JPS6063822A - エナメル線焼付炉の炉温制御方法 - Google Patents
エナメル線焼付炉の炉温制御方法Info
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- JPS6063822A JPS6063822A JP17170683A JP17170683A JPS6063822A JP S6063822 A JPS6063822 A JP S6063822A JP 17170683 A JP17170683 A JP 17170683A JP 17170683 A JP17170683 A JP 17170683A JP S6063822 A JPS6063822 A JP S6063822A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明はエナメル線焼イ1炉の炉温制御方法に関し、特
に、熱風循環式エナメル線焼1」炉の炉温制御方法に係
わる。
に、熱風循環式エナメル線焼1」炉の炉温制御方法に係
わる。
[発明の技術的背景]
従来から、銅線、アルミ線などに絶縁塗t1を焼付けて
、電動モータ等に用いる絶縁?l!線を製造するための
熱風4ti環式エナメル線焼付炉が知られている。この
焼付炉は、第1図に示すように、電線走行路1の線入口
部2から繰出1】部3に向っC電線4が走行し、実線に
予じめ塗布されている焼fJ用ワニス(例えば、エステ
ル系、あるいはホルマリン系樹脂)の溶剤蒸発分を、ガ
スダンパー (開閉器)5から供給される燃焼用ガス(
例えばブタン)9のバーナ9aによる燃焼で高温とし、
触媒6により燃焼させ、ブロア7で高温ガスを走’(’
chis1を含むガス循環路内に図の矢印方向に循環さ
−けるものである。
、電動モータ等に用いる絶縁?l!線を製造するための
熱風4ti環式エナメル線焼付炉が知られている。この
焼付炉は、第1図に示すように、電線走行路1の線入口
部2から繰出1】部3に向っC電線4が走行し、実線に
予じめ塗布されている焼fJ用ワニス(例えば、エステ
ル系、あるいはホルマリン系樹脂)の溶剤蒸発分を、ガ
スダンパー (開閉器)5から供給される燃焼用ガス(
例えばブタン)9のバーナ9aによる燃焼で高温とし、
触媒6により燃焼させ、ブロア7で高温ガスを走’(’
chis1を含むガス循環路内に図の矢印方向に循環さ
−けるものである。
この炉において、前記の、エアー8の供給量(従って、
このエアー量に応じて供給されるガス9の供給量)を調
節するガスダンパー5の他に各所にダンパーが設けられ
ている。即ち、炉体上部に設けた排気ダンパー10は炉
体がら排気さJしる排気凰を調節するものである。
このエアー量に応じて供給されるガス9の供給量)を調
節するガスダンパー5の他に各所にダンパーが設けられ
ている。即ち、炉体上部に設けた排気ダンパー10は炉
体がら排気さJしる排気凰を調節するものである。
11は圧力室12を形成する圧力室ダンパーで、炉体か
らの熱風をシールするものである。ダンパー13は、蒸
発帯EZ1部に直接熱風を送るバイパスダンパーである
。また、14は硬化帯cZと蒸発帯EZに熱風を分流す
る分岐ダンパーで、これにより硬化帯と蒸発帯の風景が
変化し、焼イ」線の焼度に影響する。
らの熱風をシールするものである。ダンパー13は、蒸
発帯EZ1部に直接熱風を送るバイパスダンパーである
。また、14は硬化帯cZと蒸発帯EZに熱風を分流す
る分岐ダンパーで、これにより硬化帯と蒸発帯の風景が
変化し、焼イ」線の焼度に影響する。
これらのダンパー5.1o、1■、13,1・1の開度
を調節することにより、蒸発vjFEZ、硬化帯CZに
最適な温度づ)布を与え、電線に塗布されたワニスの焼
伺具合を決定することができる。
を調節することにより、蒸発vjFEZ、硬化帯CZに
最適な温度づ)布を与え、電線に塗布されたワニスの焼
伺具合を決定することができる。
このような温度力布を31i11’lするために、炉]
ドの各所に熱電対のような湿度レンザーから成る温度検
出点を設ける。即ち、硬化帯と蒸発帯に熱風を分流させ
る前の測定点16、炉体がらの熱風吹出しとダンパー1
1からの冷風の合流点にある測定点17、硬化帯中部の
測定点18、蒸発帯上部の測定点19、蒸発帯下部の測
定点2oである。
ドの各所に熱電対のような湿度レンザーから成る温度検
出点を設ける。即ち、硬化帯と蒸発帯に熱風を分流させ
る前の測定点16、炉体がらの熱風吹出しとダンパー1
1からの冷風の合流点にある測定点17、硬化帯中部の
測定点18、蒸発帯上部の測定点19、蒸発帯下部の測
定点2oである。
一般に、1つの炉は線径が0.6へ211N11φ程度
の多種の電線の焼付を行なうが、線速は線径によって異
なり、かつ炉は例えば2体1組で、11ドの炉において
例えば10組70本もの電線の焼イ]を同時に行なうが
、当然隣の炉の熱的影響を受()、しかも線径によって
、またワニスのUHfにょっCもガスの定常供給量も異
なる。
の多種の電線の焼付を行なうが、線速は線径によって異
なり、かつ炉は例えば2体1組で、11ドの炉において
例えば10組70本もの電線の焼イ]を同時に行なうが
、当然隣の炉の熱的影響を受()、しかも線径によって
、またワニスのUHfにょっCもガスの定常供給量も異
なる。
このような事情の下で、炉の温度分布をケ、えるために
、ガスダンパー5の開度の、lJを、炉体内の代表炉温
(測定点1Gの温度)が、経験的に得らitた所定値に
なるよう制御していたが、池の11ダンパーの開度は手
動により紅@値に固定されでいた。その結果、電線の焼
度を決定する硬化・jti’ C7゜の温度(測定点1
8の温度)、蒸光帯EZの;ムλ度(測定点19.20
の温度)、圧力室12の温度:(測定点17の温度)は
、次に述べるJ:うに種々の条件の違いにより作業毎に
変化するため、効1′良く、かっ線速の速い作業ができ
なかった。
、ガスダンパー5の開度の、lJを、炉体内の代表炉温
(測定点1Gの温度)が、経験的に得らitた所定値に
なるよう制御していたが、池の11ダンパーの開度は手
動により紅@値に固定されでいた。その結果、電線の焼
度を決定する硬化・jti’ C7゜の温度(測定点1
8の温度)、蒸光帯EZの;ムλ度(測定点19.20
の温度)、圧力室12の温度:(測定点17の温度)は
、次に述べるJ:うに種々の条件の違いにより作業毎に
変化するため、効1′良く、かっ線速の速い作業ができ
なかった。
(a)ワニスの種類が異なると、触媒による燃焼エネル
ギーが違うため、その差分をガス燃焼の燃焼量を変える
ことにより補っている。その結果、ガスバーナ9aから
供給する昇温用ガス星も変化するから、炉内の風量分布
が違ってきて、前述の各炉温も微妙に変ってくる。
ギーが違うため、その差分をガス燃焼の燃焼量を変える
ことにより補っている。その結果、ガスバーナ9aから
供給する昇温用ガス星も変化するから、炉内の風量分布
が違ってきて、前述の各炉温も微妙に変ってくる。
(b) #I径、線速が異なると、電線にイ」着するワ
ニス量が変わるため、ワニスに含まれる溶剤分も異なり
、触媒による燃焼エネルギーが変化し、前項と同じ現象
を生じる。
ニス量が変わるため、ワニスに含まれる溶剤分も異なり
、触媒による燃焼エネルギーが変化し、前項と同じ現象
を生じる。
(c)線径、線速の相異から、電線がイブうエネルギー
が変わるため、代表炉温(81!l定点]6)を同−設
定値で作業した鴨合、前述の各炉温か違ってくる。
が変わるため、代表炉温(81!l定点]6)を同−設
定値で作業した鴨合、前述の各炉温か違ってくる。
(d)炉の周囲温度の違い(例えば夏と冬)や、隣接炉
の操業状態(前記したように、通常この種の炉は製作費
削減のため、2体1組の抱き合わせに構成されている)
に因り、前述の各炉温か変ってくる。
の操業状態(前記したように、通常この種の炉は製作費
削減のため、2体1組の抱き合わせに構成されている)
に因り、前述の各炉温か変ってくる。
この場合1手動で人為的に各ダンパー開度を変え、各炉
温を調節しようとしても、ダンパーの操作量(開度)と
炉温(制御爪)変化が定量的に把握できないこと、およ
び各ダンパーが名炉温す/くてに少なからず影響を及ぼ
して相互に干渉することにより、最適の炉温分布を得る
ことは非常にm鎧であった。このため、効率良く高線速
で運転することが難かしいという欠点があった。
温を調節しようとしても、ダンパーの操作量(開度)と
炉温(制御爪)変化が定量的に把握できないこと、およ
び各ダンパーが名炉温す/くてに少なからず影響を及ぼ
して相互に干渉することにより、最適の炉温分布を得る
ことは非常にm鎧であった。このため、効率良く高線速
で運転することが難かしいという欠点があった。
[発明の目的]
本発明は叙−にの難点を解消するためになされたもので
、炉体内の主要温度点毎に、それに最も影響を及ぼすダ
ンパーを決定し、同音にそれぞれ1対1の制御系を構成
すると共に2名制御゛系のダンパーの制御開始を各炉温
条件などに従い順序立てて制御系が相互に干渉しないよ
)にすることにより、温度分布が安定した操業が常時ロ
エ能となり、かつ品質が向上し、線速を高めることがで
きるタヘ風Wi環式エナメル線焼付炉の炉温制御方法を
Ifl (Rせんとするものである゛。
、炉体内の主要温度点毎に、それに最も影響を及ぼすダ
ンパーを決定し、同音にそれぞれ1対1の制御系を構成
すると共に2名制御゛系のダンパーの制御開始を各炉温
条件などに従い順序立てて制御系が相互に干渉しないよ
)にすることにより、温度分布が安定した操業が常時ロ
エ能となり、かつ品質が向上し、線速を高めることがで
きるタヘ風Wi環式エナメル線焼付炉の炉温制御方法を
Ifl (Rせんとするものである゛。
[発明の好ましい実施例]
以下、本発明の好ましい実施例を図面を参照して詳述す
る。
る。
先ず、本実施例では、第1図に示す各ダンパー5.10
.11.13.14はそれぞれステッピングモータM5
.MIO,Ml ]、M+ 3、M】4によりその開度
が調節され、かつ点12.1G、17.18.19.2
0に熱電対のような湿度センサーが設置されている。各
ステッピングモータは入力信号(実線で示す)が印加さ
扛、かつ出力信号(点線で示す)が発生される。また、
各温度センサーからは出力信号が生起さ4しる。こAt
らの信号はI10コン1〜ローラ25でAID変換され
てCPU26 (ヒューレットパッカード社製II +
)−、j 000Mシリーズ)へ係船され、そこで;j
1算、制(卸された信号が、再びコン1−ローラ25で
l) / A変換されて各ダンパーのステッピングモー
タノ\印加される。
.11.13.14はそれぞれステッピングモータM5
.MIO,Ml ]、M+ 3、M】4によりその開度
が調節され、かつ点12.1G、17.18.19.2
0に熱電対のような湿度センサーが設置されている。各
ステッピングモータは入力信号(実線で示す)が印加さ
扛、かつ出力信号(点線で示す)が発生される。また、
各温度センサーからは出力信号が生起さ4しる。こAt
らの信号はI10コン1〜ローラ25でAID変換され
てCPU26 (ヒューレットパッカード社製II +
)−、j 000Mシリーズ)へ係船され、そこで;j
1算、制(卸された信号が、再びコン1−ローラ25で
l) / A変換されて各ダンパーのステッピングモー
タノ\印加される。
次に、かかる各ダンパーの開度を調節して炉体に最適な
温度分布を与える炉温制御について説明する。
温度分布を与える炉温制御について説明する。
先ずダンパーと主要温度点の相関関係を実測によりめ、
各ダンパーにより最も影響を受1−Jる各温度点を決定
する。そして、両者にそれぞれI対■のPID制御系を
構成する。
各ダンパーにより最も影響を受1−Jる各温度点を決定
する。そして、両者にそれぞれI対■のPID制御系を
構成する。
即ち、第2図、(a)、 (b)に示す如く、(A)ガ
スダンパー5の開度を、炉体内の代表炉温(測定点16
の温度)がワニス焼f1可能な設定湿度(例えば460
℃)になるよう制御する。
スダンパー5の開度を、炉体内の代表炉温(測定点16
の温度)がワニス焼f1可能な設定湿度(例えば460
℃)になるよう制御する。
(B)排気ダンパー10の開度を、蒸発帯ト;Zの下部
の温度(測定点20の温度)が設定値になるよう制御す
る。
の温度(測定点20の温度)が設定値になるよう制御す
る。
(C)圧力室ダンパー11の開度を、圧力室12の温度
(測定点17の温度)が(A)の炉温に比例あるいは対
応した所定値17a(第2図(C))になるよう制御す
る。
(測定点17の温度)が(A)の炉温に比例あるいは対
応した所定値17a(第2図(C))になるよう制御す
る。
この制御は、後記(G)の如く、(A)の炉温とタイミ
ングがとられ、例えば、炉温が390 ”Cになったと
き制御開始され、圧力室12の温度(ill定点17の
温度)の前記所定値は、炉Uが390−・460℃に変
化するのに応じて60〜80℃へそれぞれ対応して設定
される。
ングがとられ、例えば、炉温が390 ”Cになったと
き制御開始され、圧力室12の温度(ill定点17の
温度)の前記所定値は、炉Uが390−・460℃に変
化するのに応じて60〜80℃へそれぞれ対応して設定
される。
(D)分岐ダンパー14の開度を、硬化帯C7,の温度
(測定点18の温度)が設定値になるよう制御する。
(測定点18の温度)が設定値になるよう制御する。
(E)バイパスダンパー13の開度を、蒸発;RF E
Zの上部の温度(測定点19の温度)が設定値となるよ
うに制御する。
Zの上部の温度(測定点19の温度)が設定値となるよ
うに制御する。
Δ〜Eの1対1のPIL)制御は、下記のようにその制
御開始のタイミングを炉温条件などにより順序立てて規
制することにより、各制御系相互の干渉を防止する。
御開始のタイミングを炉温条件などにより順序立てて規
制することにより、各制御系相互の干渉を防止する。
(F)ガスダンパー5は運転開始時から制御する。
(G)圧力室ダンパー11は(^)の炉温か設定温度よ
り低い所定値、例えば炉温設定値が460°(二である
場合は、その85%にあたる約390℃に達した後に制
御する。圧力室の温度(測定点17の湿度)の制御を当
初から開始すると、連邦運転時の設定値より、測定点で
の実測呟が低いため、プレッシャー効果を弱める方向に
制御され、炉体内の熱風が圧力室12より吹き抜は気味
になってエネルギーロスとなる。こJしを防止するため
に、炉温(測定点16の温度)が紙い場合は、操作g、
p炉温に比べて低い度合に応じて、当該圧力室の設定温
度17aも下げて制御される(第2図(C))。その後
、炉温(測定点16の温度)に比例して、圧力室の設定
温度を上昇させる。なお、圧力室ダンパ・−11の制御
開始を、設定炉温の85 % (J’近とするのは、あ
まりに炉温が低過ぎると、圧力室温度も低いため、精度
の良い制御ができないからであるる。
り低い所定値、例えば炉温設定値が460°(二である
場合は、その85%にあたる約390℃に達した後に制
御する。圧力室の温度(測定点17の湿度)の制御を当
初から開始すると、連邦運転時の設定値より、測定点で
の実測呟が低いため、プレッシャー効果を弱める方向に
制御され、炉体内の熱風が圧力室12より吹き抜は気味
になってエネルギーロスとなる。こJしを防止するため
に、炉温(測定点16の温度)が紙い場合は、操作g、
p炉温に比べて低い度合に応じて、当該圧力室の設定温
度17aも下げて制御される(第2図(C))。その後
、炉温(測定点16の温度)に比例して、圧力室の設定
温度を上昇させる。なお、圧力室ダンパ・−11の制御
開始を、設定炉温の85 % (J’近とするのは、あ
まりに炉温が低過ぎると、圧力室温度も低いため、精度
の良い制御ができないからであるる。
(11)分岐ダンパー14は、ワニス塗布後の触媒によ
る燃焼が安定した後に開始する。その判定゛ト段として
は、炉温(測定点16の温度)−の昇温カーブ勾配が緩
やか(例えば、第2回(a)において2.5℃/分以下
)になった時点を用いることができ、また、簡易的に当
該時点までの時間で判断してもよい。
る燃焼が安定した後に開始する。その判定゛ト段として
は、炉温(測定点16の温度)−の昇温カーブ勾配が緩
やか(例えば、第2回(a)において2.5℃/分以下
)になった時点を用いることができ、また、簡易的に当
該時点までの時間で判断してもよい。
(I)排気ダンパー10は、(11)の分岐ダンパー1
4の制御が開始されてから硬化帯CZの温度(測定点1
8の温度)がその設定値に近接(例えば設定値の±10
℃)した後に制御する。
4の制御が開始されてから硬化帯CZの温度(測定点1
8の温度)がその設定値に近接(例えば設定値の±10
℃)した後に制御する。
U)バイパスダンパー13は、(i)の排気ダンパーI
Oの制御が開始されてから蒸発帯E Zの下部の温度(
測定点20の温度)がその設定値に近接(例えば設定値
の±10℃)した後に制御する。
Oの制御が開始されてから蒸発帯E Zの下部の温度(
測定点20の温度)がその設定値に近接(例えば設定値
の±10℃)した後に制御する。
これらのA〜Eの制御およびF−Jの制御開始の判断は
CPU26を用いて行なわれる。
CPU26を用いて行なわれる。
なお、バイパスダンパー13は、蒸発帯1ΣZの温度(
測定点19および2oの温度)、特にその上部の温度(
測定点19の温度)を制御する場合に必要なものである
。
測定点19および2oの温度)、特にその上部の温度(
測定点19の温度)を制御する場合に必要なものである
。
[発明の効果]
以上の実施例からも明らかなように1本発明の炉温制御
方法によILば、炉体内の主要温度点毎に、それぞれ最
も影響を及ぼずダンパーを決定し1両者にそれぞJbl
対1の制御系を構成し、かつ各1対1の制御系のダンパ
ーの制御開始を各炉温条(′I:などに従って段階的に
シーケンスをもって実4iすることから、電線を焼付け
るのに理想的な炉温分布が得られ、常に安定した炉温を
形成できるため安定した焼付が得られて品質を向」4せ
しめることが可能である。また、条件の違いによって各
炉温に対して常に同一状態の安定した炉温および温度公
布が形成できるから、線速を高速化でき生産性も向上す
る。さらに、品種の違いによる各炉ム1設定の相異に対
しても、迅速に対処できるから、力T温設定に要する時
間を大幅に節約できる。
方法によILば、炉体内の主要温度点毎に、それぞれ最
も影響を及ぼずダンパーを決定し1両者にそれぞJbl
対1の制御系を構成し、かつ各1対1の制御系のダンパ
ーの制御開始を各炉温条(′I:などに従って段階的に
シーケンスをもって実4iすることから、電線を焼付け
るのに理想的な炉温分布が得られ、常に安定した炉温を
形成できるため安定した焼付が得られて品質を向」4せ
しめることが可能である。また、条件の違いによって各
炉温に対して常に同一状態の安定した炉温および温度公
布が形成できるから、線速を高速化でき生産性も向上す
る。さらに、品種の違いによる各炉ム1設定の相異に対
しても、迅速に対処できるから、力T温設定に要する時
間を大幅に節約できる。
第1図は本発明によるエナメル線焼付炉の炉温制御方法
に用いられる制御系の説明図、第2図(a)(b)、
(c)はそれぞれ該制御系にJ′iけるが温、グンパー
開度、圧力室部設定温度の時間に対する))ラフであφ
。 − ■・・・・・・・走y路 4・・・・・・・電線 6・・・・・・・触媒 7・・・・・・・ブロア 9a・・・・・・・バーナ 5・・・・・・・ガスダンパー IO・・・・・・・排気ダンパー 11・・・・・・・圧力室ダンパー 13・・・・・・・バイパスダンパー 14・・・・・・・分岐ダンパー EZ・・・・・・・蒸発帯 CZ・・・・・・・硬化帯 16・・・・・・・測定点(代表炉温)17・・・・・
・・測定点(圧力室の温度)18・・・・・・・測定点
(硬化帯の温度)19・・・・・・・測定点(蒸発帯上
部の温度)20・・・・・・・測定点(蒸発帯下部の温
度)代理人 弁理士 守 谷 −t11
に用いられる制御系の説明図、第2図(a)(b)、
(c)はそれぞれ該制御系にJ′iけるが温、グンパー
開度、圧力室部設定温度の時間に対する))ラフであφ
。 − ■・・・・・・・走y路 4・・・・・・・電線 6・・・・・・・触媒 7・・・・・・・ブロア 9a・・・・・・・バーナ 5・・・・・・・ガスダンパー IO・・・・・・・排気ダンパー 11・・・・・・・圧力室ダンパー 13・・・・・・・バイパスダンパー 14・・・・・・・分岐ダンパー EZ・・・・・・・蒸発帯 CZ・・・・・・・硬化帯 16・・・・・・・測定点(代表炉温)17・・・・・
・・測定点(圧力室の温度)18・・・・・・・測定点
(硬化帯の温度)19・・・・・・・測定点(蒸発帯上
部の温度)20・・・・・・・測定点(蒸発帯下部の温
度)代理人 弁理士 守 谷 −t11
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、炉体内に形成される電線の走行路と、燃焼用ガスを
燃焼させるバーナと、前記電線に予じめ塗布されている
ワニスの溶剤蒸発分を前記バー・l゛により高温として
燃焼させる触媒と、こうして形成される高温ガスを前記
走行路を含むガス循環IWI内に循環させるブロアど、
前記燃焼用ガスの倶給量を調節するガスダンパーと、炉
体がらtJl′気される排気員を調節す°る排気ダンパ
ーと、前記走行y8に形成される蒸発帯および硬Cヒイ
IFに熱風を分流する分岐ダンパーと、炉体からの熱風
をシールする圧力室ダンパーとを備え、これらのダンパ
ーの開度を調節することにより前記蒸発帯および硬1し
帯に最適な温度分布を与える熱風循環式エナメル線焼付
炉 パーの開度を、炉体内の代表炉温がワニス焼rJ可能な
設定温度になるよう炉の運転Un !lh時から制御し
、前記圧力室ダンパーの開度を、前記炉温が前記ワニス
塗布可能な設定温度より低い所定値に達した後に、圧力
室の温度が前記炉温に対応した所定値になるよう制御し
、前記分岐ダンパーの開度を、前記ワニス塗布後の触媒
による燃焼が安定した後に、前記硬化帯の温度が設定値
になるように制御し、前記排気ダンパーの開度を、前記
分岐ダンパーの制御が開始されてから硬化、it(の温
度がその設定値に近接した後に、前記蒸発帯の下部の温
度が設定値となるよう制御することを特徴どする熱風循
環式エナメル線焼付炉の炉温制御方法。 2、前記蒸発帯の上部に直接熱風を送るバイパスダンパ
ーの開度を、前記排気ダンパーの制御が開始されてから
蒸発帯の下部の温度がその設定値に近接した後に、前記
蒸発帯の」二部の温度が設定値になるよう制御すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエナメル線焼
伺炉の炉温制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17170683A JPS6063822A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | エナメル線焼付炉の炉温制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17170683A JPS6063822A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | エナメル線焼付炉の炉温制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6063822A true JPS6063822A (ja) | 1985-04-12 |
Family
ID=15928164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17170683A Pending JPS6063822A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | エナメル線焼付炉の炉温制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6063822A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7200289B2 (en) | 2000-03-15 | 2007-04-03 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical waveguide modulator with output light monitor |
JP2007093717A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光変調器及びその制御方法 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17170683A patent/JPS6063822A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7200289B2 (en) | 2000-03-15 | 2007-04-03 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical waveguide modulator with output light monitor |
US7359581B2 (en) | 2000-03-15 | 2008-04-15 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical waveguide modulator with output light monitor |
US7532778B2 (en) | 2000-03-15 | 2009-05-12 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical waveguide modulator equipped with an output light monitor |
JP2007093717A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光変調器及びその制御方法 |
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