JPS60122360U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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Publication number
JPS60122360U
JPS60122360U JP1012884U JP1012884U JPS60122360U JP S60122360 U JPS60122360 U JP S60122360U JP 1012884 U JP1012884 U JP 1012884U JP 1012884 U JP1012884 U JP 1012884U JP S60122360 U JPS60122360 U JP S60122360U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
gas
sputtering apparatus
partial pressure
pressure gauge
Prior art date
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Pending
Application number
JP1012884U
Other languages
English (en)
Inventor
加藤　重和
行正　亨
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立製作所 filed Critical 株式会社日立製作所
Priority to JP1012884U priority Critical patent/JPS60122360U/ja
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Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は、従来のスパッタリング装置の構
成ブロック図、第３図は、本考案によるスパッタリング
装置の一実施例を示す構成ブロック図である。 １・・・・・・真空室、３′・・・・・・主排気系、３
０・・・・・・可変コンデンクタンス弁、３２・・・・
・・高真空ポンプ、４・・・・・・ガス導入系、４０・
・・・・・ガス流量制御装置、５・・・・・・ガス分圧
計。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空室に連結される主排気系をコンダクタンス可変のバ
    ルブと高真空ポンプとで構成し前記真空室にガス分圧計
    を設けると共に、該ガス分圧計を前記真空室に連結され
    るガス導入系を構成するガス流量制御装置と前記バルブ
    とにそれぞれ接続したことを特徴とするスパッタリング
    装置。
JP1012884U 1984-01-30 1984-01-30 スパツタリング装置 Pending JPS60122360U (ja)

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JP1012884U JPS60122360U (ja) 1984-01-30 1984-01-30 スパツタリング装置

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JPS60122360U true JPS60122360U (ja) 1985-08-17

Family

ID=30491023

Family Applications (1)

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JP1012884U Pending JPS60122360U (ja) 1984-01-30 1984-01-30 スパツタリング装置

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JP (1) JPS60122360U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62274065A (ja) * 1986-05-23 1987-11-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 薄膜形成装置
JPS63248465A (ja) * 1987-04-02 1988-10-14 Toshiba Corp 低圧プラズマ溶射用容器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62274065A (ja) * 1986-05-23 1987-11-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 薄膜形成装置
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