JPS606352B2 - トランス‐4‐アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エステル類 - Google Patents

トランス‐4‐アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エステル類

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JPS606352B2
JPS606352B2 JP13268376A JP13268376A JPS606352B2 JP S606352 B2 JPS606352 B2 JP S606352B2 JP 13268376 A JP13268376 A JP 13268376A JP 13268376 A JP13268376 A JP 13268376A JP S606352 B2 JPS606352 B2 JP S606352B2
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acid
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hydrochloride
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政宏 鎌田
雅隆 三村
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(1) (式中、R,は低級アルキル基、ハロゲン置換低級アル
キル基、フェニル基、低級アルコキシ基又はアミノ基を
示し、R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルキル
カルボニル基または低級アルコキシカルボニル基を示す
)で示される新規なトランス−4ーアミノメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸ェステル類又はその酸付加塩に関す
る。
一般式(1)で示される化合物はトランス−4ーアミノ
メチルシクロヘキサンカルボン酸クロライド塩酸塩と一
般式(ロ)(式中、R,、R2は前記に同じ。
)で示される新規化合物4−ヒドロキシフェニルプロピ
オン酸ェステル類とを反応させることによって得られる
。一般式(1)で示される本願化合物は優れた抗濃場作
用を有するトランス−4−アミノメチルシクロヘキサン
カルボン酸−4′一(2ーカルポキシエチル)フェニル
ェステル(式(N)で表わされ る化合物、以下、C
EPェステルと称す。)の製造原料として極めて重要な
化合物であることが見出された。即ち、一般式(1)で
示される化合物を中性あるいは塩基性で加水分解するこ
とにより、分子内の二個のヱステル部分のうち末端カル
ボン酸ェステル部分のみが特異的に加水分解され、CE
Pェステルが高収率かつ容易に製造されるのである。従
釆、CEPェステルの製造としては i)トランス−4ーアミノメチルシクロヘキサカルボン
酸を一方の原料とし、これの4位のアミノメチル基をペ
ンジルオキシカルボニル基で保持するか、或は保護する
ことなく塩素化し、酸クロリド体となし、これと4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオン酸ペンジルェステルを縮合
し、得られるトランス−4一Nーベンジルオキシカルボ
ニルアミノメチルシクロヘキサンカルポン酸−4′一(
2″ーベンジルオキシカルポニルヱチル)フェニルェス
テル塩酸塩又はトランス−4ーアミノメチルシクロヘキ
サンカルポン酸一4一(2″ーベンジルオキシカルポニ
ルエチル)フェニルェステル塩酸塩を接触還元に付し、
保護基を脱離ごせて製する方法(特公昭46一1995
ぴ号公報及び特関昭48一75547号公報参照)およ
びii)トランス一4ーアミノメチルシクロヘキサンカ
ルボン酸クロリド塩酸塩と4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオン酸第三級ブチルェステルを縮合し、得られるトラ
ンス一4ーアミノメチルシクロヘキサンカルボン酸−4
′−(2″−t−ブトキシカルボニルェチル)フェニル
ェステル塩酸塩をハロゲン化水素−酢酸で処理し、保護
基を脱離させて製する方法(特関昭48−78143号
公報参照)がある。
しかしながら、i)の方法は脱保護基工程に於て高価な
パラジウム触媒を使用する等の難点があり、又、ii)
の方法では、保護基となる第三級プチルェステル化工程
および脱保護基工程が繁雑である等の欠点を有する。
以上の様に、特殊な脱保護基方法を採用しなければなら
ない理由はCEPェステルのフェニルェステル部分の結
合が極めて弱いことに起因し、通常の加水分解方法を適
用した場合に、末端カルボン酸の保護ェステル部分より
フェニルェステル部分がはるかに優先し切断されるため
である。例えば、トランス−4ーアミノメチルシクロヘ
キサンカルボン酸クロリド塩酸塩と4ーヒドロキシフェ
ニルプロピオン酸の通常のアルキルェステルとの縮合に
より得られるトランス−4ーアミノメチルシクロヘキサ
ンカルボン酸−4′−(2″−アルコキシカルポニルエ
チル)フエニルエステルは水溶液中塩基の存在下、処理
すれば速やかにそのフェニルェステル結合が優先して切
断され、トランス一4ーアミノメチルシクロヘキサンカ
ルボン酸と4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸および
そのアルキルェステルが生成し、CEPェステルは取得
することは出来ない。
従って、本発明者らはCEPヱステル製造原料(CEP
ェステルの前駆体)としてその分子中のフェニルェステ
ル部よりも加水分解されやすい末端カルボン酸ェステル
部を有する化合物を種々探索した結果、トランス−4ー
アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩
と一般式(ロ)に示される4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオン酸ェステル類を縮合して得られる一般式(1)で
示される化合物がこの目的を満足するものであることを
発見した。
即ち、一般式(1)で示される化合物は、単に緩和な加
水分解反応に付することにより、特異的にかつ容易に末
端カルボン酸の保護ェステル部分のみ加水分解され、高
収率でCEPェステルを得ることのできる極めて有用な
CEPェステルの工業的製造の中間体である。以下、更
に発明について詳述する。本発明化合物の製造は、トラ
ンス−4ーアミノメチルシクロヘキサンカルポン酸クロ
リド塩酸塩と一般式(0)で示される4ーヒドロキシフ
ェニルプロピオン酸ェステル類を適当な溶媒中、加温縮
合せしめることによって達成される。
ここに用いられる原料化合物(0)は新規化合物である
が、4ーヒドロキシフヱニルプロピオン酸と式(m)(
式中、Xはハロゲン原子を表わし、R,、R2は前記に
同じ。
)で示されるハロゲン化物から常法に従って容易に高収
率で製造することが出釆る。本願化合物(1)を製造す
るために用いられる溶媒は反応を妨げないものであれば
特に制限はなく、例えば、塩化エチレン、1・1・1ー
トリクロルエタン、1・1・2ートリクロルエタン、ク
ロロホルム、ベンゼン、トルェン又はジオキサン等が使
用される。反応温度は30〜11び○の範囲から選ばれ
、通常は50〜8ぴ0が好適である。以上の条件で反応
を行なった後、目的化合物(1)は通常の手段により反
応混合物から分離され、高収率で製造することが出釆る
。このように本発明にかかる目的化合物(1)は安価に
入手し得る原料化合物より、容易にかつ安価に製造され
、かっここに得られた目的化合物(1)は単に緩和な加
水分解反応に付することによって簡単かつ安価にCEP
ヱステルに導くことが出来る。
次に本発明を実施例によって説明する。
参考例 4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸49.9夕をジメ
チルホルムアミド160泌に溶解し、室温で炭酸カリウ
ム21.8夕を加え、60午Cに加溢しモノクロルアセ
トン29.1夕を滴下し、80〜90qoで1時間反応
する。
反応液よりDMFを蟹去し、残笹を塩化エチレンに溶解
、水を加えて洗浄、塩化エチレン層を分液、溶媒を留去
すれば4−ヒドロキシフェニルプロピオン酸ァセトニル
ェステル64.7夕(97%)を得る。本品をィソプロ
ピルェーテルより再結晶し、融点64.?0の無色結晶
を得る。元素分析値 C,2日,404理論値 C 6
4.8ふ 日 6.35 実験値 C 64.9玖 日 6.39 同様にして他の原料化合物(ロ)も製造される。
これらの融点および元素分析値を第一表に示す。第一表
原料化合物(U)の融点および元素分析値実施例 1
4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸アセトニルェステ
ル63.3夕とトランス−4ーアミノ基メチルシクロヘ
キサンカルボン酸クロリド塩酸塩60.4夕を塩化エチ
レン260地中、60〜70℃で2.期時間燈梓下に反
応後、析出晶を猿取.乾燥し、トランス−4リアミノメ
チルシクロヘキサンカルボン酸−4′一(2″−アセト
ニルオキシカルボニルエチル)フェニルェステル塩酸塩
10545夕(93.1%)を得る。
このものを含水インプロピルアルコールから再結晶し、
分解点19ぴ○の無色結晶を得る。元素分析値 C2幻
28NQCI理論値 C 60.37、日 7.09、
N 3.52、CI8.91実験値 C 60.4ふ
日 7.02、N 3.61、CI9.04又、本品を
水に溶解し、室温で希重炭酸ナトリウム水溶液を用いて
中和し、析出晶を、樋取し、含水メタノールから再結晶
すれば分解点144ooの遊離のトランス−4−アミノ
メチルシクロヘキサンカルボン酸−4−(2″ーアセト
ニルオキシカルボニルェチル)フェニルェステルを得る
元素分析値 C2虹27NQ 理論値 C 66.40 日 7.53 N 3.88
実験値 C 66.34 日 7.34 N 3.98
実施例 24−ヒドロキシフェニルプロピオン酸Q−メ
チルアセトニルヱステル8.50夕とトランス一4ーア
ミノメチルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩6
.37夕を塩化エチレン50地中65〜70ooで3.
5時間縄梓下に反応する。
反応後、溶媒を留去し、残澄をインプロピルアルコール
から再結晶すれば分解点1870のトランス−4−アミ
ノメチルシクロヘキサンカルボン酸−4′ー〔2″−(
Q−メチルーアセトニルオキシカルボニル)エチル〕フ
ヱニルェステル塩酸塩9.74夕(78.7%)を得る
。元素分析値 C2,モチ3ぶQCI理論値 C 61
.23 日 7.34、N 3.40、CI8.61実
験値 C 61.20 日 7.29、N 3.46、
CI8.64実施例 3 4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸Qーアセチルアセ
トニルエステル15.86夕とトランス一4ーアミノメ
チルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩10.6
0夕を塩化エチレン50の【中、65〜70℃で3時間
燈梓下に反応する。
反応後、溶媒を留去し、残簿にエーテルを加え析出晶を
櫨取、乾燥し、トランス−4ーアミノメチルシクロヘキ
サンカルボン酸−4′一〔2″−(Qーアセチルーアセ
トニルオキシカルボニル)エチル〕フエニルエステル塩
酸塩21.M(95.5%)を得る。このものをィソプ
ロルアルコールから再結晶し、分解点144qoの淡黄
色の結晶を得る。元素分析値 C22日3ぷ06CI 理論値 C 60.00 日 6.87、N 3.18
、CI8.06実験値 C 59.9i 日 6.80
、N 3.46、CI8.09実施例 4 4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸Q−ェトキシカル
ポニルーアセトニルエステル17.70夕とトランス−
4−アミノメチルシクロヘキサンカルポン酸クロリド塩
酸塩10.60夕を塩化エチレン50の上中、65〜7
0qoで3時間蝿梓下に反応する。
反応後「溶媒を留去し、残澄にエーテルを加え析出晶を
濃取する。得られた結晶をィソプロピルアルコールーn
ーヘキサンから再結晶し、分解点14qoのトランス一
4ーアミノメチルシクロヘキサンカルボン酸−4′一〔
2″−(Qーェトキシカルポニル−アセトニルオキシカ
ルボニル)エチル〕フエニルェステル塩酸塩17.05
夕「(72.6%)を得る。元素分析値 C23日32
N07CI理論値 C 58.7& 日 6.86、N
2.98、CI7.54実験値 C 58.62、日
6.機、N 2.斑、CI7.44実施例 5 4−ヒドロキシフェニルプロピオン酸y−クロルーアセ
トニルエステル1.80夕とトランス−4ーアミノメチ
ルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩1.48夕
を塩化エチレン10肌中、65〜70ooで3時間燈投
下に反応する。
反応後析出晶を猿取、乾燥し、トランス−4−アミノメ
チルシクロヘキサンカルボン酸−4′一〔2″一(ソ−
クロルアセトニルオキシカルボニル)エチル〕フエニル
エステル塩酸塩2.62夕(86.8%)を得る。この
ものを含水インプロピルアルコールから再結晶し、分解
点200q0の無色結晶を得る。元素分析値 C2虹2
7NQC12 理論値 C 55.50 日 6.29、N 3.24
、CI16.40実験値 C 55.63 日 6.2
0、N 3.44、CI16.17実施例 6 4−ヒドロキシフェニルプロピオン酸フェナシルエステ
ル12.0夕とトランス−4−アミノメチルシクロヘキ
サンカルボン酸クロリド塩酸塩8.49夕を塩化エチレ
ン50の【中、実施例1と同様に反応処理し、トランス
−4ーアミノメチルシクロヘキサンカルボン酸−4′一
(2″ーフェナシルオキシカルボニルェチル)フヱニル
ェステル塩酸塩16.09夕(87.4%)を得る。
このものを水から再結晶し、分解点205qoの無色結
晶を得る。元素分析値 C2虹3ぶQCI 理論値 C 65.2& 日 6.57、N 3.05
、CI7‐71実験値 C 65.22、日 6.49
、N 3.00、CI7.45実施例 7 4−ヒドロキシフェニルブロピオン酸カルバミルメチル
エステル2.23夕とトランス一4−アミ/メチルシク
ロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩2.11夕をジオ
キサン30の‘中、75〜80qoで1.虫時間蝿梓下
に反応する。
反応後析出後を櫨取、乾燥し、トランス一4ーアミノメ
チルシクロヘキサンカルボン酸−4′一(2″ーカルバ
ミルメチルオキシカルボニルェチル)フェニルェステル
塩酸塩2.80夕(70.5%)を得る。このものをメ
タノールから再結晶し、分解点24〆○の無色結晶を得
る。元素分析値 C,幻27N205CI理論値 C
57.21、日 6.82、N 7.02、CI8.8
9実験値 C 57.02、日 6.74、N 7.0
1、CI9.16実施例 8 4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸メトキシカルポニ
ルメチルエステル4.76夕とトランス−4−アミノメ
チルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩4.23
夕を塩化エチレン30舷中、実施列3と同機に反応処理
し、トランス−4−アミノメチルシクロヘキサンカルボ
ン酸−4′一(2″ーメトキシカルボニルメチルオキシ
カルボニルエチル)フェニルェステル塩酸塩7.30夕
(88.5%)を得る。
このものをェタ/ールから再結晶し、分解点1擬℃の無
色結晶を得る。元素分析値 C2虹28N06CI 理論値 C 58.04 日 6.82、N 3.38
、CI8.57実験値 C 58.12、日 6.87
、N 3.33、CI8.35実施例 9 4ーヒドロキシフェニルプロピオン酸ジェトキシカルボ
ニルメチルエステル10.8夕とトランス−4ーアミノ
メチルシクロヘキサンカルボン酸クロリド塩酸塩6.3
6夕を塩化エチレン30地中、実施例3と同様に反応処
理し、トランス−4ーアミノメチルシクロヘキサンカル
ボン酸−4′ー(2″−ジエトキシカルボニルメチルオ
キシカルボニルエチル)フェニルェステル塩酸塩12.
7夕(84.7%)を得る。
このものをインプロピルアルコールから再結晶し、融点
131℃の無色結晶を得る。元素分析値 C24日34
NQCI

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は低級アルキル基、ハロゲン置換低級ア
    ルキル基、フエニル基、低級アルコキシ基又はアミノ基
    を示し、R_2水素原子、低級アルキル基、低級アルキ
    ルカルボニル基または低級アルコキシカルボニル基を示
    す)で示される化合物およびその酸付加塩。
JP13268376A 1976-11-04 1976-11-04 トランス‐4‐アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エステル類 Expired JPS606352B2 (ja)

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JP13268376A JPS606352B2 (ja) 1976-11-04 1976-11-04 トランス‐4‐アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エステル類
BE187370A BE866680A (fr) 1976-11-04 1978-05-03 Procede de preparation de trans-4-aminomethylcyclohexane-carboxylate de 4'-(2-carboxyethyl)phenyl ou de ses sels d'addition d'acides et produits intermediaires pour leur preparation

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6273647U (ja) * 1985-10-28 1987-05-12

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