JPS6065733A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents

石英ガラスの製造方法

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JPS6065733A
JPS6065733A JP17064483A JP17064483A JPS6065733A JP S6065733 A JPS6065733 A JP S6065733A JP 17064483 A JP17064483 A JP 17064483A JP 17064483 A JP17064483 A JP 17064483A JP S6065733 A JPS6065733 A JP S6065733A
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JP
Japan
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temperature
quartz glass
dry gel
sol
gel
Prior art date
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Pending
Application number
JP17064483A
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English (en)
Inventor
Motoyuki Toki
元幸 土岐
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Satoru Miyashita
悟 宮下
Tetsuhiko Takeuchi
哲彦 竹内
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Priority to US06/642,606 priority patent/US4681615A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属アルコキシド、微粉末シリカを原料とし
、PHを4〜6に調整するゾル−ゲル法による石英ガラ
スの低温合成法における焼結方法に関し、更に詳しくは
、得られる石英ガラスの高温時における発泡現象金少な
くする方法に関する。
石英ガラスは、IC製造工程中でるつぼやボード、拡散
炉等に使用さハるようになり、その有用性が認められ、
更に水酸基の少ないものや、光学的均一性の良いものが
開発されたことによって、各種の光学的用途に使用され
るようになり、特に、光通信用の石英ガラスファイバー
は最近注目されている。このように、石英ガラスは種々
の分野に使用され、その利用範囲も広がっている。
しかし、石英ガラスの製造コストは高く、高価なことが
問題になっている。
従って、石英ガラスの安価な製造方法が望まれている。
その方法として、金属アルコキシドを原料とする方法と
、超微粉末7リカを原料とする方法の二つの方法が試み
られている。
次に、それぞれについて概説したい。
金属アルコキシドを原料とするゾル−ゲル法により石英
ガラス全安価に製造しようという試みは、野上ら(窯業
協会誌、87,37.1979年)や山板ら(窯業協会
誌、87,454.1979年)によってなされている
。このゾル−ゲル法は、原料のアルコキシドの精製が容
易だということがら、純度の高い石英ガラスが得られる
ということと、製造コストが従来のものより安価である
という特徴を有している。
この方法の概略は次のようでちる。すなわち、シリコン
テトラアルコキシド、水、アルコール。
適当な触媒(塩酸やアンそニア等)を混合し、加水分解
させ、重合反応を促進させ、ゲル化し、収縮乾燥させて
ドライゲルとした後、1000℃程度寸で加熱処理(焼
結)すると、石英ガラスとすることができる。
この方法においての問題点は、ドライゲル作成中に割れ
が生じるため、大きなドライゲルが得られにくいという
ことと、ドライゲルを焼結し石英ガラスとする際に、こ
の時にも割れやクラックが生じ、大きな石英ガラスの作
成が困難だということである。
これに対して、超微粉末シリカを原料とする方法は、ベ
ル研究所のRabinovich、 F Mら(Jou
r−na’l of Non−Crystalline
’ 5olias 47(1982)455−439)
によって試みられている。これは、超微粉末シリカ(C
ab−o−8il、 Cabot社)を水に加え、ヒド
ロシルとした後、ゲル化し収縮乾燥させ、ドライゲルと
した後、焼結し石英ガラスとするものである。この方法
の長所は、前記の金属アルコキシド法と異なり、ドライ
ゲル作成中および焼結中に、割れやクラックが生じにく
く、かな9大きな石英ガラスの製造が可能だということ
である。しかし、この方法は、二つの大きな欠点を有し
ている。つまり、焼結温度が1450℃とかなり高温で
あるということと、ゲル中にたくさんの気泡が入ってい
て、作成した石英ガラス中にもたくさんの気泡が残留し
ているということである。またヒドロシル中の5i02
濃変が高すぎるため、機械的に均質な石英ガラスにもし
にくく、場合によってはそれがクラックの原因になるこ
とがある。つまシ、この方法rよ、気泡が存在するため
光学的に均質にしに〈<、!l:た、ヒドロシルの不均
質さのため機械的にも均質にしにくいという致命的な欠
点を有している。
このようなことから、光学的お:び機械的均質さ全持ち
合わせた品質の高い石英ガラスを製造するためには、前
記の金属アルコキシド法と用いた方が良いと思われる。
そういうことがら、金属アルコキシド法を用いて、歩留
り良く、大きな石英ガラスを得る方法が望まれている。
その方法の一つとして、昭和r、7年 12月23日付
出願の「石英ガラスの製造方法」がある。これは、金属
アルコキシド全加水分解したゾル中に超微粉末シリカを
加え、更にPH’i54〜6に調整したもので、ドライ
ゲル作成中の割れの問題と、焼結中の割れやクランクの
問題全同時に解決したものである。この方法を用いるこ
とで、かなシ大きな石英ガラス(41nchφ以上の大
きさのもの)が低コストで製造することができるように
なった。
しかし、この方法で得らfした石英ガラスは、ゲル−ガ
ラス転移温度(以後、石英化温度と記す)において透明
になるのだが、この石英化温度よシ高温に加熱すると気
泡が多数発生し、発泡する。
石英化温度は、だいたい1150℃以上であるので、こ
の1150℃以上で使用する場合は、上記のゾル−ゲル
法で得られる石英ガラスは使用できない。
そこで、本発明の目的は、石英化温度より高温に加熱し
た場合にも気泡が発生せず、発泡を生じにくい石英ガラ
スの作成方法全提供することである。
その方法として、次のような方法を考案し友。
すなわち、昭和 5’?年 12月 2ろ日付出願の「
石英ガラスの製造方法」と同様に、ケイ酸エチルに0、
1 m定の塩酸を加え(必要ならばアルコールを加える
)、攪拌し加水分解した後、Aerosil(Pegu
sea社) + Oa b OS 11 (Ca b 
Oi;社)等のホワイトカーボンである超微粉末7リカ
を加え、更にPHを4〜乙に調整する。このようにして
得たゾルを適洛な容器に仕込み、収縮・乾燥させてドラ
イゲルとする。このドライゲルを石英化温度まで昇温し
、透明な石英ガラスとするのであるが、この石英化温度
と室温の間で、1回以上ある温度で保持する方法である
なぜ、この方法が有効でおるかを、仄に説明する。
石英化温度より高温に加熱した場合に気泡が多数発生し
、発泡するような現象が生じる原因を、我々は次のよう
に推測している。すなわち、ドライゲル中には、PHを
4〜6に調整したために、塩化アンモニウムが生成し、
それが不純物として混在している。塩化アンモニウムは
668℃テ昇華し、分解するのだが、石英化温度まで一
定の昇温スピードで短時間で昇温した場合は、塩化アン
モニウムは分解しきれないで、若干量残っていると考え
られる。従って、従来のような昇温の方法をとると、得
られる透明な石英ガラス中には極微量の塩化アンモニウ
ムが存在し、これが、高温に加熱した場合に、ガラス中
で分解し気体になるため、これが気泡の原因になると考
えられる。もちろん、気泡の原因には水の影響も考えら
れる。
このようなことから、気泡2発泡を防ぐには、不純物で
ある塩化アンモニウム、及び水を除く操作をすれば良い
ことが分かる。
すなわち、塩化アンモニウムを完全に分解させるため、
分解温度658℃よシ高温で長時間保持するとよい。こ
の操作で、同時にゲル中の水も除かれるので、塩化アン
モニウムの分解と水の脱離を同時に行なうことができる
保持温度が高温にな九ばなるほど、必要な保持時間は短
縮化できる。これは、塩化アンモニウム及び水の除去さ
れる速度は、高温はど速いためでおる。
ただし、保持温度は高すぎると、塩化アンモニウムや水
が除去されないうちに焼結が進んでしまうため、石英中
に塩化アンモニウム及び水が残留することになるので、
よくない。従って、保持温度は焼結温度より低温である
必要がある。
また、本発明の方法というのは、一定温度で保持すると
いうことなのであるが、結局、塩化アンモニウムの分解
と水の脱離が起これば良いのであるので、この分解と脱
離が充分起こるように、一定温度に保持しないで、かな
り遅い昇温スピードにしても良い。ただ、この方法では
、熱処理に必要な時間がかなシ長くなると思わ九る。
以上のように、本発明による方法を用いると、焼結して
得られる石英ガラスを、石英化温度よシ高温に加熱して
も、気泡や発泡が生じにくくなる。
以下、実施例に従い本発明の詳細な説明する。
ただし、超微粉末シリカの割合(超微粉末ソリ力の重さ
を全体の8102量で割った値)を種々変えIC場合、
その値が小さい時は保持時間を長くする必要があること
がわかっているが、その値の差で、操作であるとか、効
果はほとんど同様であるので、ここでは超微粉末シリカ
の割合ケ56%にしIC場合で、代表して実施例に記す
実施例1〜16 精製した市販のケイ酸エチル208F(1モル)に0.
1規定の塩酸水溶液を180mJ加え、30分間激しぐ
攪拌し、加水分解反応全終了させ、この溶液に水を10
〇−加え、更に超微粉末シリカ(Cab−o−sil 
(Cabot 社)i75r攪拌下加え、超音波振動に
よる均一化を30分間行ない、更に均一にするため、大
きなCab−o−8il の固まりやゴミを除くため濾
過した。このようにして均質にしたゾルに、0.1規定
のアンモニア水を滴下し、PH’i4.4に調整した。
このゾルを内径23crnφのポリプロピレン製の容器
に加え、従来法と同様の操作音して’、15.0ciφ
の白いドライゲルを得た。
得られたドライゲル金′屯気炉に入れ、表1のように、
昇温スピード、保持温度、その温度での保持時間を種々
に変えた。すなわち、室温から保持温度まで表1の昇温
スピードで昇温し、保持温度に達しfc女らば、その温
度で保持時間だけ保持し、その後、115U’Cまで同
じ昇温スピードで上昇させ、1150℃で6時間保持し
焼結し1(。
これで得られた透明な石英ガラスは一全て一1600℃
で30分間熱処理しても発泡しなかつ1こ。もちろん本
発明の方法による焼結をしていない、従来法で得ら)t
た石英ガラスQま、1500℃で30分間保持すると発
泡する。
表 1゜ 実施例17〜26 実施例1〜16と同様に、ケイ酸エチルを塩酸水浴液で
加水分解し、水を加え、超微粉末ソリ力を加え、均一に
した後、P H’i 4.4にして、従来法により15
.0 cmφの白いドライゲルtliた。
得られたドライゲルを表2のように、ある温度表2゜ での保持を3種の温度で行ない、それぞれの保持時間を
種々に変え穴。すなわち、室温から第一保持温度まで1
80℃/ hrの昇温スピード上昇させ、その温度で保
持時間だけ保持し、続いて、180℃/hr の昇温ス
ピードで第二保持温度にし、その温度で保持し、同様に
第三保持温度に上昇させ、その温度で保持し、同様に1
150℃まで昇温し、1150℃で6時間保持して焼結
して、石英ガラスとした。
これで得られた透明な石英ガラスは、全て、1300℃
で60分間熱処理しても、発泡しなかった。
保持時間の総和が同じである場合、気泡の発生状態は、
高温での保持時間が長い程少ないことがわかった。これ
は、高温になるほど塩化アンモニウムの分解、水の脱離
速度が速くなるためである。
ただし、高温で保持すると、焼結反応がいくらか起るの
で、理想的には、なるべく低温で長時間保持した方が良
い。しかし、工業的なコストを考えると、長時開裂する
ほどコストは高くなるので、短時間でできる方法金力え
ないといけない。そのために、保持温ikいくつもとっ
て、何段も保持した方が良いと思われる。
以上、実施例で述べてきたように、気泡や発(包を防ぐ
のに、焼結温度以下で1回以上保持することに有効であ
る。このようにして得ら才した石英ガラスは、石英化温
度より高温に加熱しても発泡しないので、このような温
度に使用する用途に使用できるようになる。
以 上 出願人 株式会社 諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少なくとも金属アルコキシドおよび超微粉末シリカを原
    料とし、ゾルのPHを4〜6に調整するゾル−ゲル法に
    よる石英ガラスの低温合成法において、焼結時に、室温
    から1300℃の間で、1回以上ある温度で保持するこ
    と全特徴とする石英ガラスの製造方法。
JP17064483A 1982-12-23 1983-09-16 石英ガラスの製造方法 Pending JPS6065733A (ja)

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EP84900294A EP0131057B1 (en) 1982-12-23 1983-12-22 Process for producing quartz glass
GB08418301A GB2140408B (en) 1982-12-23 1983-12-22 Process for producing quartz glass
PCT/JP1983/000450 WO1984002519A1 (en) 1982-12-23 1983-12-22 Process for producing quartz glass
NLAANVRAGE8320410,A NL188795C (nl) 1982-12-23 1983-12-22 Werkwijze voor het vervaardigen van een kwartsglas.
DE19833390375 DE3390375T1 (de) 1982-12-23 1983-12-22 Verfahren zur Herstellung von Siliciumdioxidglas
US06/642,606 US4681615A (en) 1982-12-23 1983-12-22 Silica glass formation process
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SG395/88A SG39588G (en) 1982-12-23 1988-06-20 A process of forming silica glass
HK695/89A HK69589A (en) 1982-12-23 1989-08-31 A process of forming silica glass

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3623843A1 (de) * 1985-07-16 1987-01-22 Seiko Epson Corp Verfahren zur herstellung von quarzglas
WO2001047808A1 (fr) * 1999-12-28 2001-07-05 M. Watanabe & Co., Ltd. Procedes de production de particules de silice, de particules de quartz de synthese et de verre au quartz de synthese
JP2001192225A (ja) * 1999-12-28 2001-07-17 Watanabe Shoko:Kk 石英ガラスの製造方法

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