JPS6090803A - 非水性過酸化水素溶液の製造法及びその使用法 - Google Patents

非水性過酸化水素溶液の製造法及びその使用法

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JPS6090803A
JPS6090803A JP59200707A JP20070784A JPS6090803A JP S6090803 A JPS6090803 A JP S6090803A JP 59200707 A JP59200707 A JP 59200707A JP 20070784 A JP20070784 A JP 20070784A JP S6090803 A JPS6090803 A JP S6090803A
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JP
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phenol
hydrogen peroxide
water
solvent
solution
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JP59200707A
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カルルハインツ・ドラウツ
アクセル・クレーマン
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Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Deutsche Gold und Silber Scheideanstalt
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Publication date
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B15/00Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
    • C01B15/01Hydrogen peroxide
    • C01B15/013Separation; Purification; Concentration
    • C01B15/017Anhydrous hydrogen peroxide; Anhydrous solutions or gaseous mixtures containing hydrogen peroxide

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 種々の有機溶剤中の過酸化水素の非水性溶液は多くの反
応で知られてお夛、たとえば酸化、エポキシ化において
、又はフェノールの核ヒドロキフル化において用いられ
る。水の存在は上述の反応に対して妨害的に影響するの
で、出来るだけ水の少い過酸化水素有機性溶液を得るこ
とが従来研究された( Org、Reactions 
7 、 395(1953’) : 西ドイツ国特許2
038319:同2038320:西ドイツ国特許公告
2410742:同2462957:同2462990
号明細書参照)。
しかしこの種の溶液を作る際に、溶液の水含量があまシ
に高く、従って水の留去の間の同伴により及び塔底での
分解によシ過酸化水素の無視できない損失が起る(西ド
イツ国特許2038319:2038320号明細書参
照)。
フェノール又はその誘導体が溶媒として用いられるべき
であるなら、フェノール又はその誘導体及び過酸化水素
より上の沸点を持つ有機溶媒中のすでに用意された過酸
化水素は、フェノール又はその誘導体と共に高沸点溶媒
から塔頂から分留される。
西ドイツ国特許公告2462957号明細書によればフ
ェノール中の過酸化水素の溶液は、高沸点溶媒たとえば
トリイソオクチルホスフェートのようナリン酸エステル
中の過酸化水素の水の少い溶液を分留塔中で上方に蒸留
するフェノールに加え、減圧下で7エノールを過酸化水
素と共に約75℃の塔頂温度で塔頂から留去することに
より作られることが知られている。この際、総ての過酸
化水素がフェノールと共に移行しなければならない。フ
ェノール誘導体についての対応する。方法は、西ドイツ
国特許公告2462990号明細書に記載されている。
このように望む溶液の二段階製造法、すなわちリン酸エ
ステル中の過酸化水素溶液の製造及び次にこの溶液をフ
ェノール中の過酸化水素溶液へ変えることが考慮の対象
である。第二段階で過酸化水素を完全に留去せねばなら
ず、従って長時間にわたって高い温度にさらされること
になる。このことから、分解の恐れ及び従って過酸化水
素の損失の恐れがあることのみならず、この全体気化の
際に過酸化水素を蒸気の形で含む更に敏感なガス混合物
が発生する。
従って本発明方法の課題は、これら欠点をさケナがらフ
ェノール又はフェノール誘導体中の過酸化水素溶液を作
る゛ことである。フェノール誘導体という言葉は、アル
キル誘導体たとえばクレゾール、エチル−又はブチルフ
ェノール、アリールフェノールたとえば4−ヒドロキシ
−ビフェニル、アルコキクフェノール7’h ト、tハ
7ニソール及びそのアリール−又はノ・ロゲン誘導体、
フェニルエテルエーテル、フェニルイソプロピルエーテ
ル又#:t p−クレゾールメチルエーテルを包含する
本発明者は、フェノール又はフェノール誘導体中の過酸
化水素の溶液を一段階で、過酸化水素の分解なしで、か
つ爆発性の蒸気混合物の形成の危険なしに作ることがで
き、この際溶液は同時に事実上水不含であるところの方
法を見い出した。
この方法では、フェノール又はフェノール誘導体及び水
性過酸化水素を、その沸点が常圧で過酸化水素及びフェ
ノール又はフェノール誘導体の沸点より下にあシ、更に
この二つの成分と十分に均一な溶液を形成し、過酸化水
素、フェノール又はフェノール誘導体の沸点より下の沸
点を持つ−又は複数の共沸物を水とのみ形成し、更に過
酸化水素及びフェノール又はフェノール誘導体に対して
不活性であシ、かつフェノール又はフェノール誘導体中
の過酸化水素の形成された溶液から容易に分離できると
ころの溶媒又は溶媒混合物と混合し、次に水を溶媒との
共沸物として常圧、減圧又は加圧下で留去し、そしてフ
ェノール又はフェノール誘導体中の過酸化水素の事実上
水不含の溶液を塔底に得る。
フェノール又はフェノール誘導体を先に用意し、次に溶
媒及び水性過酸化水素を供給することが望ましい。
溶媒は、存在する水が同伴されうる程に多く水性過酸化
水素に溶解するものが選択される。
このことは、「十分に均一な」という表現で示される。
これは予備テストによυ確かめられうる。
多くの場合、蒸留自体は甘ず共沸物として水の除去のた
めに及び溶媒の大部分の除去のために大気圧で実施され
、残る溶媒は低い自体非臨界的な減圧、たとえばフェノ
ールの場合100ミリバールまでで除去できる。
共沸物及び過酸化水素の沸点が互いに相当近いなら、蒸
留は初めに少しの加圧下、たとえば3パールまでで行う
ことができる。好ましい溶媒は、ハロゲン化、脂肪族、
低沸点の炭化水素、たとえばジクロルメタン、トリクロ
ルメタン、フルオルトリクロルメタン、ジクロルジフル
オルメタンであり、ジクロルメタンが好ましい。
さらに、低沸点エーテルたとえばジエチルエーテル、メ
チル−インプロピルエーテル及びメチル−tart、−
ブチルエーテルが考慮される。
過酸化水素味、3〜90重量%好1しくに50〜85重
量係の過酸化水素水性溶液が用いられる。3重址俤より
希薄な溶液は、共沸物として除去されるべき極めて多量
の水の故に技術的に興味ない。90重量係よシ高濃度の
溶液は、爆発性の混合物形成の原因を作る可能性がある
フェノール又はフェノール誘導体中のこの過酸化水素溶
液は、事実上水不含である。その水含量に、1重量%以
下好ましくはttS重量重量子以下01重量%までであ
る。本発明に従い作られた溶液は、種々の目的たとえば
酸化反応のために用いることができる。
それらはフェノール及びその誘、導体の核ヒドロキシル
化にセいて特に好ましいことが実証された。核ヒドロキ
シル化は、本発明に従い得られたフェノール又はフェノ
ール誘導体中の過酸化水素溶液によって式X(h(XF
!硫黄、セレン又はテルルを意味する)の触媒の存在下
で極めて簡単に実施できる。従って核ヒドロキシル化の
この態様においてヒドロキシル化されるべき化合物自体
が、過酸化水素の溶媒として用いられる。核ヒドロキシ
ル化反応は、20〜200℃の温度で起る。好ましい温
度は、触媒として二酸化硫黄の使用の場合に120〜1
80’C−二酸化セレンの場合に100〜170℃であ
る。
用いられる圧力範囲は臨界的でない。一般に、常圧で行
われ、減圧又は加圧たとえば2バールまでの加圧も可能
である。
二酸化硫黄は、気体状でもまた溶解された形ででも用い
うる。溶媒として、過酸化水素溶液の溶媒すなわちフェ
ノール又Iaフェノール9導体の他に、4〜8個の総炭
素原子ケ持つ飽和脂肪族カルボン酸のアルキル−又はシ
クロアルキルエステル、なかんずく酢酸−n−及び1−
プロピルエステル、酢酸エチルエステルも考慮される。
ここでメチレンクロライドも溶媒として用いうる。しか
しジアルキルエーテル又はリン酸又はホスホy酸のエス
テルも用いることができる。
この二酸化硫黄溶液の濃度は、一般KO,5〜50重量
係、好ましくは1〜10重景係である。
作シ六での二酸化硫黄溶液が特に好ましく、これは水及
び副生成物たとえばアルキルスルホン化物を含まない。
触媒二酸化硫黄は、極めて少量、すなわち過酸化水素1
モルに対して[LOOO1〜0.1モル、好ましくはc
too05〜[101モルの量で用いられる。これは、
従来用いられた強鉱酸の量に比べて極端に少い。触媒と
して二酸化セレンの使用によシ、ヒドロキノンに対する
カテコールの比、すなわち可能な二つのオルト置換生成
物の比が影響されうる。すなわち、ヒドロキノンに対す
るカテコールの比は、理論的には2:1であるが、5:
、1〜1:1の間となることができる。
置換されるフェノールにおいてOH基に対するバラ位が
置換基たとえばメチル基によシ占められているなら、第
二のヒドロキシル基は第一のOH基に対してオルト位に
またOHs基に苅してオルト位に入ることができる。そ
して得られる生成物は、4位で置換されたカテコール又
はレゾルシンである。
本発明によシ、最初のヒドロキシル基に対するオルト位
に関して、二つのオルトヒドロキシル化生成物の比は約
5=1〜80:1に調節することができる。
二酸化セレンは、固体の形で、好ましくは粉末として、
過酸化水素1モル当りO,−0001〜5モル、好まし
くはo、 o o o s〜α2モルの量で用いられる
。それは、溶解された形でも、たとえばフェノール又は
フェノール誘導体中の溶液として用いることもできる。
そのような溶液の濃度は[11〜10重量%である。フ
ェノール又はフェノール誘導体中の過酸化水素の用いら
れる溶液は、フェノール又はフェノール誘導体対過酸化
水素のモル比が5〜20:1好ましくは5〜15:1で
あるように製造の際に変化されうる。反応時間は、二酸
化硫黄の使用の場合でも二酸化セレンの使用の場合でも
短い。それは、99チの転化率の場合に30分間を実際
に越えない。触媒として二酸化硫黄が用いられるなら、
反応は10分間後にはすでに事実上路る。
触媒二酸化硫黄又は二酸化セレンによシ行われるフェノ
ール又はフェノール訪導体の核ヒドロキシル化は、本発
明に従い作られた転化されるべき化合物中の過酸化水素
の溶液の使用により極めて簡単になる。
実施例1 インサイツ法によるフェノール中のH2O,の水不含溶
液の製造 3 B 7. OfのフェノールにA 70αOfのジ
クロルメタン、70重重量氷水過酸化水素溶液3α0F
(2tOfH,O茸)を次々に加える。常圧で38〜4
1℃の塔頂温度で水分離装置を介して9.1 fの水を
留去する。塔底温度は、最高71CK達する。続いてま
ず常圧で、次に500ミリバールで6911L、1 t
のジクロルメタンを留KO2重量係溶液(05重量%以
下の水含量)の40fh2tが残る。
実施例2 94、19のフェノール(1,0モル)中の五401の
HtOt(11−1−ル) O水不含溶液を90℃に加
熱する。この溶液に攪拌しながら、酢酸−イソプロピル
エステル924重量%EIO,溶液α095−を加える
。その後反応混合物の温度は143℃に上昇する。発熱
゛の終了後5分後に957俤や過酸化水素の反応率が確
かめられた。反応混合物はa78F(52,5ミリモル
)のカテコール及び2.372(21,5ミリモル)の
ヒドロキノンを含み、これは反応した過酸化水素に対し
て77.3−のジヒドロキシベンゼンの総収率に相当す
る。
実施例3 97、 Ofの7エノール(1,03モル)中の&80
t(α2モル)の町0.の水不含溶液を100℃に加熱
する。攪拌されているこの溶液に、 酢[−イソプロピ
ルエステル中)so、024重量%溶液α17fを加え
る。次に反応溶液の温度1lt170℃に上昇する。反
応終了後5分後に992%の過酸化水素の反応率が確か
められた。反応混合物中に9.67 t (42,6ミ
リモル)のカテコール及び5.24 f (2A 1 
f 17モル)のヒドロキノンが含まれ、これは反応し
た過酸化水素に対して65.7%のジヒドロキシベンゼ
ンの総収率に相当する。
実施例4 インライツ法によるp−クレゾール中の過酸化水素の水
不含溶液の製造 新規に蒸留したp−クレゾール400. Ofに、50
0艷のジクロルメタン、70.011j量チH20゜水
性溶液30. Of (= 21.0 f H2O,’
)を相次いで加える。38.〜41.5℃の塔頂温度で
水分離装置を介して906fの水を留去する。塔底温度
は最高75℃に達する。次にまず常圧で、次に430ミ
リバールで696fのジクロルメタルを留去する。ジク
ロルメタンのH!o2 含量はα05重量%である。塔
底に、p−クレゾール中の4.91重量%のTix O
R溶液(実施例1に対応する少い水含量を持つ)419
.91が残る。
実施例5 4− tart、−ブチルフェノール中の過酸化水素の
水不含溶液の製造 新規に蒸留した4 −tert、−ブチルフェノール6
0αO1に、450−のジクロルメタン、70.02重
量%のH,0,水性溶液2s、oy(=留去する。塔底
温度は最高79℃に達する。次にまず常圧で、次に35
0ミリバールで4181のジクロルメタンを留去する。
ジクロルメタンのH2O2含量はα06重量%である。
塔底に4−tθrtrブチルフェノール中の536重t
sHfiO1溶液(実施例1に対応する極めて少い水含
量を有する)31ZOrが残る。
実施例6 15α2 t (1,0モル)の4− tart、−ブ
チルフェノール中の五402のIh02(0,1モル)
の水不含溶液を90℃に加熱し、酢酸−イソプロビルエ
ステル中の二酸化硫黄4.8重量係溶液α4fi加える
。そして反応溶液の温度1j159℃に上昇する。発熱
終了後10分後に9a9%の過酸化水素の反応率が確認
された。反応混合物中に12.959の4− tert
、−ブチルカテコールが含まれ、これは反応した過酸化
水素に対して7a8%の収率に相当する。
実施例7 10 FfL 1 ? (1,0モル)のp −/ V
ゾール中のA40fのH2O,(0,1モル)の水不含
溶液を95℃に加熱し、00189(0,00015モ
ル)の8002 を加える。そして温度は161℃に上
昇する。15分後に994%の過酸化水素の反応率が確
認された。反応混合物中にaOS2の4−メチルカテコ
ールが存在し、これは反応したH2 o、に対して65
.5モル係の収率に相当スる。4−メチルレゾルシンは
(185モルモル係で生じる。
実施例8 94、1 F (1,0モル)のフェノール中の五40
2のH,02(cL1モル)ノ水不含溶液を90℃に加
熱し、α0229(α0002モル)の日θ(h ’に
加える。そして反応溶液の温度は163℃に上る。10
分後に98係の過酸化水素反応率が確認された。反応混
合物は5. f3 j ? (5Z8モルqb)のカテ
コール及び1.319 (11,9モル饅)のとドロ印
ノンを含み、これは反応したH、 o、に対して6&0
俤のジヒドロキシベンゼンの総収率に相当する。カテコ
ール対ヒドロキノン比は4.43である。
代理人 江 崎 光 好 代理人 江 崎 光 史

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、7ヱノール又はフェノール誘導体中の過酸化水素の
    水不含溶液を作る方法において、フェノール又はフェノ
    ール誘導体及び水性過酸化水素を、その沸点が常圧で過
    酸化水素及びフェノール又はフェノール誘導体の沸点よ
    シ下にあり、更にこの二つの成分と十分に均一な溶液を
    形成し、過酸化水素、フェノール又はフェノール誘導体
    の沸点よシ下の沸点を持つ−又は複数の共沸物を水との
    み形成し、更に過酸化水素及びフェノール又はフェノー
    ル誘導体に対して不活性であシ、かつフェノール又はフ
    ェノール誘導体中の過酸化水素の形成された溶液から容
    易に分離できるところの溶媒又は溶媒混合物と混合し、
    次に水を溶媒との共沸物として常圧、減圧又は加圧下で
    留去し、そしてフェノール又はフェノール誘導体中の過
    酸化水素の事実上水不含の溶液を塔底に得る方法。 2 フェノール又はフェノール誘導体を先に用意し、次
    に溶媒及び水性過酸化水素を供給する特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 五 溶媒としてハロゲン化した脂肪族の低沸点溶媒を用
    いる特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4 溶媒がジクロルメタン、トリクロルメタン、フルオ
    ルトリクロルメタン及びジクロルジフルオルメタンから
    選ばれる特許請求の範囲第3項記載の方法。 5、 溶媒がジクロルメタンである特許請求の範囲第4
    項記載の方法。 & フェノール又はフェノール誘導体及び水性過酸化水
    素を、その沸点が常圧で過酸化水素及びフェノール又は
    フェノール誘導体の沸点よシ下にあシ、更にこの二つの
    成分と十分に均一な溶液を形成し、過酸化水素、フェノ
    −ル又はフェノール誘導体の沸点よシ下の沸点を持つ−
    又は複数の共沸物を水とのみ形成し、更に過酸化水素及
    びフェノール又はフェノール誘導体に対して不活性であ
    シ、かつフェノール又はフェノール誘導体中の過酸化水
    素の形成された溶液から容易に分離できるところの溶媒
    又は溶媒混合物と混合し、次に水を溶媒との共沸物とし
    て常圧、減圧又は加圧下で留去し、かくして塔底に得た
    フェノール又はフェノール卿導体中の過酸化水素の事実
    上水不含の溶液を用いて、式IO!(Xは硫黄、セレン
    又はテルルを意味する)の触媒の存在下で20〜200
    ℃の温度でかつ5〜20:1の7エノール又はフェノー
    ル誘導体対過酸化水素のモル比でフェノール又はフェノ
    ール誘導体を核ヒドロキシル化する方法。
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