JPS6061920A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6061920A JPS6061920A JP17069783A JP17069783A JPS6061920A JP S6061920 A JPS6061920 A JP S6061920A JP 17069783 A JP17069783 A JP 17069783A JP 17069783 A JP17069783 A JP 17069783A JP S6061920 A JPS6061920 A JP S6061920A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- surface roughness
- magnetic recording
- nonmagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
この発明は、フロッピーディスクや各種磁気テープに用
いられる磁気記録媒体に係わり、特に記録磁性層に強磁
性金属薄膜を用いた磁気記録媒体に関する。
いられる磁気記録媒体に係わり、特に記録磁性層に強磁
性金属薄膜を用いた磁気記録媒体に関する。
[発明の技術的背景とその問題点コ
近年、パーソナルコンピュータ等の進歩に伴って磁気記
録装置をはじめとする情報記録装置には記録密度のより
一層の向上が要求されようになっており、そのために多
くの試みがなされている。
録装置をはじめとする情報記録装置には記録密度のより
一層の向上が要求されようになっており、そのために多
くの試みがなされている。
磁気記録媒体の記録磁性層に強磁性金属薄膜を用いて磁
気記録媒体自体の高密度化を図ることは、特に有望な手
段の一つである。
気記録媒体自体の高密度化を図ることは、特に有望な手
段の一つである。
ところが、このような強磁性金属薄膜を用いた高密度磁
気記録媒体は、媒体自身およびこれに当接する磁気ヘッ
ドが摩耗・損傷を生じ易いという欠点を本質的に持って
いる。そこで強磁性金属薄膜上に非磁性層を形成し、そ
の上にシリコーンオイルのような潤滑剤を塗布する方法
が考えられている。しかしながら単にm滑剤を塗布した
だけでは、媒体が走行を続けるに伴い急速に潤滑剤が枯
渇し潤滑効果が低下するため、摩耗が生じ傷も入りやす
くなる。その結果、媒体・ヘッド間の実効的スペーシン
グが増大して記録レベル、再生出力レベルが低下し、S
′/Nの劣化、エラー率の増加等の問題が生じる。
気記録媒体は、媒体自身およびこれに当接する磁気ヘッ
ドが摩耗・損傷を生じ易いという欠点を本質的に持って
いる。そこで強磁性金属薄膜上に非磁性層を形成し、そ
の上にシリコーンオイルのような潤滑剤を塗布する方法
が考えられている。しかしながら単にm滑剤を塗布した
だけでは、媒体が走行を続けるに伴い急速に潤滑剤が枯
渇し潤滑効果が低下するため、摩耗が生じ傷も入りやす
くなる。その結果、媒体・ヘッド間の実効的スペーシン
グが増大して記録レベル、再生出力レベルが低下し、S
′/Nの劣化、エラー率の増加等の問題が生じる。
[発明の目的コ
この発明の目的は、強磁性金属薄膜を記録磁性層とした
磁気記録媒体であって、表面に塗布された潤滑剤の枯渇
を効果的に抑制しうる磁気記録媒体を提供することにあ
る。
磁気記録媒体であって、表面に塗布された潤滑剤の枯渇
を効果的に抑制しうる磁気記録媒体を提供することにあ
る。
[発明の概要]
この発明は、非磁性基体上に強磁性金属薄膜および非磁
性層を順次積層し、その上に潤滑剤を塗布し吸着させて
なる磁気記録媒体において、非磁性層の厚さを300Å
以下とし、かつその表面粗さを強磁性金属薄膜の表面粗
さより大きくすることによって、潤滑剤が塗布される非
磁性層の表面積を増大せしめると同時に、その表面凹凸
を多くして潤滑剤が非磁性層に対し強く結合するように
したものである。
性層を順次積層し、その上に潤滑剤を塗布し吸着させて
なる磁気記録媒体において、非磁性層の厚さを300Å
以下とし、かつその表面粗さを強磁性金属薄膜の表面粗
さより大きくすることによって、潤滑剤が塗布される非
磁性層の表面積を増大せしめると同時に、その表面凹凸
を多くして潤滑剤が非磁性層に対し強く結合するように
したものである。
[発明の効果]
この発明によれば、非磁性層上に塗布された潤滑剤が媒
体の走行により急速に枯渇してしまうことがなく、長期
間にわたり良好な潤滑効果を維持することができる。従
って媒体自身および磁気へラドの摩耗・損傷が軽減され
、信頼性が向上する。
体の走行により急速に枯渇してしまうことがなく、長期
間にわたり良好な潤滑効果を維持することができる。従
って媒体自身および磁気へラドの摩耗・損傷が軽減され
、信頼性が向上する。
しかも潤滑剤を必要以上に厚くつけずに済むことにより
、媒体と磁気ヘッドとの接触状態が安定化されるので、
摩耗によるスペーシングロスの増加がないこととあいま
って、記録・再生特性を飛躍的に向上させることができ
る。
、媒体と磁気ヘッドとの接触状態が安定化されるので、
摩耗によるスペーシングロスの増加がないこととあいま
って、記録・再生特性を飛躍的に向上させることができ
る。
また両面に非磁性層を設け、それぞれに潤滑剤を塗布す
ることにより、パッドと媒体間の摩擦による摩耗および
パッドの変形を防止できるという効果も得られる。
ることにより、パッドと媒体間の摩擦による摩耗および
パッドの変形を防止できるという効果も得られる。
[発明の実施例]
第1図はこの発明の一実施例に係わる磁気記録媒体の構
成を示す断面図である。
成を示す断面図である。
図において、非磁性基体1は例えば膜厚75μm程度の
ポリエステルフィルムであり、この上に記録磁性層であ
る強磁性金属薄11!2として例えば膜厚0.5μm(
1)Go−Or合金膜がスパッタリング法により形成さ
れ、さらにこの上に非磁性層3として例えば膜厚200
人のSiO2からなる不連続なガラス状被膜がやはりス
パッタリング法によって形成されている。
ポリエステルフィルムであり、この上に記録磁性層であ
る強磁性金属薄11!2として例えば膜厚0.5μm(
1)Go−Or合金膜がスパッタリング法により形成さ
れ、さらにこの上に非磁性層3として例えば膜厚200
人のSiO2からなる不連続なガラス状被膜がやはりス
パッタリング法によって形成されている。
ここで強磁性金属薄112および非磁性層3は、薄膜形
成時の温度、スパッタリング速度、スパッタリング雰囲
気(酸素等)を適当に設定することによって、強磁性金
属薄112の表面2aの表面粗さに比べ非磁性層3の表
面3aの表面粗さの方が大きくなるように形成されてい
る。そして、非磁性113上にI!1m剤4として例え
ばシリコーンオイルの層が薄く塗布・吸着されている。
成時の温度、スパッタリング速度、スパッタリング雰囲
気(酸素等)を適当に設定することによって、強磁性金
属薄112の表面2aの表面粗さに比べ非磁性層3の表
面3aの表面粗さの方が大きくなるように形成されてい
る。そして、非磁性113上にI!1m剤4として例え
ばシリコーンオイルの層が薄く塗布・吸着されている。
上記構成において、非磁性層3の膜厚を300Å以下と
する理由は次の通りである。この非磁性層の最適膜厚を
調べるために保持力Hc工=6000e、飽和磁化Ms
=250G、l!膜厚、5μ算のGo−Cri!からな
る垂直磁気異方性を有する記録磁性層上にSiO2を1
00人、200人。
する理由は次の通りである。この非磁性層の最適膜厚を
調べるために保持力Hc工=6000e、飽和磁化Ms
=250G、l!膜厚、5μ算のGo−Cri!からな
る垂直磁気異方性を有する記録磁性層上にSiO2を1
00人、200人。
400人、700人各々スパッタリング法で被着した垂
直磁気記録媒体を用意し、ギャップ長0゜45μmのリ
ング型磁気ヘッド(Mn−Znフェライト)を用いて記
録密度50KBP1.70KBP1.100KBPIで
記録・再生を行なった5− 場合のSiO2の膜厚に対する再生出力レベルの変化を
示したのが第2図である。なお、OdBは5102を被
着しない場合の再生出力レベルである。この図からSi
O2の膜厚が400人のとき50KBP Iで記録・再
生を行なった場合、再生出力の低下が著しくなることが
分る。従って、非磁性層3の膜厚の許容値は電磁変換特
性(記録・再生特性)の観点から高々400人であり、
好ましくは200〜300人程痕が適当である。
直磁気記録媒体を用意し、ギャップ長0゜45μmのリ
ング型磁気ヘッド(Mn−Znフェライト)を用いて記
録密度50KBP1.70KBP1.100KBPIで
記録・再生を行なった5− 場合のSiO2の膜厚に対する再生出力レベルの変化を
示したのが第2図である。なお、OdBは5102を被
着しない場合の再生出力レベルである。この図からSi
O2の膜厚が400人のとき50KBP Iで記録・再
生を行なった場合、再生出力の低下が著しくなることが
分る。従って、非磁性層3の膜厚の許容値は電磁変換特
性(記録・再生特性)の観点から高々400人であり、
好ましくは200〜300人程痕が適当である。
さらに、電磁変換特性の観点からは非磁性層3の極端な
表面粗さの増加は好ましくなく、良好な電磁変換特性が
維持される範囲で非磁性層3の表面積を大ぎくして潤滑
剤との結合が強くなるように非磁性層3上に細かい凹凸
、好ましくは表面粗さが0.02μm以下程度の凹凸を
形成することが望まれる。このため非磁性層3としては
均一な連続膜に比較的なりにくい程度に薄い膜厚である
ことが必要であり、この観点からも300Å以下の膜厚
にすることが望ましい。
表面粗さの増加は好ましくなく、良好な電磁変換特性が
維持される範囲で非磁性層3の表面積を大ぎくして潤滑
剤との結合が強くなるように非磁性層3上に細かい凹凸
、好ましくは表面粗さが0.02μm以下程度の凹凸を
形成することが望まれる。このため非磁性層3としては
均一な連続膜に比較的なりにくい程度に薄い膜厚である
ことが必要であり、この観点からも300Å以下の膜厚
にすることが望ましい。
以上のように非磁性層3の膜厚を300Å以下−〇−
にした上で、非磁性層3の表面粗さを強磁性金属薄11
2の表面粗さよりも大きくすることによって、良好な電
磁変換特性を維持しつつ潤滑剤4の枯渇を防ぐことが可
能となり、もって磁気記録媒体および磁気ヘッドの摩耗
・損傷を防止することができ、また耐久性、耐食性の改
善により、信頼性を著しく向上させることができる。
2の表面粗さよりも大きくすることによって、良好な電
磁変換特性を維持しつつ潤滑剤4の枯渇を防ぐことが可
能となり、もって磁気記録媒体および磁気ヘッドの摩耗
・損傷を防止することができ、また耐久性、耐食性の改
善により、信頼性を著しく向上させることができる。
この発明の他の実施例として、非磁性基体である膜厚7
5μmのポリエステルフィルム上に真空蒸着法によって
Co単体またはCo−Al2O3薄膜を強磁性金属薄膜
の記録磁性層として形成し、その上にやはり真空蒸着法
により膜厚200人のAl20gからなる不連続なガラ
ス状被膜を形成し、この非磁性層上にiIl!漬剤を塗
布・吸着させたところ、上記実施例と同様に良好な結果
が得られた。
5μmのポリエステルフィルム上に真空蒸着法によって
Co単体またはCo−Al2O3薄膜を強磁性金属薄膜
の記録磁性層として形成し、その上にやはり真空蒸着法
により膜厚200人のAl20gからなる不連続なガラ
ス状被膜を形成し、この非磁性層上にiIl!漬剤を塗
布・吸着させたところ、上記実施例と同様に良好な結果
が得られた。
第3図はこの発明のさらに別の実施例を示すもので、非
磁性基体1の両面に強磁性金属薄膜2および非磁性層3
を設け、さらに非磁性層3の上に潤滑剤4をそれぞれ塗
布したものである。この実施例によっても非磁性層3の
厚さおよび表面粗さを第1図の実施例と同様に設定する
ことにより同様な効果が得られるほか、パッドと媒体間
の摩擦によるそれぞれの摩耗やパッドの変形を防ぐこと
ができるという効果が得られる。
磁性基体1の両面に強磁性金属薄膜2および非磁性層3
を設け、さらに非磁性層3の上に潤滑剤4をそれぞれ塗
布したものである。この実施例によっても非磁性層3の
厚さおよび表面粗さを第1図の実施例と同様に設定する
ことにより同様な効果が得られるほか、パッドと媒体間
の摩擦によるそれぞれの摩耗やパッドの変形を防ぐこと
ができるという効果が得られる。
この発明は上述した実施例に限定されるものではなく、
その要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施が可能であり
、例えば非磁性層としてはCr単体等の金属被膜あるい
はテフロン等の高分子膜でもよく、その材質は特に限定
されない。
その要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施が可能であり
、例えば非磁性層としてはCr単体等の金属被膜あるい
はテフロン等の高分子膜でもよく、その材質は特に限定
されない。
また、非磁性層の表面粗さを強磁性金属薄膜の表面粗さ
より大きくするためには、非磁性層を通常の方法で形成
した後に逆スパツタリング、化学あるいは電気化学エツ
チングを行なって非磁性層の表面を荒らす方法を用いて
もよい。さらに、非磁性基体上に強磁性金属薄膜を形成
した後、逆スパツタリング、化学あるいは電気化学エツ
チング等により電磁変換特性の面から許容できる程度に
その表面を荒らし、その上に非磁性層を形成してもよい
。
より大きくするためには、非磁性層を通常の方法で形成
した後に逆スパツタリング、化学あるいは電気化学エツ
チングを行なって非磁性層の表面を荒らす方法を用いて
もよい。さらに、非磁性基体上に強磁性金属薄膜を形成
した後、逆スパツタリング、化学あるいは電気化学エツ
チング等により電磁変換特性の面から許容できる程度に
その表面を荒らし、その上に非磁性層を形成してもよい
。
第1図はこの発明の一実施例に係わる磁気記録媒体の構
成を示す断面図、第2図は非磁性層の適正膜厚をめるた
めの実験結果を示す図、第3図はこの発明の他の実施例
に係わる磁気記録媒体の断面図である。 1・・・非磁性基体、2・・・強磁性金属薄膜、3・・
・非磁性層、4・・・潤滑剤 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 9− 第1図 ム
成を示す断面図、第2図は非磁性層の適正膜厚をめるた
めの実験結果を示す図、第3図はこの発明の他の実施例
に係わる磁気記録媒体の断面図である。 1・・・非磁性基体、2・・・強磁性金属薄膜、3・・
・非磁性層、4・・・潤滑剤 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 9− 第1図 ム
Claims (2)
- (1)非磁性基体上に強磁性金属薄膜および非磁性層を
順次積層し、その上に潤滑剤を塗布し吸着させてなる磁
気記録媒体において、前記非磁性層の厚さを300Å以
下とし、かつその表面粗さを前記強磁性金属薄膜の表面
粗さより大きくしたことを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)前記非磁性層の表面粗さが0.02μm以下であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17069783A JPS6061920A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17069783A JPS6061920A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6061920A true JPS6061920A (ja) | 1985-04-09 |
Family
ID=15909717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17069783A Pending JPS6061920A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6061920A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0198124A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH07272261A (ja) * | 1995-01-09 | 1995-10-20 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54155010A (en) * | 1978-05-27 | 1979-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS5868227A (ja) * | 1981-10-15 | 1983-04-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS59124030A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク製造方法 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17069783A patent/JPS6061920A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54155010A (en) * | 1978-05-27 | 1979-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS5868227A (ja) * | 1981-10-15 | 1983-04-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS59124030A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0198124A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH07272261A (ja) * | 1995-01-09 | 1995-10-20 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
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