JPS606222U - 真空処理装置 - Google Patents

真空処理装置

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JPS606222U
JPS606222U JP9920583U JP9920583U JPS606222U JP S606222 U JPS606222 U JP S606222U JP 9920583 U JP9920583 U JP 9920583U JP 9920583 U JP9920583 U JP 9920583U JP S606222 U JPS606222 U JP S606222U
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JP
Japan
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processing equipment
vacuum processing
processing chamber
leak
pressure
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JP9920583U
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Inventor
栄一 星野
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富士通株式会社
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Publication date
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の真空処理装置を示す構成図、第２図は本
考案の一実施例である真空処理装置を示す構成図である
。 図中、１．１１・・・・・・チャンバ、２．１２・・・
・・・第１ポンプ、３．１３・・・・・・第２ポンプ、
４・・・・・・排気導管、１４・・・・・・排気系、１
５・・・・・・リーク系、１６・・・・・・導入口、１
７・・・・・・遮蔽板、１８・・・・・・支柱。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 処理室を真空排気する排気系と大気圧下に戻すリーク系
    とが該処理室に連結し、該リーク系の導入口近傍に遮蔽
    板を設はリーク流を拡散させるようにしたことを特徴と
    する真空処理装置。
JP9920583U 1983-06-27 1983-06-27 真空処理装置 Granted JPS606222U (ja)

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JP9920583U JPS606222U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 真空処理装置

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JP9920583U JPS606222U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS606222U true JPS606222U (ja) 1985-01-17
JPH0513002Y2 JPH0513002Y2 (ja) 1993-04-06

Family

ID=30235203

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JP9920583U Granted JPS606222U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 真空処理装置

Country Status (1)

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JP (1) JPS606222U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02184333A (ja) * 1989-01-12 1990-07-18 Tokyo Electron Ltd ロードロック装置を備えた処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02184333A (ja) * 1989-01-12 1990-07-18 Tokyo Electron Ltd ロードロック装置を備えた処理装置

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Publication number Publication date
JPH0513002Y2 (ja) 1993-04-06

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