JPS608067A - 化粧材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はレジスト模様を設けて作成した転写シートを利
用して基材に転写によりレジスト模様を形成してエツチ
ングを行なう化粧材の製造方法に関する。

（従来技術） 従来、化粧材にエツチングにより腐食模様を付与したも
のを製造するには次のような方法がある； （イ）基材（二直接にスクリーン印刷法でレジストを設
けてエツチングを行なう方法、 （ロ）露光により被着体との接着力が向上する感光性樹
脂層を塗布したレジストフィルムを基材に重ね、パター
ン露光した後、フィルムを剥離して露光部のみレジスト
を転移させてエツチングを行なう方法。

しかしながら、上記（イ）の方法においては基材の表面
形状はスクリーン印刷が可能なものでなければならず、
平面や平面に近似したもの以外には適用がむずかしいし
、上記（ロ）の方法においては暗室や露光装置を必要と
する。

（発明の目的） 従って、本発明はエツチングの対象となる基材の表面形
状の選択範囲が広＜、シかも格別大がかりな設備を要し
ない、エツチングを利用した化粧材の製造方法を提供す
ることを目的とする。

（発明の構成） 本発明は、剥離性のシートの剥離性面にパターン状のレ
ジストを設けて転写シートを作成し、得られた転写シー
トのレジストをエツチング性基材に転写し、次いでエツ
チング性基板のレジストで覆われていない露出面にエツ
チングを施し、しかる後、レジストを除去することを特
徴とする化粧材の製造方法をその主旨とするものである
。

第１図は本発明で用いる転写シートＡの模式的断面図で
あって剥離性のシートｌの剥離性面前が剥離性であるシ
ートであっても、或いは適宜な基体シートに剥離性層を
設けたもの（図示せず）であっても。しい。

次に転写シートＡをそのレジスト面をはさむようにして
エツチング性基材弘に転写する。転写は例えば加圧ロー
ル左及びｙを用いて行ない、必要によりロールを加熱す
る。転写はロールによらずプレスを用いて行なってもよ
い。転写の条件としては温度が／　３０−２００℃、好
ましくは１ｌＩＯ〜ｌＡθ℃であり、７〜３０秒間１、
より好ましくはｌθ・−コθ秒間圧着するとよい。

転写後、剥離性のシートｌを剥離し、エツチング性基材
弘の表面にレジスト３を転写させる。

転写後、エツチング性基材の材質に応じたエツチング液
を用い、基材弘のレジスト３によっテ覆ワれていない部
分、即ち露出面にエツチングを施して第３図に示すよう
に四部乙を形成し、エツチング後、レジストを除去する
。このようにすることにより、第を図に示すようにレジ
スト３で覆われていた部分は元の基材の表面がそツマ＼
残り、レジスト３で覆われていなかった部分はエツチン
グにより凹部ｔとなるが、或いはエツチングの程度によ
っては元の状態とは異なる、大抵は艶消しの状態となる
ので、レジスト３の模様に応じたエツチング模様があら
れれる。

以上の各工程で用いる材料について次に説明すると、ま
ず転写シートの基体シートとしては薄葉紙、硫酸紙、ク
ラフト紙等の紙、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリ
デンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ナイロンフィルム、ポリスチレンフィルム、エチ
レン酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレンビニルアル
コール共ｆｆｉ　合体フィルム、アイオノマー等のプラ
スチックフィルム若しくはアルミニウム、銅、錫、鉄、
鉛等の箔等、又は以上の各基体シートの材料の適宜な複
合体が使用しうる。

次に剥離性層としては、適宜なベヒクルを主体としてな
るもの又は更にシリコーン若しくはワックス等を添加し
てなる剥離性塗料を用いて公知の塗布方法若しくは印刷
方法により設けてなるものが例示される。剥離性塗料を
構成するベヒクルとしてはエチルセルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体１．
ポリスチレン、ポリαメチルスチレンなどのスチレン樹
脂及びスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、
ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸ブチルなどの、アクリル又はメタクリル樹脂
の単独又は共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸
樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジンなどのロ
ジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂
、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、ポリアミド
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂等の１種又は
２種以上を用い、以上のベヒクルに可塑剤、安定剤、分
散剤、体質顔料、溶剤及び希釈剤を適宜添加し、混練し
、更にワックス若しくはシリコーン等を添加して剥離性
塗料とし、又、以上のような剥離性塗料を用いて前記の
基体に剥離性層を設ける方法としては、グラビアコート
、ロールコート、エアー１１７コート、キスコート、ス
プレーコート、かケ流シコート、ディップコート、スピ
ンナーコート、ホイーラーコート、刷毛塗り若しくはグ
ラビア印刷、グラビアオフセット印刷、平版オフセット
印刷、ダイリン印刷、凸版印刷、凹版印刷、シルクスク
リーン印刷、静電印刷等の印刷方法によって行なうこと
ができる。

或いは又、前記した基材にポリエチレン樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂等の樹脂
の溶融押出法によって剥離性層を設けてもよい。

以上のような剥離性層は基体シートと後述する加熱レジ
ストとの接着性及び剥離性を考慮して適宜選択して設け
るが、剥離性層を設けなくても基体シート表面が元来剥
離性のものであれば剥離性層を設けなくてもよく、かか
る基体シ　・−トとしてはポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエステル、ナイロン等のフィルム若しくはシー
トを例示することができる。

以上のような基体シートの表面若しくは表面に剥離性層
を有する基体の剥離性層の表面（＝形成するレジストと
しては種々のものが使用でき、例えば、次のような合成
樹脂からなるものが使用でき、前記した剥離性塗料のベ
ヒクルとして挙げた樹脂の中から、剥離性、転写の際の
エツチング性基材との密着性、更にはエツチング基材に
よって選択されるエツチング液に対するレジスト適性を
考慮し選択する。

特に基材として金属を用い、熱転写によってレジストを
転写させるときはポリメチルメタクリレート樹脂とメラ
ミン樹脂とからなる熱硬化性アクリル樹脂が好ましい。

なお、転写されたレジストは、必要により焼き付けを行
なうとよく、上記の熱硬化性アクリル樹脂を使用すると
きは７６０〜２２０℃、好ましくは１７０〜１１０℃の
温度で７〜３分間、好ましくは２〜３分間焼き付けると
よい。

レジストを転写後、基材にエツチングを施すのに用いる
エツチング液としては、塩酸、硫酸、塩化第２鉄水溶液
などの腐食性液を基材の材質に応じて適宜に用いる。

例えば９９％硫酸を用いるときは温度２ｊ℃で１時間程
度の浸漬し、塩化第２鉄溶液を用いるときはコθ゛〜６
０℃、好ましくはｔｉｏ−ｓ。

℃の温度の液を７〜７０分間、好ましくは３〜７分間、
スプレーで吹きつけるとよい。

エツチング後、レジストを除去するには、レジストを溶
解する、溶剤、例えばケトン系やエステル系の溶剤を用
いて拭き取るか、或いは溶剤中に浸漬することによって
行なえばよい。

なお、エツチング性基材としては、鉄、銅、ステンレス
、真鍮、アルミニウム等の金属若しくはこれら金属の合
金を素材とするものであって、形状としては板状のもの
であっても、その他の形状に成型された成型物であって
もよい。

エツチング基材の素材としてはガラスも採用できる。

（発明の効果） 以上の本発明によると、転写法によりレジストを基材に
適用するため、基材の表面形状に凹凸があってもレジス
トの形成が可能であり、又転写シートの変更により模様
の変更が瞬時に行なえるので多品種少量生産にも向く上
、転写シート製造後の各工程は従来の方法に簡単な転写
設備を付加するのみで効率良く行なえるので大量生産も
高速で行なえる等の利点がある。

実施例 ポリエチレンテレフタレートフィルム（東し製、厚みＳ
Ｏμｍ）にアクリル樹脂とメラミン樹脂とのブレンド樹
脂をベヒクルとし、着色のためベンガラを添加して作成
した転写インキ（帝国インキ製）を用いてパターンを印
刷し、転写シートとした。

得られた転写シートをパターン面がステンレス板（厚み
１　、、　）　＋″−触れるようにして重ね、温度、　
／　Ａ　ｏｏＣのプレスを用い、圧力フｏ　ｏ　ｆ／７
’ｄで１０秒間加熱及び加圧し、その後、ポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥し、塩化第２鉄溶液を用い
て温度グθ℃で３分間スプレーを行ないエツチングを施
し、エツチング後、レジストをメチルエチルケトンを用
いて除去した。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第を図は本発明の工程を示す、いずれも断面図
である。 Ａ・・・・・・・・・・・転写シート ｌ・−φ・・・Ｏｅ・拳ψシ　−　ト コ・・・・・・・・・・・剥離性面 ３・・ａＯ−０・Ｏ・０・レジスト ダ・・・・・・・・・・・エツチング性基材ｓ　＠−−
−−＠−”−加圧ロール 乙・・・・・・・・・・・凹　部 特許出願人　大日本印刷株式会社 一／／− 才１図 牙２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）剥離性のシートの剥離性面にパターン状のレジス
   トを設けて転写シートを作成し、得られた転写シートの
   レジストをエツチング性基材に転写し、次いでエツチン
   グ性基板のレジストで覆われていない露出面にエツチン
   グを施し、しかる後、レジストを除去することを特徴と
   する化粧材の製造方法。