JPS607343B2 - カラ−テレビブラウン管用のシヤドウマスクの製造法 - Google Patents
カラ−テレビブラウン管用のシヤドウマスクの製造法Info
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- JPS607343B2 JPS607343B2 JP53128031A JP12803178A JPS607343B2 JP S607343 B2 JPS607343 B2 JP S607343B2 JP 53128031 A JP53128031 A JP 53128031A JP 12803178 A JP12803178 A JP 12803178A JP S607343 B2 JPS607343 B2 JP S607343B2
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- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
- C21D8/0221—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips characterised by the working steps
- C21D8/0236—Cold rolling
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B1/00—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
- B21B1/22—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling plates, strips, bands or sheets of indefinite length
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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- C21D8/0242—Flattening; Dressing; Flexing
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- C21D8/0257—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips characterised by the heat treatment with diffusion of elements, e.g. decarburising, nitriding
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラーテレビブラウン管用シャドウマスクの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来、カラーテレビブラウン管用のシャドウマスクは次
のような諸工程を経て製造されていた。
のような諸工程を経て製造されていた。
素材圧延メーカーにおいて、低炭素鋼を冷間仕上圧延の
圧下率を４０％以上で冷延し「板厚０．２側以下の所望
板厚とする。そしてそのコイルをエッチング穿孔メーカ
ーに出荷する。エッチング穿孔メーカーにおいては、コ
イル状のシャドウマスク素材を巻き戻しながら、脱脂な
ど前処理をした後、両面に感光液（レジスト）を塗布し
も乾燥後、所定のドット形状、あるいはスロット形状が
形成された基準パターンを両面に密着させト露光し「現
像する。レジスト膜を硬化させるため、約１５０００前
後の温度でバーニング処理を施し、塩化第二鉄液のスプ
レー噴射によるエッチングで所定の孔をあげ「残存する
レジスト膜を除去したのち、一枚一枚のフラットマスク
としての製品となりブラウン管メーカーに出荷される。
次にブラウン管〆−カーにおいては、このヱッチング穿
孔されたフラットマスクを凝鈍することによりプレス成
形可能な変形能を付与する。この暁錨は、フラットマス
クを重ね合せるかまたは吊り下げた状態で、通常、７５
０〜９０ぴＣの高温で行なわれる。この燐鈍されたまま
の状態では、降伏点伸びが大きいので、プレスの際にス
トレッチャーストレーンが発生し「シャドウマスクとし
ては致命的欠陥となるから「 これを防止する目的と、
焼錨によりフラットマスクは平坦性を失なっているから
これを矯正する目的とで、プレス成形前にローラーレベ
ラーを数回かけ「 しかるのちに所定の球面状にプレス
成形される。その後し さらに黒化防錆処理によってシ
ャドウマスク表面に酸化皮膜を形成し「完成品となる。
以上述べた従来の製造工程において「特にブラウン管メ
ーカ−の行なう焼錨工程にいくつかの問題が顕在してい
る。
圧下率を４０％以上で冷延し「板厚０．２側以下の所望
板厚とする。そしてそのコイルをエッチング穿孔メーカ
ーに出荷する。エッチング穿孔メーカーにおいては、コ
イル状のシャドウマスク素材を巻き戻しながら、脱脂な
ど前処理をした後、両面に感光液（レジスト）を塗布し
も乾燥後、所定のドット形状、あるいはスロット形状が
形成された基準パターンを両面に密着させト露光し「現
像する。レジスト膜を硬化させるため、約１５０００前
後の温度でバーニング処理を施し、塩化第二鉄液のスプ
レー噴射によるエッチングで所定の孔をあげ「残存する
レジスト膜を除去したのち、一枚一枚のフラットマスク
としての製品となりブラウン管メーカーに出荷される。
次にブラウン管〆−カーにおいては、このヱッチング穿
孔されたフラットマスクを凝鈍することによりプレス成
形可能な変形能を付与する。この暁錨は、フラットマス
クを重ね合せるかまたは吊り下げた状態で、通常、７５
０〜９０ぴＣの高温で行なわれる。この燐鈍されたまま
の状態では、降伏点伸びが大きいので、プレスの際にス
トレッチャーストレーンが発生し「シャドウマスクとし
ては致命的欠陥となるから「 これを防止する目的と、
焼錨によりフラットマスクは平坦性を失なっているから
これを矯正する目的とで、プレス成形前にローラーレベ
ラーを数回かけ「 しかるのちに所定の球面状にプレス
成形される。その後し さらに黒化防錆処理によってシ
ャドウマスク表面に酸化皮膜を形成し「完成品となる。
以上述べた従来の製造工程において「特にブラウン管メ
ーカ−の行なう焼錨工程にいくつかの問題が顕在してい
る。
すなわちｔ この燐鈍工程は〜前述の如くフラットマス
クを重ね合せるかまたは吊り下げた状態でト７５０〜９
００００もの高温で煉鈍されるため〜 フラットマスク
同志の密着焼村が多発し、歩蟹を大きく低下させる原因
となっている。
クを重ね合せるかまたは吊り下げた状態でト７５０〜９
００００もの高温で煉鈍されるため〜 フラットマスク
同志の密着焼村が多発し、歩蟹を大きく低下させる原因
となっている。
また密着焼付を発生しないフラットマスクにおいてもも
この高温焼鈍により平滑性を失なっており〜のちに行な
われるローラーレベラーによって穴の位置ずれが発生し
、平坦‘性が極度に悪いものはしべラーによるシヮが発
生するなど、不良品を多発させる要因を内蔵している。
また〜 シャドウマスクの素材である低炭素鋼は高温焼
鈍されることにより鋼中の炭素が拡散し鋼板表面近くに
凝集するが、この凝集にムラが生じ「プレス成形で均一
な伸びを与えることができずも したがってプレス成形
後に発見される不良品も認められている。これらの問題
は、すべて高温暁鈍であるが故に波及する現象でありｔ
焼鈍温度の低下がこれらの問題解決に大きい効果を有す
ることは容易に考えられるところである。
この高温焼鈍により平滑性を失なっており〜のちに行な
われるローラーレベラーによって穴の位置ずれが発生し
、平坦‘性が極度に悪いものはしべラーによるシヮが発
生するなど、不良品を多発させる要因を内蔵している。
また〜 シャドウマスクの素材である低炭素鋼は高温焼
鈍されることにより鋼中の炭素が拡散し鋼板表面近くに
凝集するが、この凝集にムラが生じ「プレス成形で均一
な伸びを与えることができずも したがってプレス成形
後に発見される不良品も認められている。これらの問題
は、すべて高温暁鈍であるが故に波及する現象でありｔ
焼鈍温度の低下がこれらの問題解決に大きい効果を有す
ることは容易に考えられるところである。
ブラウン管メーカーもこの考え方で焼鎚温度の低下を試
みられたことがあった。しかしも密着競付の防止「熱変
形の防止が可能となる程度に温度を低下させた場合、結
晶粒度が総粒となり「その結果降伏点伸びが増大し「降
伏点伸びを消滅させるためのしべラー回数を作業能率上
不可能な程度まで増加させねばならなかった。したがっ
てへブラウン管メーカーでの？弧〜９００ｏ０の高温競
鎚は「 結晶粒径の増加をはかり「降伏点伸びを小さく
することによって「その後のしべラー回数を減少させる
効果を有するものであって、従来のシャドウマスク素材
を使用するかぎりにおいてはこの７５０〜９００ｑ０焼
銘温度は不可欠であるといえる。本発明者らは、このよ
うな問題の解消を目的に〜種々検討した結果〜以下に示
す方法によってブラウン管メーカーの行なう暁鎚の温度
を大幅に低下させることができもかつ、得られた品質も
Ｌ従来の７５０〜９００ｏｏの高温蛾鈍によって得られ
たものと同等の品質となる、新しいブラウン管用シャド
ウマスクの製造方法の開発に成功した。
みられたことがあった。しかしも密着競付の防止「熱変
形の防止が可能となる程度に温度を低下させた場合、結
晶粒度が総粒となり「その結果降伏点伸びが増大し「降
伏点伸びを消滅させるためのしべラー回数を作業能率上
不可能な程度まで増加させねばならなかった。したがっ
てへブラウン管メーカーでの？弧〜９００ｏ０の高温競
鎚は「 結晶粒径の増加をはかり「降伏点伸びを小さく
することによって「その後のしべラー回数を減少させる
効果を有するものであって、従来のシャドウマスク素材
を使用するかぎりにおいてはこの７５０〜９００ｑ０焼
銘温度は不可欠であるといえる。本発明者らは、このよ
うな問題の解消を目的に〜種々検討した結果〜以下に示
す方法によってブラウン管メーカーの行なう暁鎚の温度
を大幅に低下させることができもかつ、得られた品質も
Ｌ従来の７５０〜９００ｏｏの高温蛾鈍によって得られ
たものと同等の品質となる、新しいブラウン管用シャド
ウマスクの製造方法の開発に成功した。
すなわち「本発明は、低炭素鋼を冷間仕上圧延において
圧下率１０〜３５％で冷延して板厚０２肋以下の製品板
厚とし、この冷延鋼帯をフオトェツチングで穿孔したの
ち５２０〜７５０ｑＣの温度で暁鈍し、レベラー通板後
プレス成形することからなるカラーテレビブラウン管用
のシャドウマスクの製造法を提供するものである。換言
すれば、素材圧延メーカーにおいてト低炭素鋼を用いて
冷間仕上圧延の庄下率を１０〜３５％にて所望の板厚（
０．２柳以下）にしてトシャ；ゞウマスク素材とし「
エッチング穿孔メーカーでは従来の既述の穿孔方法でフ
ラットマスクとしてブラウン管メーカーへ納入する。ブ
ラウン管メーカーでは「フラットマスクを燈鈍するに際
しも従来の７５０〜９００００の暁鈍温度を５２０〜？
５０００に低下させて暁鈍し「その後しべラ心通板を行
ないプレス成形するものである。しかもこの焼金屯後の
しべラー回数は従来法以下であっても充分にプレス成形
を可能とした画期的なブラウン管用シャドウマスクの製
造を開発したものである。以下ト本発明の特徴的な要件
について詳細に述べる。
圧下率１０〜３５％で冷延して板厚０２肋以下の製品板
厚とし、この冷延鋼帯をフオトェツチングで穿孔したの
ち５２０〜７５０ｑＣの温度で暁鈍し、レベラー通板後
プレス成形することからなるカラーテレビブラウン管用
のシャドウマスクの製造法を提供するものである。換言
すれば、素材圧延メーカーにおいてト低炭素鋼を用いて
冷間仕上圧延の庄下率を１０〜３５％にて所望の板厚（
０．２柳以下）にしてトシャ；ゞウマスク素材とし「
エッチング穿孔メーカーでは従来の既述の穿孔方法でフ
ラットマスクとしてブラウン管メーカーへ納入する。ブ
ラウン管メーカーでは「フラットマスクを燈鈍するに際
しも従来の７５０〜９００００の暁鈍温度を５２０〜？
５０００に低下させて暁鈍し「その後しべラ心通板を行
ないプレス成形するものである。しかもこの焼金屯後の
しべラー回数は従来法以下であっても充分にプレス成形
を可能とした画期的なブラウン管用シャドウマスクの製
造を開発したものである。以下ト本発明の特徴的な要件
について詳細に述べる。
まず本発明の最も重要な要件は「低炭素鋼の冷間仕上圧
延の圧下率を１０〜３５％で製品厚さとしエッチング穿
孔後の糠錨を５２０〜７５００Ｃで行なうことである。
延の圧下率を１０〜３５％で製品厚さとしエッチング穿
孔後の糠錨を５２０〜７５００Ｃで行なうことである。
前述した如く「従来の製造方法におけるプレス前の高温
競錨はフェライト結晶粒を粗大化（粒度舷．５〜６）さ
せ「降伏点伸びを小さくしてローフーレベラー回数の低
減をはかっている。本発明者らが「 Ｃ事Ｇ．０６％の
低炭素鋼を用いて０．１５側のシャドウマスク素材を製
造し競鈍温度を種々変化させて〜綾晶粒度とストレット
チャーストレーンの発生しないしべラ−回数との関係を
求めた結果を第１図に示す。これによれば結晶粒は紐粒
になるにしたがってしべラー回数は増加すること、又、
実用的に可能なしべラ−回数を考えると適正な結晶粒度
はＮｏ．７以下であることがわかる。しかし結晶粒もあ
まり粗大化しすぎると強度不足、プレス時の肌荒れなど
の問題があり、結晶粒度 Ｍの下限は種々検討の結果、
Ｎｏ．４であることが判明した。従って〜 これらを考
慮した適正結晶粒度は船．４〜Ｎｏ．７の範囲になる。
ところで、一般に低炭素鋼のフェライト結晶粒度は加工
度（再結晶核の数に関係）と暁錨条件によって決定され
る。すなわち「加工度の小さいものを再結晶させる場合
には「核の数が少ないため一つの核から生じた新しい結
晶が他の核から生じた結晶とぶつかるまでそれぞれの結
晶は大きく発達し、結晶粒径は大きくなる。これに対し
ても加工度の高いものは結晶の核が多いから結晶粒の数
が多く「それぞれの結晶は紬粒となる。一方、焼錨温度
は再結晶温度以上が必要なことはもちろんであるが、競
錨温度が高いほど再結晶粒の成長速度が早くなる。なお
加工度がある一定の値以下の場合には再結晶は起らない
。さらにその再結晶臨界温度は加工度が低くければ低い
ほど高温側に移動するが〜一旦再結晶が始まると前述の
とおり結晶粒は大きく発達する。本発明者らは、このよ
うな事実認識のもとにへ通常の冷延鋼板の水準よりも非
常に板厚が薄いシャドウマスク用の０。
競錨はフェライト結晶粒を粗大化（粒度舷．５〜６）さ
せ「降伏点伸びを小さくしてローフーレベラー回数の低
減をはかっている。本発明者らが「 Ｃ事Ｇ．０６％の
低炭素鋼を用いて０．１５側のシャドウマスク素材を製
造し競鈍温度を種々変化させて〜綾晶粒度とストレット
チャーストレーンの発生しないしべラ−回数との関係を
求めた結果を第１図に示す。これによれば結晶粒は紐粒
になるにしたがってしべラー回数は増加すること、又、
実用的に可能なしべラ−回数を考えると適正な結晶粒度
はＮｏ．７以下であることがわかる。しかし結晶粒もあ
まり粗大化しすぎると強度不足、プレス時の肌荒れなど
の問題があり、結晶粒度 Ｍの下限は種々検討の結果、
Ｎｏ．４であることが判明した。従って〜 これらを考
慮した適正結晶粒度は船．４〜Ｎｏ．７の範囲になる。
ところで、一般に低炭素鋼のフェライト結晶粒度は加工
度（再結晶核の数に関係）と暁錨条件によって決定され
る。すなわち「加工度の小さいものを再結晶させる場合
には「核の数が少ないため一つの核から生じた新しい結
晶が他の核から生じた結晶とぶつかるまでそれぞれの結
晶は大きく発達し、結晶粒径は大きくなる。これに対し
ても加工度の高いものは結晶の核が多いから結晶粒の数
が多く「それぞれの結晶は紬粒となる。一方、焼錨温度
は再結晶温度以上が必要なことはもちろんであるが、競
錨温度が高いほど再結晶粒の成長速度が早くなる。なお
加工度がある一定の値以下の場合には再結晶は起らない
。さらにその再結晶臨界温度は加工度が低くければ低い
ほど高温側に移動するが〜一旦再結晶が始まると前述の
とおり結晶粒は大きく発達する。本発明者らは、このよ
うな事実認識のもとにへ通常の冷延鋼板の水準よりも非
常に板厚が薄いシャドウマスク用の０。
２側以下の極薄鋼板について、その加工度と暁銘温度と
の関係を実験的に調査した結果、冷延仕上圧延での圧下
率を１０〜３５％とし、焼鈍温度を５２０〜７５０００
とするならば、既述の適正なフェライト結晶粒度Ｎｏ．
４〜７が得られることを発見した。
の関係を実験的に調査した結果、冷延仕上圧延での圧下
率を１０〜３５％とし、焼鈍温度を５２０〜７５０００
とするならば、既述の適正なフェライト結晶粒度Ｎｏ．
４〜７が得られることを発見した。
この条件は、低炭素鋼を素材とした板厚０．２脚以下の
如き極薄鋼板に対してのみ適用されるものでありも一般
的な水準の厚さ（例えば０．８肌）の鋼板ではこの加工
度１０〜３５％と焼銘温度５２０００〜７５０００の組
合せを探ったとしてもｔ鋼板の表面層のみが結晶を粗大
化し、本発明の如き均一な結晶粒は得られない。この両
者の違いは板厚の差によるもので、厚さ方向の加工度の
均一性が異なるためであると考えられる。
如き極薄鋼板に対してのみ適用されるものでありも一般
的な水準の厚さ（例えば０．８肌）の鋼板ではこの加工
度１０〜３５％と焼銘温度５２０００〜７５０００の組
合せを探ったとしてもｔ鋼板の表面層のみが結晶を粗大
化し、本発明の如き均一な結晶粒は得られない。この両
者の違いは板厚の差によるもので、厚さ方向の加工度の
均一性が異なるためであると考えられる。
すなわち０．２肋以下の極薄鋼板では低加工度であって
も板厚方向は均一な加工度となり、競鈍による再結晶は
板厚全体が均一に粗大化する。これに対し、一般的な水
準の厚さでは、低加工度の場合表層部の方が中心部より
加工度が大きくなる傾向があり、競鈍において表層部は
粗大するものの中心部は加工度が低く「競鎚温度が低い
ため再結晶がおこらず紐粒のま）にとどまる。このよう
に本発明の加工度と競錨温度との組合せは、カラーテレ
ビブラウン管のシャドウマスクのような極薄鋼板につい
てのみ得られた新たな知見であり〜一般的な加工度と蛾
鈍温度との関係を単に踏襲しても得られるものではない
。以上の説明からも明らかなように、本発明における袷
間仕上圧延の圧下率１０〜３５％と後工程の燐鈍温度５
２０〜？５０ｏｏは「 シャドウマスクの諸製造工程に
おいて特徴的な要件であり「実験によって見し、出され
たものであるが「その数値の上下限を限定した理由を総
括して概説すると次のとおりである。
も板厚方向は均一な加工度となり、競鈍による再結晶は
板厚全体が均一に粗大化する。これに対し、一般的な水
準の厚さでは、低加工度の場合表層部の方が中心部より
加工度が大きくなる傾向があり、競鈍において表層部は
粗大するものの中心部は加工度が低く「競鎚温度が低い
ため再結晶がおこらず紐粒のま）にとどまる。このよう
に本発明の加工度と競錨温度との組合せは、カラーテレ
ビブラウン管のシャドウマスクのような極薄鋼板につい
てのみ得られた新たな知見であり〜一般的な加工度と蛾
鈍温度との関係を単に踏襲しても得られるものではない
。以上の説明からも明らかなように、本発明における袷
間仕上圧延の圧下率１０〜３５％と後工程の燐鈍温度５
２０〜？５０ｏｏは「 シャドウマスクの諸製造工程に
おいて特徴的な要件であり「実験によって見し、出され
たものであるが「その数値の上下限を限定した理由を総
括して概説すると次のとおりである。
加工度を１０〜３５％に限定したのは〜１０％禾満の加
工度では核の数が少なく結晶粒度Ｍ．４以下となり適性
粒度からはずれること、加工度が小さすぎて再結晶が生
じないこともあるなど、いづれにしても適正な結晶粒が
得られないためである。また３５％をこえる加工度では
核の数が多すぎて結晶粒が紬粒となり粒度Ｎｏ．７以下
とするには暁鎚時間を工業的には不可能なほど長時間に
する必要があるからである。暁錨温度を５２０ｑ０〜７
５０ｑのこ限定したのは、５２０℃未満では１０〜３５
％の加工度では再結晶が生じないためであり「 ７５０
００を超える温度では結晶粒が粗大化しすぎるためであ
る。この焼鎚工程のあとは、従来法と同機に、再結晶に
よって回復した降伏点伸びを消滅させるためにローラー
レベラーを所要回数通板し〜シャドウマスク所望形状に
プレス成形を行なう。
工度では核の数が少なく結晶粒度Ｍ．４以下となり適性
粒度からはずれること、加工度が小さすぎて再結晶が生
じないこともあるなど、いづれにしても適正な結晶粒が
得られないためである。また３５％をこえる加工度では
核の数が多すぎて結晶粒が紬粒となり粒度Ｎｏ．７以下
とするには暁鎚時間を工業的には不可能なほど長時間に
する必要があるからである。暁錨温度を５２０ｑ０〜７
５０ｑのこ限定したのは、５２０℃未満では１０〜３５
％の加工度では再結晶が生じないためであり「 ７５０
００を超える温度では結晶粒が粗大化しすぎるためであ
る。この焼鎚工程のあとは、従来法と同機に、再結晶に
よって回復した降伏点伸びを消滅させるためにローラー
レベラーを所要回数通板し〜シャドウマスク所望形状に
プレス成形を行なう。
この際のしべラー通板回数は「従来の製造工程と同等か
それ以下の通板回数でストレッチャーストレーンの発生
はない。なお、これまでの説明は低炭素鋼について述べ
て来たが、冷間仕上圧延前の中間板厚でオープンコイル
にして脱炭処理を行なったもの、冷間圧延に用いるホッ
トコイルをそのま）オープンコイルにして脱炭処理した
もの、さらに冷間圧延に用いるホットコイルを真空脱ガ
ス法により脱炭処理を行なったものなど、のように素材
に脱炭処理を施したものを用いても本発明はそのま〉適
用できる。
それ以下の通板回数でストレッチャーストレーンの発生
はない。なお、これまでの説明は低炭素鋼について述べ
て来たが、冷間仕上圧延前の中間板厚でオープンコイル
にして脱炭処理を行なったもの、冷間圧延に用いるホッ
トコイルをそのま）オープンコイルにして脱炭処理した
もの、さらに冷間圧延に用いるホットコイルを真空脱ガ
ス法により脱炭処理を行なったものなど、のように素材
に脱炭処理を施したものを用いても本発明はそのま〉適
用できる。
この脱炭処理を施したものを用いる場合には、脱炭処理
によって再結晶暁銘での結晶粒の成長がしやすくなって
いるため、競鈍時間の短縮がはかられシャドウマスクの
製造条件は有利になる。また、素材の材質はリムド鋼〜
キャップド鋼、キルド鋼のいづれであっても本発明に適
用できる。次に「本発明の実施例について述べる。
によって再結晶暁銘での結晶粒の成長がしやすくなって
いるため、競鈍時間の短縮がはかられシャドウマスクの
製造条件は有利になる。また、素材の材質はリムド鋼〜
キャップド鋼、キルド鋼のいづれであっても本発明に適
用できる。次に「本発明の実施例について述べる。
９０トンＬＤ転炉により溶製した低炭素リムド鋼（Ｃさ
。
。
・０６％〜 Ｍｎ；００３０％「Ｓｉ；。−。・％、Ｐ
；Ｑ．０１７％「 Ｓ；０。０１３％）よりホットコイ
ルを６コイル製造し「表１に示す試料Ｎｏ．１〜６の工
程にて板厚０。
；Ｑ．０１７％「 Ｓ；０。０１３％）よりホットコイ
ルを６コイル製造し「表１に示す試料Ｎｏ．１〜６の工
程にて板厚０。
１５棚のシャドウマスクを製造した。
なおオープンコイルによる脱炭処理は（ＯＣＡ処理）温
水素雰囲気（ＡＸガス、銭点十５０００）中で行なった
。また、真空脱ガス法による脱炭処理を行なったアルミ
キルド鋼（Ｃ；０．００５％、Ｓｉ…０．０３％、Ｍｎ
亨Ｄ．２９％、Ｐ亭０．０１７％、Ｓ；００１２％）よ
りホットコイルを１コイル製造しも表川こ示す試料Ｎｏ
．７の工程にて処理し「 シャドウマスクを製造した。
これらのフェライト結晶粒度Ｎｏ．「 プレス成形、ス
トレッチャーストレーンの発生しないしべラー回数など
の結果をあわせて表１に示す。
水素雰囲気（ＡＸガス、銭点十５０００）中で行なった
。また、真空脱ガス法による脱炭処理を行なったアルミ
キルド鋼（Ｃ；０．００５％、Ｓｉ…０．０３％、Ｍｎ
亨Ｄ．２９％、Ｐ亭０．０１７％、Ｓ；００１２％）よ
りホットコイルを１コイル製造しも表川こ示す試料Ｎｏ
．７の工程にて処理し「 シャドウマスクを製造した。
これらのフェライト結晶粒度Ｎｏ．「 プレス成形、ス
トレッチャーストレーンの発生しないしべラー回数など
の結果をあわせて表１に示す。
船
表１の結果から明らかなように「本発明法によるものは
、冷間仕上圧延の圧下率１０〜３５％とし〜エッチング
穿孔後の焼鈍を従来の７５０〜９００００もの高温から
５２０ｑｏ〜７５０００の（好ましくは５２０〜６００
℃）温度に低下させても、従来工程のものと同等以上の
シャドウマスクが製造できる。
、冷間仕上圧延の圧下率１０〜３５％とし〜エッチング
穿孔後の焼鈍を従来の７５０〜９００００もの高温から
５２０ｑｏ〜７５０００の（好ましくは５２０〜６００
℃）温度に低下させても、従来工程のものと同等以上の
シャドウマスクが製造できる。
このように「本発明法は素材メーカーの冷間仕上圧延圧
下率１０〜３５％と、ブラウン管メーカーの暁鈍温度５
２０〜７５０ｑ○の組合せで、前述の従来法の問題点す
なわちフラットマスク同志の密着焼付多発による歩蟹低
下を大幅に改善し、また焼錨後の平滑性も向上せしめ、
さらに鋼中の炭素の拡散による凝集ムラが原因する不良
を改善するなどに大きく貢献し、特に省エネルギーの観
点からも、工業上極めて有益なシャドウマスクの製造方
法を提供するものである。
下率１０〜３５％と、ブラウン管メーカーの暁鈍温度５
２０〜７５０ｑ○の組合せで、前述の従来法の問題点す
なわちフラットマスク同志の密着焼付多発による歩蟹低
下を大幅に改善し、また焼錨後の平滑性も向上せしめ、
さらに鋼中の炭素の拡散による凝集ムラが原因する不良
を改善するなどに大きく貢献し、特に省エネルギーの観
点からも、工業上極めて有益なシャドウマスクの製造方
法を提供するものである。
第亀図はフェライト結晶粒度Ｎｏ．とストレッチャース
トレーンの発生しないしべラー回数の関係を示すグラフ
である。 第１図
トレーンの発生しないしべラー回数の関係を示すグラフ
である。 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 低炭素鋼を冷間仕上圧延において圧下率１０〜３７
％で冷延して板厚０．２ｍｍ以下の製品板厚とし、この
冷延鋼帯をフオトエツチングで穿孔したのち、５２０〜
７５０℃の温度で焼鈍し、レベラー通板後プレス成形す
ることからなるカラーテレビブラウン管用のシヤドウマ
スクの製造法。 ２ 該冷間仕上圧延に供する低炭素鋼の鋼板は脱炭処理
を施したものである特許請求の範囲第１項記載のシヤド
ウマスクの製造法。 ３ 低炭素鋼は、リムド鋼、アルミキルド鋼、またはキ
ヤツプド鋼のいづれかである特許請求の範囲第１項また
は第２項記載のシヤドウマスクの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53128031A JPS607343B2 (ja) | 1978-10-18 | 1978-10-18 | カラ−テレビブラウン管用のシヤドウマスクの製造法 |
| US06/083,635 US4271571A (en) | 1978-10-18 | 1979-10-11 | Process for manufacturing shadow mask of Braun tube for color TV |
| NLAANVRAGE7907629,A NL181217C (nl) | 1978-10-18 | 1979-10-16 | Werkwijze voor de vervaardiging van een schaduwmasker. |
| DE2942047A DE2942047C2 (de) | 1978-10-18 | 1979-10-17 | Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske für eine Farbfernsehröhre |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53128031A JPS607343B2 (ja) | 1978-10-18 | 1978-10-18 | カラ−テレビブラウン管用のシヤドウマスクの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5553844A JPS5553844A (en) | 1980-04-19 |
| JPS607343B2 true JPS607343B2 (ja) | 1985-02-23 |
Family
ID=14974787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53128031A Expired JPS607343B2 (ja) | 1978-10-18 | 1978-10-18 | カラ−テレビブラウン管用のシヤドウマスクの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4271571A (ja) |
| JP (1) | JPS607343B2 (ja) |
| DE (1) | DE2942047C2 (ja) |
| NL (1) | NL181217C (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8100730A (nl) * | 1981-02-16 | 1982-09-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurselektie-elektrode voor een kleurenbeeldbuis. |
| JPS58181825A (ja) * | 1982-04-15 | 1983-10-24 | Nisshin Steel Co Ltd | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS596326A (ja) * | 1982-07-03 | 1984-01-13 | Nisshin Steel Co Ltd | シヤドウマスクの製造方法 |
| EP0101919B1 (en) * | 1982-08-05 | 1986-09-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color picture tube and method for manufacturing the same |
| CA1204143A (en) * | 1982-08-27 | 1986-05-06 | Kanemitsu Sato | Textured shadow mask |
| DE3841870A1 (de) * | 1988-12-13 | 1990-06-21 | Westfalenstahl Kalt Und Profil | Stahl zur herstellung von stahlbaendern fuer die fertigung von schattenmasken |
| DE4447890B4 (de) * | 1993-09-28 | 2005-01-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Schlitzmaske |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49110562A (ja) * | 1973-02-24 | 1974-10-21 | ||
| JPS49114529A (ja) * | 1973-03-06 | 1974-11-01 | ||
| JPS5038461A (ja) * | 1973-08-08 | 1975-04-09 | ||
| JPS5040101A (ja) * | 1973-08-17 | 1975-04-12 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3693223A (en) * | 1971-12-30 | 1972-09-26 | Zenith Radio Corp | Screening process for color cathode-ray tube |
| JPS5113102Y1 (ja) | 1974-06-12 | 1976-04-08 | ||
| US3929532A (en) * | 1974-07-17 | 1975-12-30 | Rca Corp | Method for etching apertured work piece |
| US4210843A (en) * | 1979-04-03 | 1980-07-01 | Zenith Radio Corporation | Color CRT shadow mask and method of making same |
-
1978
- 1978-10-18 JP JP53128031A patent/JPS607343B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-10-11 US US06/083,635 patent/US4271571A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-10-16 NL NLAANVRAGE7907629,A patent/NL181217C/xx not_active IP Right Cessation
- 1979-10-17 DE DE2942047A patent/DE2942047C2/de not_active Expired
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49110562A (ja) * | 1973-02-24 | 1974-10-21 | ||
| JPS49114529A (ja) * | 1973-03-06 | 1974-11-01 | ||
| JPS5038461A (ja) * | 1973-08-08 | 1975-04-09 | ||
| JPS5040101A (ja) * | 1973-08-17 | 1975-04-12 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2942047C2 (de) | 1986-02-06 |
| NL181217B (nl) | 1987-02-02 |
| US4271571A (en) | 1981-06-09 |
| NL181217C (nl) | 1989-03-16 |
| NL7907629A (nl) | 1980-04-22 |
| JPS5553844A (en) | 1980-04-19 |
| DE2942047A1 (de) | 1980-04-30 |
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