耐熱性を向上させることができると共に、一画
素の占める面積に対する、光を透過する部分の面積の割
合(開口率)を従来に比べて大きくすることが可能であ
る。
いので、耐熱性を向上させることができると共に、一画
素の占める面積に対する、光を透過する部分の面積の割
合(開口率)を従来に比べて大きくすることが可能であ
る。
以上本発明を実施例につき説明したが、本発明は上述の
実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想
に基づく種々の変形が可能である。
実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想
に基づく種々の変形が可能である。
例えば、必要に応じて多結晶シリコン膜2のうちの表示
部に対応する部分に酸素(0)、窒素(N)、炭素(C
)等をイオン注入することによりいわゆるS I PO
3膜(半絶縁性多結晶シリコン膜)としたり、この表示
部の多結晶シリコン膜2に多数の開口を形成することに
より光の透過率を向上させることも可能である。なお多
結晶シリコン膜2の膜厚は必要に応じて選択可能である
が、実効移動度μ、、の高いTPTを得る−ためには、
膜厚を20〜1000人とするのが好ましい。また必要
に応じて表示部とTFT部とにおける多結晶シリコン膜
2の膜厚を互いに異なる値とすることも可能である。
部に対応する部分に酸素(0)、窒素(N)、炭素(C
)等をイオン注入することによりいわゆるS I PO
3膜(半絶縁性多結晶シリコン膜)としたり、この表示
部の多結晶シリコン膜2に多数の開口を形成することに
より光の透過率を向上させることも可能である。なお多
結晶シリコン膜2の膜厚は必要に応じて選択可能である
が、実効移動度μ、、の高いTPTを得る−ためには、
膜厚を20〜1000人とするのが好ましい。また必要
に応じて表示部とTFT部とにおける多結晶シリコン膜
2の膜厚を互いに異なる値とすることも可能である。
発明の効果
本発明に係る液晶表示装置によれば、駆動用薄膜トラン
ジスタのトレイン領域と一対の電極の一方の電極とを多
結晶シリコン膜で構成しているので、液晶表示装置を簡
単な構成とすることがζきると共に、製造工程を従来に
比べて簡略化することができる。
ジスタのトレイン領域と一対の電極の一方の電極とを多
結晶シリコン膜で構成しているので、液晶表示装置を簡
単な構成とすることがζきると共に、製造工程を従来に
比べて簡略化することができる。
第1A図〜第1G図は本発明の一実施例による液晶表示
装置の製造方法の一例を工程順にツ1<ず断面図、第2
図は第1G図に示す液晶表示装置の平面図、第3A図〜
第3I図は従来の液晶表示装置の製造方法を工程順に示
す断面図である。 なお図面に用いられた符号において、 1−一−−−−−−−−・−石英基板 2−・−・−・−一−−−−−−・多結晶シリコン膜6
−・−−−一−〜−−−−ゲート絶縁膜7−・−−−一
・−一−−ゲート電極 10−−−−−−・−−−−−一・ソース領域11−・
−・−−−−一−・・・ドレイン領域16−−一−−−
I T OllA 18−・−・・・−・−・一対向電極 19−−・−・−・・・−ガラス板 20−−−−−−−−−−−・一液晶 である。
装置の製造方法の一例を工程順にツ1<ず断面図、第2
図は第1G図に示す液晶表示装置の平面図、第3A図〜
第3I図は従来の液晶表示装置の製造方法を工程順に示
す断面図である。 なお図面に用いられた符号において、 1−一−−−−−−−−・−石英基板 2−・−・−・−一−−−−−−・多結晶シリコン膜6
−・−−−一−〜−−−−ゲート絶縁膜7−・−−−一
・−一−−ゲート電極 10−−−−−−・−−−−−一・ソース領域11−・
−・−−−−一−・・・ドレイン領域16−−一−−−
I T OllA 18−・−・・・−・−・一対向電極 19−−・−・−・・・−ガラス板 20−−−−−−−−−−−・一液晶 である。
Claims (1)
- 互いに対向する一対の電極間に封入されている液晶か
ら成る表示部と、上記一対の電極間に印加する電圧を制
御するための駆動用薄膜トランジスタとをそれぞれ具備
する液晶表示装置において、上記駆動用薄膜トランジス
タのドレイン領域と上記一対の電極の一方の電極とを多
結晶シリコン膜により構成したことを特徴とする液晶表
示装置。
Priority Applications (7)
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---|---|---|---|
JP59224770A JPS61102628A (ja) | 1984-10-25 | 1984-10-25 | 液晶表示装置 |
CA000492586A CA1269161A (en) | 1984-10-25 | 1985-10-09 | Liquid crystal display apparatus |
GB08525532A GB2166276B (en) | 1984-10-25 | 1985-10-16 | Liquid crystal display apparatus |
NL8502881A NL8502881A (nl) | 1984-10-25 | 1985-10-22 | Vloeibaarkristal-weergeefinrichting en werkwijze ter vervaardiging daarvan. |
CN85108619.5A CN1005170B (zh) | 1984-10-25 | 1985-10-24 | 液晶显示装置及其制造方法 |
DE19853538065 DE3538065A1 (de) | 1984-10-25 | 1985-10-25 | Fluessigkristall-anzeigeeinrichtung und verfahren zu ihrer herstellung |
FR8515861A FR2572569B1 (fr) | 1984-10-25 | 1985-10-25 | Dispositif d'affichage a cristaux liquides |
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JP59224770A JPS61102628A (ja) | 1984-10-25 | 1984-10-25 | 液晶表示装置 |
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TW281786B (ja) * | 1993-05-26 | 1996-07-21 | Handotai Energy Kenkyusho Kk | |
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EP1843194A1 (en) * | 2006-04-06 | 2007-10-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device, semiconductor device, and electronic appliance |
TWI764143B (zh) | 2006-05-16 | 2022-05-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 液晶顯示裝置 |
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- 1984-10-25 JP JP59224770A patent/JPS61102628A/ja active Granted
-
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- 1985-10-16 GB GB08525532A patent/GB2166276B/en not_active Expired
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- 1985-10-25 FR FR8515861A patent/FR2572569B1/fr not_active Expired - Lifetime
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FR2572569B1 (fr) | 1991-04-12 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |