JPS59124030A - 磁気デイスク製造方法 - Google Patents
磁気デイスク製造方法Info
- Publication number
- JPS59124030A JPS59124030A JP57233707A JP23370782A JPS59124030A JP S59124030 A JPS59124030 A JP S59124030A JP 57233707 A JP57233707 A JP 57233707A JP 23370782 A JP23370782 A JP 23370782A JP S59124030 A JPS59124030 A JP S59124030A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- oxide film
- lubricant
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の技術分野
本発明は、磁気ディスクの製造方法に係り、特に良好な
耐久性、耐摩耗性を実現する表戸保護膜の製造方法に関
する。
耐久性、耐摩耗性を実現する表戸保護膜の製造方法に関
する。
(2)技術の背景
磁気デコスク装置において、磁気ディスクと磁気へンド
の接触によるディスク面の損傷を防ぐため、潤滑剤が使
用されている。
の接触によるディスク面の損傷を防ぐため、潤滑剤が使
用されている。
(3)従来技術と問題点
ところが、潤滑剤は、潤滑剤塗布面に対する密着性が良
くない。なぜならば潤滑性と密着性とは本来相反するも
のであり、一般に潤滑性の優れた潤滑剤はど、潤滑剤塗
布面が何であれ密着性は悪くなってくるものである。し
かし、ディスクの耐摩耗性のためには、潤滑剤の良好な
密着性は不可欠なものである。
くない。なぜならば潤滑性と密着性とは本来相反するも
のであり、一般に潤滑性の優れた潤滑剤はど、潤滑剤塗
布面が何であれ密着性は悪くなってくるものである。し
かし、ディスクの耐摩耗性のためには、潤滑剤の良好な
密着性は不可欠なものである。
(4)発明の目的
本発明は、上述の点に鑑みなされたもので、磁性膜表面
に作成した5i02表面に適度な凹凸を形成させること
により、耐摩耗性に秀れた磁気ディスクを提供すること
にある。
に作成した5i02表面に適度な凹凸を形成させること
により、耐摩耗性に秀れた磁気ディスクを提供すること
にある。
(5)発明の構成
本発明はアルミ、ガラスもしくはセラミックを基板とし
て、磁性膜よりなる磁気記録媒体上に低融点金属もしく
は合金もしくは化合物を単独もしくは組合せて添加した
5in2膜を形成し、加熱することにより、添加物返し
くはその化合物をSiO2膜表面に析出させ5102の
エツチングを行い、先の添加物を除去し、潤滑剤を塗布
する工程を含む磁気ディスク製造方法により達成される
。
て、磁性膜よりなる磁気記録媒体上に低融点金属もしく
は合金もしくは化合物を単独もしくは組合せて添加した
5in2膜を形成し、加熱することにより、添加物返し
くはその化合物をSiO2膜表面に析出させ5102の
エツチングを行い、先の添加物を除去し、潤滑剤を塗布
する工程を含む磁気ディスク製造方法により達成される
。
即ち、本発明は磁性膜上に融点か150℃〜350℃の
低融点金属、合金、化合物を添加した5in2膜を作成
し、これを加熱することにより、添加物を5tQ2膜表
面に析出させ、該析出物をマスクとして利用し、5io
2のドライエソチングラ行い、マスクとして用いた該析
出物を除去し、SiO2表面に適度な粗さを作成する様
にしたものである。
低融点金属、合金、化合物を添加した5in2膜を作成
し、これを加熱することにより、添加物を5tQ2膜表
面に析出させ、該析出物をマスクとして利用し、5io
2のドライエソチングラ行い、マスクとして用いた該析
出物を除去し、SiO2表面に適度な粗さを作成する様
にしたものである。
低融点金属としてはPb、Bi、Sn、In等を用いる
ことができる。
ことができる。
潤滑剤の塗布面への密着性を向上させる為には、塗布面
の面粗さを粗くシ、潤滑剤との接触面積を増加させるこ
とが有効である。また、塗布面を粗らずことは、磁気ヘ
ッド面の様に鐘面である場合には、ディスク面が粗れて
いることにより、ヘッド面との接触面積を減らすことに
もなり、ヘッド−ディスク間の摩擦係数を減少させるこ
きにもなる。以上の理由よりディスク面を粗らすことが
、耐摩耗性の向上に大きな効果があることは明らかであ
る。
の面粗さを粗くシ、潤滑剤との接触面積を増加させるこ
とが有効である。また、塗布面を粗らずことは、磁気ヘ
ッド面の様に鐘面である場合には、ディスク面が粗れて
いることにより、ヘッド面との接触面積を減らすことに
もなり、ヘッド−ディスク間の摩擦係数を減少させるこ
きにもなる。以上の理由よりディスク面を粗らすことが
、耐摩耗性の向上に大きな効果があることは明らかであ
る。
ディスク面の粗らし方として次の3つの方法がある。1
)ディスク基板を粗らす、2)磁性膜面を粗らす、3)
磁性膜上に粗れた膜を作る。以上の方法のうち1)、2
)の方法は媒体ノイズを増加させる為好ましくない。磁
性膜上に粗れた膜を作る3)の方法については、磁気記
録の記録再生のためには出来るだけ薄く硬い事が望まし
い。即ち磁気記録においてはディスク−ヘッド間の距離
は、小さい程記録され易く、再生効率も良いことは良く
知られていることである。才た硬い方が耐摩耗性の上か
ら考えて望ましい。
)ディスク基板を粗らす、2)磁性膜面を粗らす、3)
磁性膜上に粗れた膜を作る。以上の方法のうち1)、2
)の方法は媒体ノイズを増加させる為好ましくない。磁
性膜上に粗れた膜を作る3)の方法については、磁気記
録の記録再生のためには出来るだけ薄く硬い事が望まし
い。即ち磁気記録においてはディスク−ヘッド間の距離
は、小さい程記録され易く、再生効率も良いことは良く
知られていることである。才た硬い方が耐摩耗性の上か
ら考えて望ましい。
(6)発明の実施例
以下本発明について図面を参照して説明する。
第1図〜第5図は本発明の磁気ディスク製造法の工程断
面図である。
面図である。
アルミニウム、ガラスもしくはセラミック基板1上にス
パッタリング法を用いてγ−Fe203膜2を形成する
。(’Feを主成分とするターゲットを用い02中で反
応スパッタを行うことによりγ−Fe20、膜を形成し
、さらにこれを還元酸化熱処理することによりr −F
e2 Q3膜とする。)上記スパッタリング法を用い
て作成したγ−Fe203膜2を有するディスク表面に
、Sin、ターゲット上にBi(融点271°C)をの
せてArガス雰囲気中ガス圧2.OX 10−2To
r r基板温度200’Cでスパッタリング法により5
i02薄膜3を(400^)形成した(第1図)。これ
を400℃、2HN2ガス雰囲気中加熱することにより
5I02膜3表面にB1が析出する(第2図)。これを
cF4雰囲気中でドライエツチングするとBi析出物4
はエツチングされず、5i02膜3が選択的にエンチン
グされる(第3図)。5i02膜3の表面を粗らした後
、残ったBi析出物4はHCI溶液で洗うことにより除
去することにより粗れた51o2膜3’を持つ磁気ディ
スクを得た(第4図)。該基板上に潤滑剤5を塗布する
(第5図)。
パッタリング法を用いてγ−Fe203膜2を形成する
。(’Feを主成分とするターゲットを用い02中で反
応スパッタを行うことによりγ−Fe20、膜を形成し
、さらにこれを還元酸化熱処理することによりr −F
e2 Q3膜とする。)上記スパッタリング法を用い
て作成したγ−Fe203膜2を有するディスク表面に
、Sin、ターゲット上にBi(融点271°C)をの
せてArガス雰囲気中ガス圧2.OX 10−2To
r r基板温度200’Cでスパッタリング法により5
i02薄膜3を(400^)形成した(第1図)。これ
を400℃、2HN2ガス雰囲気中加熱することにより
5I02膜3表面にB1が析出する(第2図)。これを
cF4雰囲気中でドライエツチングするとBi析出物4
はエツチングされず、5i02膜3が選択的にエンチン
グされる(第3図)。5i02膜3の表面を粗らした後
、残ったBi析出物4はHCI溶液で洗うことにより除
去することにより粗れた51o2膜3’を持つ磁気ディ
スクを得た(第4図)。該基板上に潤滑剤5を塗布する
(第5図)。
(7)発明の効果
以上本発明により、潤滑剤と塗布面との接触面積を増す
ことが出来、密着性向上に効果があり、また磁気ヘット
とディスク面との接触面積を減らし、摩擦を小さくでき
る。
ことが出来、密着性向上に効果があり、また磁気ヘット
とディスク面との接触面積を減らし、摩擦を小さくでき
る。
第1図はS i02をスパッタした後の断面図、第2図
は5ho2膜表面に添加物を析出した後の断面図、第3
図はS iOtをエツチングした後の断面図、第4図は
析出した添加物を除去した後の断面図、第5区は創滑剤
を塗布した後の断面図である。図におイテは、1は基板
、2はr Fetus 、3は5ift、4は添加物
、5は潤滑剤である。 第 1 図 年2図 鳩3図 栴4図 第5図
は5ho2膜表面に添加物を析出した後の断面図、第3
図はS iOtをエツチングした後の断面図、第4図は
析出した添加物を除去した後の断面図、第5区は創滑剤
を塗布した後の断面図である。図におイテは、1は基板
、2はr Fetus 、3は5ift、4は添加物
、5は潤滑剤である。 第 1 図 年2図 鳩3図 栴4図 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 磁性膜がアルミ、ガラスもしくはセラミック基板上に形
成された磁気記録−媒体上に、低融点金属、合金もしく
は化合物の添加物を含有する酸化膜を形成する工程と、 加熱して酸化膜表面上に析出物を形成する工程と、該析
出物をマスクに酸化膜を該酸化膜の厚さ方向で途中まで
エツチングし、凹部を有する酸化膜を形成する工程と、 腋析出物を除去する工程と、 該酸化膜上に潤滑剤を塗布する工程とを有することを特
徴とする磁気ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57233707A JPS59124030A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57233707A JPS59124030A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59124030A true JPS59124030A (ja) | 1984-07-18 |
Family
ID=16959284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57233707A Pending JPS59124030A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59124030A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6061920A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0198124A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH03119517A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-21 | Itochu Shoji Kk | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスクの製造方法 |
JPH076361A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-01-10 | Itochu Corp | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスク |
JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
US5656349A (en) * | 1990-07-04 | 1997-08-12 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
US7998605B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-08-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium and method for production thereof |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP57233707A patent/JPS59124030A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6061920A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0198124A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH03119517A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-21 | Itochu Shoji Kk | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスクの製造方法 |
US5656349A (en) * | 1990-07-04 | 1997-08-12 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
JPH076361A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-01-10 | Itochu Corp | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスク |
JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
US7998605B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-08-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium and method for production thereof |
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