JPH0332762B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0332762B2 JPH0332762B2 JP58183655A JP18365583A JPH0332762B2 JP H0332762 B2 JPH0332762 B2 JP H0332762B2 JP 58183655 A JP58183655 A JP 58183655A JP 18365583 A JP18365583 A JP 18365583A JP H0332762 B2 JPH0332762 B2 JP H0332762B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask pattern
- waveguide
- mask
- parts
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光分岐導波路の作製法に関する。
感光性樹脂を用いた光分岐導波路は、従来、第
１図に示すような行程により作製していた。まず
第１図ａに示すように、基板１上に、均一な膜厚
の感光性樹脂層２を形成し、次に第１図ｂのよう
に上記感光性樹脂層２の上に、所望形状の露光用
マスク３を載せ、上記露光用マスク３の上方より
紫外線４を照射する。次に、第１図ｃに示すよう
に上記露光用マスク３により露光されなかつた部
分を、エツチングすることにより除去する。更
に、第１図ｄに示すように、透明な硬化性樹脂に
より、表面クラツド層６を形成する。
１図に示すような行程により作製していた。まず
第１図ａに示すように、基板１上に、均一な膜厚
の感光性樹脂層２を形成し、次に第１図ｂのよう
に上記感光性樹脂層２の上に、所望形状の露光用
マスク３を載せ、上記露光用マスク３の上方より
紫外線４を照射する。次に、第１図ｃに示すよう
に上記露光用マスク３により露光されなかつた部
分を、エツチングすることにより除去する。更
に、第１図ｄに示すように、透明な硬化性樹脂に
より、表面クラツド層６を形成する。
上記工程により光分岐導波路を作製する場合、
露光用マスク３が、第２図、第５図、第８図のよ
うに分岐部や交叉部を含んでいると、第１図ｂで
照射した紫外光が、マスクパターンの裏側に回り
込んだ場合、分岐部や交叉部のように、狭小部で
は第３図、第６図、第９図に示すような“かぶ
り”を生ずる。その結果、マスクパターン形状通
りの光分岐導波路が得られなくなり、光分岐導波
路の分岐損増加の原因となり、損失の少ない光分
岐導波路が得られないという問題があつた。
露光用マスク３が、第２図、第５図、第８図のよ
うに分岐部や交叉部を含んでいると、第１図ｂで
照射した紫外光が、マスクパターンの裏側に回り
込んだ場合、分岐部や交叉部のように、狭小部で
は第３図、第６図、第９図に示すような“かぶ
り”を生ずる。その結果、マスクパターン形状通
りの光分岐導波路が得られなくなり、光分岐導波
路の分岐損増加の原因となり、損失の少ない光分
岐導波路が得られないという問題があつた。
本発明は、上記の点を改善するために成したも
のであつて、その目的とするところは、分岐部あ
るいは交叉部を含む、光分岐導波路の作製におい
て、マスクパターン形状通りに、光分岐導波路を
作製す作製法を提供することにある。
のであつて、その目的とするところは、分岐部あ
るいは交叉部を含む、光分岐導波路の作製におい
て、マスクパターン形状通りに、光分岐導波路を
作製す作製法を提供することにある。
以下本発明を実施例として掲げた図面に基づい
て説明する。
て説明する。
（実施例−１）
第２図に示すように、マスクパターン７が、交
叉部８のような狭小部を含んでいる場合、上記マ
スクパターン７を第４図に示すように、パターン
９、パターン１０と２枚のマスクに分割する。分
割したパターン９，１０の各々には、交叉部はな
くなつたことになる。従つて、まずパターン９を
用いて紫外線露光し、続いて、マスクをパターン
１０に取り替え、位置合わせを正確に行なつた
後、再び紫外線露光を行なえば“カブリ”は減少
し、マスクパターンにより近い光分岐導波路を作
製することができる。次に、実際に従来例と本実
施例との差を測定したデータを示す。第３図にお
いて、分岐角θ＝15deg、パターン幅及び導波路
厚みｄ＝500μm、とした。第２図で示すような１
枚のマスクで露光した場合は、長さ＝1200μm
の“かぶり”を生じたが、第４図のように、２枚
のマスクにより、２回の露光で行なつた場合は、
“かぶり”の長さは＝250μmと大幅に減少した。
また、両者の分岐損を比較した場合、本発明の方
法で作製した方が0.6dBの分岐損失の減少がみら
れた。
叉部８のような狭小部を含んでいる場合、上記マ
スクパターン７を第４図に示すように、パターン
９、パターン１０と２枚のマスクに分割する。分
割したパターン９，１０の各々には、交叉部はな
くなつたことになる。従つて、まずパターン９を
用いて紫外線露光し、続いて、マスクをパターン
１０に取り替え、位置合わせを正確に行なつた
後、再び紫外線露光を行なえば“カブリ”は減少
し、マスクパターンにより近い光分岐導波路を作
製することができる。次に、実際に従来例と本実
施例との差を測定したデータを示す。第３図にお
いて、分岐角θ＝15deg、パターン幅及び導波路
厚みｄ＝500μm、とした。第２図で示すような１
枚のマスクで露光した場合は、長さ＝1200μm
の“かぶり”を生じたが、第４図のように、２枚
のマスクにより、２回の露光で行なつた場合は、
“かぶり”の長さは＝250μmと大幅に減少した。
また、両者の分岐損を比較した場合、本発明の方
法で作製した方が0.6dBの分岐損失の減少がみら
れた。
（実施例−２）
第５図のような、３分岐導波路のように、露光
パターン１１が、分岐部１２のような狭小部を含
んでいる場合も、実施例−１の場合と同様に、第
７図に示す、２枚のパターン１３，１４に分割す
る。本実施例の場合の実測値を次に示す。ただし
第６図において分岐貝θ＝6deg、パターン幅及
び導波路厚みｄ＝500μmとした。第５図で示す１
枚のマスクで露光した場合は、長さ＝1500μm
の“かぶり”を生じたが、第７図のよううに、分
割した２枚のマスクで行なつた場合は、“かぶり”
の長さ＝300μmと大幅に減少した。また両者の
分岐損失を比較した場合は、本発明の方法によつ
て作製した方が0.8dBの減少がみられた。
パターン１１が、分岐部１２のような狭小部を含
んでいる場合も、実施例−１の場合と同様に、第
７図に示す、２枚のパターン１３，１４に分割す
る。本実施例の場合の実測値を次に示す。ただし
第６図において分岐貝θ＝6deg、パターン幅及
び導波路厚みｄ＝500μmとした。第５図で示す１
枚のマスクで露光した場合は、長さ＝1500μm
の“かぶり”を生じたが、第７図のよううに、分
割した２枚のマスクで行なつた場合は、“かぶり”
の長さ＝300μmと大幅に減少した。また両者の
分岐損失を比較した場合は、本発明の方法によつ
て作製した方が0.8dBの減少がみられた。
（実施例−３）
第８図のような２分岐導波路の場合も同様に第
１０図のように、２枚のパターン１７，１８に分
割する。この場合の実測値を次に示す。ただし第
９図において弧の部分のＲ＝60mm、パターン幅及
び導波路厚みｄ＝１mmとした。第８図で示す１枚
のマスクを用いた場合は、長さ＝2500μmの
“かぶり”を生じたが第１０図のように、２枚の
マスクを用いた場合は、長さ＝500μmの“かぶ
り”しか生じなかつた。また、両者の分岐損失
は、本発明の方法で作製した方が0.8dB少なかつ
た。
１０図のように、２枚のパターン１７，１８に分
割する。この場合の実測値を次に示す。ただし第
９図において弧の部分のＲ＝60mm、パターン幅及
び導波路厚みｄ＝１mmとした。第８図で示す１枚
のマスクを用いた場合は、長さ＝2500μmの
“かぶり”を生じたが第１０図のように、２枚の
マスクを用いた場合は、長さ＝500μmの“かぶ
り”しか生じなかつた。また、両者の分岐損失
は、本発明の方法で作製した方が0.8dB少なかつ
た。
上記のように本発明によれば、分岐部あるいは
交叉部を含んだ光分岐導波路を作製する場合は、
マスクパターンを分割し、各々のマスクで、別々
に露光して作製することにより、狭小部での“か
ぶり”が小さくなり高精度、且つ分岐損失の少な
い良好な光分岐導波路が得られるという効果があ
る。
交叉部を含んだ光分岐導波路を作製する場合は、
マスクパターンを分割し、各々のマスクで、別々
に露光して作製することにより、狭小部での“か
ぶり”が小さくなり高精度、且つ分岐損失の少な
い良好な光分岐導波路が得られるという効果があ
る。
第１図は光分岐導波路作製の工程図、第２図は
交叉型導波路のマスクパターン図、第３は第２図
の交叉部の拡大図、第４図は第２図のマスクパタ
ーンに対する本発明のマスクパターン、第５図は
３分岐導波路のマスクパターン、第６図は第５図
の分岐部の拡大図、第７図は第５図のマスクパタ
ーンに対する本発明のマスクパターン、第８図は
２分岐導波路用マスクパターン、第９図は第８図
の分岐部の拡大図、第１０図は第８図のマスクパ
ターンに対する本発明のマスクパターン。 ９，１０…交叉型導波路用マスクパターンの分
割パターン、１３，１４…３分岐導波路用マスク
パターンの分割パターン、１７，１８…２分岐導
波路用マスクパターンの分割パターン。
交叉型導波路のマスクパターン図、第３は第２図
の交叉部の拡大図、第４図は第２図のマスクパタ
ーンに対する本発明のマスクパターン、第５図は
３分岐導波路のマスクパターン、第６図は第５図
の分岐部の拡大図、第７図は第５図のマスクパタ
ーンに対する本発明のマスクパターン、第８図は
２分岐導波路用マスクパターン、第９図は第８図
の分岐部の拡大図、第１０図は第８図のマスクパ
ターンに対する本発明のマスクパターン。 ９，１０…交叉型導波路用マスクパターンの分
割パターン、１３，１４…３分岐導波路用マスク
パターンの分割パターン、１７，１８…２分岐導
波路用マスクパターンの分割パターン。
Claims (1)
- １ 分岐部あるいは交叉部を含んだマスクパター
ン上方より、紫外線を照射し、マスクパターンに
より露光されなかつた箇所をエツチングすること
により、マスクパターン形状に対応した光分岐導
波路を作製する作製法において、上記マスクパタ
ーンを、分岐部と交叉部とを含まないように複数
のマスクパターンに分割し、分割したマスクパタ
ーンを順次露光用基板に載せて、紫外線露光を行
ない、マスクパターン形状に対応した光導波路を
形成することを特徴とする光分岐導波路の作製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18365583A JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18365583A JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6075805A JPS6075805A (ja) | 1985-04-30 |
| JPH0332762B2 true JPH0332762B2 (ja) | 1991-05-14 |
Family
ID=16139602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18365583A Granted JPS6075805A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光分岐導波路の作製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6075805A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150773A (en) * | 1980-04-23 | 1981-11-21 | Canon Inc | Developing device |
| JPS57155568A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Hitachi Metals Ltd | Developing device |
| JPS58105176A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-22 | Ricoh Co Ltd | 乾式現像装置 |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18365583A patent/JPS6075805A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150773A (en) * | 1980-04-23 | 1981-11-21 | Canon Inc | Developing device |
| JPS57155568A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Hitachi Metals Ltd | Developing device |
| JPS58105176A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-22 | Ricoh Co Ltd | 乾式現像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6075805A (ja) | 1985-04-30 |
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