JPH04161906A - 光導波路 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光導波路に関するものである。

［従来の技術］ 従来、樹脂等の有機材料を利用した光導波路は、射出成
形法を用いたものが知られている。その製造方法は、ま
ず封部成形用のスタンバ−を作成するこことから始まる
。すなわち、ガラス基板上にレジストをスピンコードし
電子ビームを用いレジストを直接露光し、これを現像し
母型を得る。この母型にニッケルメッキを施し厚さ約０
、５１１１１１１程度になったところで母型から剥離さ
せる。このようにして作成したニッケルスタンバ−を用
い、射出成形機を使用し、先導波路を製造している。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、このような樹脂製の光導波路は、材料的には安
価であるが、その製造方法が複雑であること、射出成形
時の応力により導波特性が劣化するなど、製造スルーブ
ツト、コスト、及び特性の劣化において問題が多かった
。

［課題を解決するための手段１ 上記課題を解決するために本発明の光導波路は、樹脂基
板の少な（とも略平坦な一面にドライエツチング加工を
施した溝を有してなるものである。

［作用］ 本発明は、樹脂基板の少な（とも略平坦な一面にドライ
エツチング加工を施して溝を有してなるものなので、溝
の加工工程中に熱や圧力にょる応力が発生せず、また加
工が簡便に行なえる。

［実施例］ 以下本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説明
する。第１図は、本発明の一実施例である光導波路の概
略構造を示した全体斜視図である。導波路１の一方の端
面から光が入射し、他方の端面から光が出射する構造に
なっている。少なくとも一面が平坦なアモルファスポリ
オレフィンからなる樹脂基板２に溝が形成されているも
のである。

第２図（ａ）〜（ｅ）は、この光導波路の製造工程を示
した説明図である。第２図（ａ）に示したアモルファス
ポリオレフィンからなる樹脂基板２上に第２図（ｂ）に
示すようにレジスト３を塗布しマスク４を用いて紫外線
（ｉ線、ｇ線）により露光する。引続き現像処理を行い
マスクの形状を再現する［第２図（Ｃ）］。この樹脂基
板２をプラズマを利用したエツチング方法であるドライ
エツチング方法（例えば平行平板仮型、電子共鳴型、イ
オンビーム型等の装置が利用できる。）を用い、例えば
、酸素ガスをエツチングガスとしこの樹脂基板２を深さ
１〜１０μｍ程度にエツチングする［第２図（ｄ）］。

次に、溶媒への浸漬による剥離やプラズマを利用したア
ッシング等によりレジストを除去し、第２図（ｅ）に示
すように光導波路を得る。

深さは、目的に応じ上記範囲より浅くなる（０．１μｍ
程度）ことも、また、深くなる（１００μｍ程度）こと
もある。

このように加工した樹脂基板の山の部分に光を通過させ
ると導波路として使用することができる、変形例として
は、樹脂基板上に透明樹脂材料をスピンコードしこれを
前記と同様の方法によりエツチングすれば導波路ができ
あがる。スピンコードできる透明樹脂としては、例えば
アクリル系、ポリカーボネート系等の熱硬化樹脂、紫外
線硬化樹脂がある。

第３図は本発明の他の実施例を示す断面図である。この
変形例においては、光導波路部６より屈折率の小さい材
料からなる被覆膜５を覆いかぶせるような構造をとる。

また更に、上記実施例では、フォトマスクを用いて露光
する方法を示したが、次のように露光してもよい。すな
わち、前記レジストを塗布した樹脂基板に集光したレー
ザー光を直接照射して露光させ、露光した後は、前述の
処理と同様に行う。この方法は小数量の光導波路を製造
するに適している。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば樹脂基板の少な（と
も略平坦な一面にドライエツチング加工を施して溝を有
してなるものなので、溝の加工工程中に熱や圧力による
応力が発生せず、導波特性が良好である。

また、従来に比して溝の加工が簡便となるので製造コス
トが低く、容易に量産することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である光導波路の概略構造を
示した全体斜視図、第２図（ａ）〜（ｅ）はこの導波路
の製造工程を示した説明図、第３図は本発明の他の実施
例を示す断面図である。 １・・・光導波路、２・・・樹脂基板、３・・・レジス
ト、６・・・光導波路部。 第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）樹脂基板の少なくとも略平坦な一面にドライエッ
   チング加工を施した溝を有してなる光導波路。