JPS6075805A - 光分岐導波路の作製法 - Google Patents
光分岐導波路の作製法Info
- Publication number
- JPS6075805A JPS6075805A JP18365583A JP18365583A JPS6075805A JP S6075805 A JPS6075805 A JP S6075805A JP 18365583 A JP18365583 A JP 18365583A JP 18365583 A JP18365583 A JP 18365583A JP S6075805 A JPS6075805 A JP S6075805A
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- Japan
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- mask
- waveguide
- divided
- mask pattern
- mps
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光分岐導波路の作製法に関する。
感光性樹脂を用いた光分岐導波！ｉ３＃′ｉ、従来、第
１図に示すような行程によシ作製していた。まず第１図
１ａｌに示すように、基板ｌ上に、均一な膜厚の感光性
樹脂層２を形成し、次に第１図１ｂ＋のように上記感光
性樹脂層２の上に、所望形状の露光用マスク３を載せ、
上記露光用マスク３の上方より紫外線４を照射する。次
に、第１図江）に示すように上記露光用マスク３により
＆光されなかった部分を、エツチングすることにより除
去する。更Ｋ、上記工程により光分岐導波路を作製する
場合、露光用マスク３が、第２図、第５図、第８図のよ
・うに分岐部や交叉部を含んでいると、第１図１ｂｌで
照射した紫外光が、マスクパターンの裏仰１に回シ込ん
だ場合、分岐部や交叉部のように、挟小部では第３図、
第６図、第９図に示すような゛かぶシ２を生ずる。その
結果、マスクパターン形状通シの光分岐導波路が得られ
なくなり、光分岐導波路の分岐損増加の原因となシ、損
失の少ない光分岐導波路が得られないという問題があっ
た。
１図に示すような行程によシ作製していた。まず第１図
１ａｌに示すように、基板ｌ上に、均一な膜厚の感光性
樹脂層２を形成し、次に第１図１ｂ＋のように上記感光
性樹脂層２の上に、所望形状の露光用マスク３を載せ、
上記露光用マスク３の上方より紫外線４を照射する。次
に、第１図江）に示すように上記露光用マスク３により
＆光されなかった部分を、エツチングすることにより除
去する。更Ｋ、上記工程により光分岐導波路を作製する
場合、露光用マスク３が、第２図、第５図、第８図のよ
・うに分岐部や交叉部を含んでいると、第１図１ｂｌで
照射した紫外光が、マスクパターンの裏仰１に回シ込ん
だ場合、分岐部や交叉部のように、挟小部では第３図、
第６図、第９図に示すような゛かぶシ２を生ずる。その
結果、マスクパターン形状通シの光分岐導波路が得られ
なくなり、光分岐導波路の分岐損増加の原因となシ、損
失の少ない光分岐導波路が得られないという問題があっ
た。
本発明け、上記の点を改善するために成したものであっ
て、その目的とするところは、分岐部あるいは交叉部を
含む、光分岐導波路の作製において、マスクパターン形
状面りに、光分岐導波路を作製する作製法を提供するこ
とにある。
て、その目的とするところは、分岐部あるいは交叉部を
含む、光分岐導波路の作製において、マスクパターン形
状面りに、光分岐導波路を作製する作製法を提供するこ
とにある。
以下本発明を実施例として掲げた図面に基づいて説明す
る。
る。
（実施例−１）
第２図に示すように、マスクパターン７が、交叉部８の
ような挟小部を倫んでいる場合、上記マ、Ｘ クハｐ−
ン７ｔ 第’ｉ図に示すように、パターン９、パターン
１０と２枚のマスクに分割する。分割したパターン９．
１０の各々には、ダメ１ｔ１３けなくなったことになる
。従って、まずパタ一ン９を用いて紫外線露光し、続い
て、マスクをパターン１０に取り替え、位置合わせを正
確に行なった後、再び紫外線露光を行なえば１カプリ″
は減少し、マス憧 クパターンにより近い光分岐導波路を作製するととがで
きる。次に、実際に従来例と本実施例との差を測定した
データを示す。第３図において、分岐角θ−１５ｄｅｇ
、パターン幅及び導波路厚みｄ＝５００μｍ、とした
。第２図で示すような１枚のマスクで露光した場合は、
長さｌ ＝ １２００μｉｎの゛がぶり’を生じたが、
第４図のように、２枚のマスクにより、２回の露光で行
なった場合は、−がぶり２の長さはｌ ＝ ２５０μｍ
と大幅に減少した。また、両者の分岐損を比較した場合
、本発明の方法で作製した方がｏ、６ｄｎの分岐損失の
減少がみられた。
ような挟小部を倫んでいる場合、上記マ、Ｘ クハｐ−
ン７ｔ 第’ｉ図に示すように、パターン９、パターン
１０と２枚のマスクに分割する。分割したパターン９．
１０の各々には、ダメ１ｔ１３けなくなったことになる
。従って、まずパタ一ン９を用いて紫外線露光し、続い
て、マスクをパターン１０に取り替え、位置合わせを正
確に行なった後、再び紫外線露光を行なえば１カプリ″
は減少し、マス憧 クパターンにより近い光分岐導波路を作製するととがで
きる。次に、実際に従来例と本実施例との差を測定した
データを示す。第３図において、分岐角θ−１５ｄｅｇ
、パターン幅及び導波路厚みｄ＝５００μｍ、とした
。第２図で示すような１枚のマスクで露光した場合は、
長さｌ ＝ １２００μｉｎの゛がぶり’を生じたが、
第４図のように、２枚のマスクにより、２回の露光で行
なった場合は、−がぶり２の長さはｌ ＝ ２５０μｍ
と大幅に減少した。また、両者の分岐損を比較した場合
、本発明の方法で作製した方がｏ、６ｄｎの分岐損失の
減少がみられた。
（実施例−２）
第５図のような、３分岐導波路のように、露光パターン
１１が、分岐部校のような挟小部を含んでいる場合も、
実施例−１の場合と同様に、第１図に示す、２枚のパタ
ーン１３ 、１４に分割する。本実施例の場合の実測値
を次に示す。ただし第６図において分岐角０ ＝ ６
ｄｅｇ 、パターン幅及び導波路厚みｄ ＝ ５００μ
ｍとしだ。第５１し１で示す１枚のマスクで露光した場
合は、長さｌ ＝ １５００μｍの１かぶり１を生じた
が、第７図のように、分割した２枚のマスクで行なった
場合は、・かぶり′の長さ１ ＝ ａｏｏμｍと大幅に
減少した。また両者の分岐損失を比較した場合は、本発
明の方法によって作製した方が０．８ｄＢのＪぢ（みら
れた。
１１が、分岐部校のような挟小部を含んでいる場合も、
実施例−１の場合と同様に、第１図に示す、２枚のパタ
ーン１３ 、１４に分割する。本実施例の場合の実測値
を次に示す。ただし第６図において分岐角０ ＝ ６
ｄｅｇ 、パターン幅及び導波路厚みｄ ＝ ５００μ
ｍとしだ。第５１し１で示す１枚のマスクで露光した場
合は、長さｌ ＝ １５００μｍの１かぶり１を生じた
が、第７図のように、分割した２枚のマスクで行なった
場合は、・かぶり′の長さ１ ＝ ａｏｏμｍと大幅に
減少した。また両者の分岐損失を比較した場合は、本発
明の方法によって作製した方が０．８ｄＢのＪぢ（みら
れた。
（実施例−３）
第８図のような２分岐導波路の場合も同様に第１Ｏ図の
ように、２枚のパターン１７ 、１８に分割する。
ように、２枚のパターン１７ 、１８に分割する。
この場合の実ｉ＋ｕ値を次に示す。ただし第９図におい
て弧の部分のＲ−６０ｔｔｎｏ、パターン幅及び導波路
厚みｄ＝１ｇとした。第８図で示す１枚のマスクを用い
た場合は、長さｌ ＝ ２５００μＩｌｌの１かぶり”
を生じたが第１Ｏ図のように、２枚のマスクを用いた場
合は、長さく１ ＝ ５００１ｔｕｌｃｌ） ｓかぶり
１しか生じなかった。また、両者の分岐損失は、本発明
の方法で作製した方が０．８ｄＢ少なかった。
て弧の部分のＲ−６０ｔｔｎｏ、パターン幅及び導波路
厚みｄ＝１ｇとした。第８図で示す１枚のマスクを用い
た場合は、長さｌ ＝ ２５００μＩｌｌの１かぶり”
を生じたが第１Ｏ図のように、２枚のマスクを用いた場
合は、長さく１ ＝ ５００１ｔｕｌｃｌ） ｓかぶり
１しか生じなかった。また、両者の分岐損失は、本発明
の方法で作製した方が０．８ｄＢ少なかった。
〔発明の効果」
上記のように本発明によれば、分岐部あるいは交叉部を
含んだ光分岐導波路を作製する場合は、マスクパターン
を分割し、各々のマスクで、別々に露光して作製するこ
とにより、挟小部での１かぶり″が小さくなり高精度、
且つ分岐損失の少ない良好な光分岐導波路が得られると
いう効果がある。
含んだ光分岐導波路を作製する場合は、マスクパターン
を分割し、各々のマスクで、別々に露光して作製するこ
とにより、挟小部での１かぶり″が小さくなり高精度、
且つ分岐損失の少ない良好な光分岐導波路が得られると
いう効果がある。
第１図は光分岐導波路作製の工程図、第２図は父又型導
波路のマスクパターン１ン１、第３図は第２図の交叉部
の拡大図、第４図は２ｒ’； 学園のマスクパターンに
対する本発明のマスクパターン、第５図は３分岐導波路
のマスクパターン、第６図は第５図の分岐部の拡大図、
第７図は第５図のマスクパターンに対する本発明のマス
クパターン、第８図け２分岐導波路用マスクパターン、
第９図は第８図の分岐部の拡大図、第１０図は第８図の
マスクパターンに対する本発明のマスクパターン。 ９、ＩＯ・・・ダメ型導波路用マスクパターンの分割バ
ター：／、１３．１４・・・３分岐導波路用マスクパタ
ーンの分割パターン、’１７．１８・・・２翠岐導波路
用マスクパダーンの分割パターン。 第１図 （ａ） ＪＩＪ！Ｊ−４ （Ｃ） ｃｄ） 第２図 第４図 第５図 第６図 １ 第７図 第８図 第９ Ｆｎ １に 第１０図
波路のマスクパターン１ン１、第３図は第２図の交叉部
の拡大図、第４図は２ｒ’； 学園のマスクパターンに
対する本発明のマスクパターン、第５図は３分岐導波路
のマスクパターン、第６図は第５図の分岐部の拡大図、
第７図は第５図のマスクパターンに対する本発明のマス
クパターン、第８図け２分岐導波路用マスクパターン、
第９図は第８図の分岐部の拡大図、第１０図は第８図の
マスクパターンに対する本発明のマスクパターン。 ９、ＩＯ・・・ダメ型導波路用マスクパターンの分割バ
ター：／、１３．１４・・・３分岐導波路用マスクパタ
ーンの分割パターン、’１７．１８・・・２翠岐導波路
用マスクパダーンの分割パターン。 第１図 （ａ） ＪＩＪ！Ｊ−４ （Ｃ） ｃｄ） 第２図 第４図 第５図 第６図 １ 第７図 第８図 第９ Ｆｎ １に 第１０図
Claims (1)
- １１７ 分岐部あるいは交叉部を含んだマスクパターン
上方より、紫外線をｌｌα射し、マスクバ〆−ンにより
露光されなかった箇所をエツチングすることにより、マ
スクパターン形状に対応した）４波路を作製するｆ官製
法において、上記マスクパターンを、分岐？部と交叉部
とを含まないように複数のマスクパターンに分割し、分
割したマスクパターンを順次露光用基板に載せて、紫外
線露光を行ない、マスクパターン形状に対応した光４波
路を形成することを特徴とする光分岐導波路の作製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18365583A JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18365583A JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6075805A true JPS6075805A (ja) | 1985-04-30 |
| JPH0332762B2 JPH0332762B2 (ja) | 1991-05-14 |
Family
ID=16139602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18365583A Granted JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6075805A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150773A (en) * | 1980-04-23 | 1981-11-21 | Canon Inc | Developing device |
| JPS57155568A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Hitachi Metals Ltd | Developing device |
| JPS58105176A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-22 | Ricoh Co Ltd | 乾式現像装置 |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18365583A patent/JPS6075805A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150773A (en) * | 1980-04-23 | 1981-11-21 | Canon Inc | Developing device |
| JPS57155568A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Hitachi Metals Ltd | Developing device |
| JPS58105176A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-22 | Ricoh Co Ltd | 乾式現像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332762B2 (ja) | 1991-05-14 |
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