JPS6059740A - 半導体材料の水切乾燥装置 - Google Patents
半導体材料の水切乾燥装置Info
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- JPS6059740A JPS6059740A JP16804583A JP16804583A JPS6059740A JP S6059740 A JPS6059740 A JP S6059740A JP 16804583 A JP16804583 A JP 16804583A JP 16804583 A JP16804583 A JP 16804583A JP S6059740 A JPS6059740 A JP S6059740A
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- JP
- Japan
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- rotor
- impeller
- gas
- casing
- drying device
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体シリコンウー１−ハやガラスフォトマス
クなどの半導体拐料に（’ｌ”；’、７ Ｌ、た水滴を
遠心力によって除去し且つ乾燥する水切乾燥装ｊ４の改
良に関する。
クなどの半導体拐料に（’ｌ”；’、７ Ｌ、た水滴を
遠心力によって除去し且つ乾燥する水切乾燥装ｊ４の改
良に関する。
この装置は水洗された半導体４Ａ料を水切乾燥するのに
用いられ、回転駆動されるロータと、そｙｔを包囲する
ケーシングから構成され、ロータの底部を構成するベー
ス部Ａ２上には半導体４ぢ料が収められるかご状のキャ
（ツヤを支持する支持部、即ちキャリヤホルダーが備え
られている。ケーシング上には中心に吸気口を備えた蓋
が設置され、且つケーシング固壁の適宜位置にはｊジ１
気１０が在る。作動時、ロータの回転による遠心力によ
って、半導体材料に付着していた水４ｚｊはＩｔ’、Ｊ
壁に向って飛ばされ、且つロータの中心区域は負圧にな
るので蓋の吸気口全通して空気またば窒素ガスなどの乾
燥用の気体が導入され、その気体はケーシング内を円周
方向に流れてＪＪ＋気口からがＣ出し、この気体の流れ
によって半導体Ａ′）Ｊ料が乾燥される。従ってり゛−
／ングの周壁Ｋｉｄ水ｈ’ａノが付着し、それと共にこ
みゃ汚れも付着する。しかるに、従来、この種の装置で
はロータに吸引され且つケーシノグ内ｆ （Ａｌ、）ｔ
る気体（・−ま全て円周方向に流）１．るとｌｌ；ｊ
ｌ沢らず、クー／ツク１戊仮から下方に巻き上かる（ｌ
ｌｔ ７ｔやｉ：＋５壁からｔよね返１つ、上昇して半
径方向内側に流れる対流もあり、その上うな（ＡＣｉｔ
がクー／ツクのｒｉ（ｉｌｌ又や周壁上の水分やｌ′ｒ
ｉ］′１．ヲ丙び半ｉ；ｖ ｔａ、ＡＡ’ Ｆｉ ’ｚ
ＣＪ’：４返１つ、そノＬが：；ｉｇ燥効率全効率：け
且つ抗ａトシカ果を阻害する欠点があった。
用いられ、回転駆動されるロータと、そｙｔを包囲する
ケーシングから構成され、ロータの底部を構成するベー
ス部Ａ２上には半導体４ぢ料が収められるかご状のキャ
（ツヤを支持する支持部、即ちキャリヤホルダーが備え
られている。ケーシング上には中心に吸気口を備えた蓋
が設置され、且つケーシング固壁の適宜位置にはｊジ１
気１０が在る。作動時、ロータの回転による遠心力によ
って、半導体材料に付着していた水４ｚｊはＩｔ’、Ｊ
壁に向って飛ばされ、且つロータの中心区域は負圧にな
るので蓋の吸気口全通して空気またば窒素ガスなどの乾
燥用の気体が導入され、その気体はケーシング内を円周
方向に流れてＪＪ＋気口からがＣ出し、この気体の流れ
によって半導体Ａ′）Ｊ料が乾燥される。従ってり゛−
／ングの周壁Ｋｉｄ水ｈ’ａノが付着し、それと共にこ
みゃ汚れも付着する。しかるに、従来、この種の装置で
はロータに吸引され且つケーシノグ内ｆ （Ａｌ、）ｔ
る気体（・−ま全て円周方向に流）１．るとｌｌ；ｊ
ｌ沢らず、クー／ツク１戊仮から下方に巻き上かる（ｌ
ｌｔ ７ｔやｉ：＋５壁からｔよね返１つ、上昇して半
径方向内側に流れる対流もあり、その上うな（ＡＣｉｔ
がクー／ツクのｒｉ（ｉｌｌ又や周壁上の水分やｌ′ｒ
ｉ］′１．ヲ丙び半ｉ；ｖ ｔａ、ＡＡ’ Ｆｉ ’ｚ
ＣＪ’：４返１つ、そノＬが：；ｉｇ燥効率全効率：け
且つ抗ａトシカ果を阻害する欠点があった。
本発明の目ぞ（勺はｌ己従来］支律■の欠点ｔ １０％
ｒ肖することであって、それ故ケー／ンクＪＩ′Ｃ１
反からの気１本の巻き」二けやｈｌ、」壁からの対ｂｆ
ｊを防止して乾燥効果を高め且つ汚れの待遇ｈ（Ｌ−防
止し告る水νＪ乾燥装置ｌ″ｉを提供することである。
ｒ肖することであって、それ故ケー／ンクＪＩ′Ｃ１
反からの気１本の巻き」二けやｈｌ、」壁からの対ｂｆ
ｊを防止して乾燥効果を高め且つ汚れの待遇ｈ（Ｌ−防
止し告る水νＪ乾燥装置ｌ″ｉを提供することである。
」−記１．１的を構成するため不発明に」、る水ｌ、ｌ
Ｊ乾煙装置のｌｔＭ徴はそのロータの底部を１１′ｌ）
成するベース部利を羽根車で構成し、そ几ｋｃ ｊ：っ
て」、−力から下刃への／；、ｕ本の流れを促ｊ色し、
気流の巻き上げや対流を１１．１ノ止するど共に排水を
積極的に１」なうようにしたことである。
Ｊ乾煙装置のｌｔＭ徴はそのロータの底部を１１′ｌ）
成するベース部利を羽根車で構成し、そ几ｋｃ ｊ：っ
て」、−力から下刃への／；、ｕ本の流れを促ｊ色し、
気流の巻き上げや対流を１１．１ノ止するど共に排水を
積極的に１」なうようにしたことである。
次に図面を参照のもどに本発明の人施例に関し説明する
。第１図斤いし第３図は本発明による水切乾燥装置の全
体を示すものであつ（ｙ図示のように、この装置１は回
転ロータ（１）と、ロータ（１）τ包囲するクー／ツク
（２）およびクー／ツクの」二（・こｉｉｌ、ｔかれる
蓋・：３）を含み、これらの部層は外装用のケース（４
）内に収められる。（５）はギヤリヤを支持する支」５
部である。被処理物たる半導体桐料はキャリヤ内に収め
られた上、ロータ（ｉｔ内に固定された支持部（５）に
よって支持される。蓋（３）の中央に１は吸気口（６）
が在り、そこにメツ／ユ（７）が張られる。クー／ツク
（２）の周壁（２ａ）の適当な位置には抽気口（８）が
設けられ、ロータ（１）の回転によね吸気口（６）から
導入された気体はクー／ツク（２）内をめぐって、１ノ
１気口を通（つ排気ダクト（８）から流出するように１
１−４成されている。第２図に示すように、ロータ（旬
の底ｒＳＢを構成するベース部材（１０）の中心は主軸
［９）しこ接続され、主軸（９）はモータ（図示せず）
によって回転駆動される。なお、ｔ３ａ）１４蓋（３）
とケース（７Ｉ）の間ヲ７− ルする／一部材であり、
（３ｂ）は蓋の下面に１収付けられた吸入気体の環状の
ガイドである。
。第１図斤いし第３図は本発明による水切乾燥装置の全
体を示すものであつ（ｙ図示のように、この装置１は回
転ロータ（１）と、ロータ（１）τ包囲するクー／ツク
（２）およびクー／ツクの」二（・こｉｉｌ、ｔかれる
蓋・：３）を含み、これらの部層は外装用のケース（４
）内に収められる。（５）はギヤリヤを支持する支」５
部である。被処理物たる半導体桐料はキャリヤ内に収め
られた上、ロータ（ｉｔ内に固定された支持部（５）に
よって支持される。蓋（３）の中央に１は吸気口（６）
が在り、そこにメツ／ユ（７）が張られる。クー／ツク
（２）の周壁（２ａ）の適当な位置には抽気口（８）が
設けられ、ロータ（１）の回転によね吸気口（６）から
導入された気体はクー／ツク（２）内をめぐって、１ノ
１気口を通（つ排気ダクト（８）から流出するように１
１−４成されている。第２図に示すように、ロータ（旬
の底ｒＳＢを構成するベース部材（１０）の中心は主軸
［９）しこ接続され、主軸（９）はモータ（図示せず）
によって回転駆動される。なお、ｔ３ａ）１４蓋（３）
とケース（７Ｉ）の間ヲ７− ルする／一部材であり、
（３ｂ）は蓋の下面に１収付けられた吸入気体の環状の
ガイドである。
本発明の特徴Ｕ、ｍＩ図および第ろ１スに示すように、
ロータ（１）のベース部利００）を送風用の羽根車によ
って構成したことであって、作動時、ベース部旧ブこる
羽根車００）の回転によってその」ニガから羽根−１１
シを通して下方への気流を生じさせるようにしたことで
ある。従って、羽根中の型式は」４に限定する必要はな
く、ｌＱｌ＋流型であっＣも、丑たけ半径流型、その他
のものでもよい。ギヤリヤを設置する／こめの支」、５
部（５）は羽根車＋＋１）＋の」二に取付けられること
は菖う寸でもなく、その／こめ羽根車（１０１の外周は
環状の外周枠（１１）によグて形成され１．ｌ二りつロ
ータ（１）の上部外回を形成する環状の上部外Ｌ’；３
枠（１２）と外周枠（ＩＩ）との間における適当な位１
ｉｒｊに支Ａ主（１３）が固定さノ］１、そノ’Ｌらの
支柱（１：３１に前記支Ｊｌ１部（５）が取付けられる
。通常は一層の支柱（Ｉ３）により 一つの支持部（５
）が１ν・Ｉ ’ｊｊｆさノする。
ロータ（１）のベース部利００）を送風用の羽根車によ
って構成したことであって、作動時、ベース部旧ブこる
羽根車００）の回転によってその」ニガから羽根−１１
シを通して下方への気流を生じさせるようにしたことで
ある。従って、羽根中の型式は」４に限定する必要はな
く、ｌＱｌ＋流型であっＣも、丑たけ半径流型、その他
のものでもよい。ギヤリヤを設置する／こめの支」、５
部（５）は羽根車＋＋１）＋の」二に取付けられること
は菖う寸でもなく、その／こめ羽根車（１０１の外周は
環状の外周枠（１１）によグて形成され１．ｌ二りつロ
ータ（１）の上部外回を形成する環状の上部外Ｌ’；３
枠（１２）と外周枠（ＩＩ）との間における適当な位１
ｉｒｊに支Ａ主（１３）が固定さノ］１、そノ’Ｌらの
支柱（１：３１に前記支Ｊｌ１部（５）が取付けられる
。通常は一層の支柱（Ｉ３）により 一つの支持部（５
）が１ν・Ｉ ’ｊｊｆさノする。
支１１部ｔ５）Ｉ−ｉ羽根車００）の表１１１」−に接
した状態で設置してもよいが、第２図にノ」ミず」、う
に、羽根車００）Ｖこ」、る気流を一層促進するため・
＼−ス部利としての羽根車（１０）の上に離れた状態で
設置するのが好ましい５つ 羽根車００）の外周枠（１１）は各羽根ｆ１４）’ｆ介
して羽根車のボス（Ｉ５）に固定され、従って羽根的）
構成る程度の強度を必要とするが、形状について１ｄ往
、へのものでよい。例えば羽根（］ｌＩｌの前縁およ０
・後縁は第４図に示すように、円弧状甘だは曲線状であ
ってもよく、または第６図に示すように直線状の羽）ｌ
ｊ（であってもよい。
した状態で設置してもよいが、第２図にノ」ミず」、う
に、羽根車００）Ｖこ」、る気流を一層促進するため・
＼−ス部利としての羽根車（１０）の上に離れた状態で
設置するのが好ましい５つ 羽根車００）の外周枠（１１）は各羽根ｆ１４）’ｆ介
して羽根車のボス（Ｉ５）に固定され、従って羽根的）
構成る程度の強度を必要とするが、形状について１ｄ往
、へのものでよい。例えば羽根（］ｌＩｌの前縁およ０
・後縁は第４図に示すように、円弧状甘だは曲線状であ
ってもよく、または第６図に示すように直線状の羽）ｌ
ｊ（であってもよい。
なお、羽根上（１０）による上方から下方への気流を効
果的に行なうため、第２図に示すように、クー／ツク（
２）の底板（２ｂ）とロータの羽根車（１０）との間に
案内羽根ｆｌ（ｉ＋ ｆ：設置するのが奸計しく、これ
によｔツ底板ｆ２ｂ）ＶＣ下降する気流を案内すると共
に、底根上から上方へ巻き」二ｌ′１ヲ防止することが
できる。
果的に行なうため、第２図に示すように、クー／ツク（
２）の底板（２ｂ）とロータの羽根車（１０）との間に
案内羽根ｆｌ（ｉ＋ ｆ：設置するのが奸計しく、これ
によｔツ底板ｆ２ｂ）ＶＣ下降する気流を案内すると共
に、底根上から上方へ巻き」二ｌ′１ヲ防止することが
できる。
なおまた、第２図および第ろ図に犀ずように、ロータ（
１）とクー／ツクの固壁（２ａ）との間隔は−」−タの
回転方向に且つ１ノ１気口（８）に向って除々に大きく
するのが好１しく、且つ水に、けを良くするためクー／
ツクのノ底板【２ｂ）も排気し１（８）に向クーＣ徐々
に二下降するようにするのが好ましい。
１）とクー／ツクの固壁（２ａ）との間隔は−」−タの
回転方向に且つ１ノ１気口（８）に向って除々に大きく
するのが好１しく、且つ水に、けを良くするためクー／
ツクのノ底板【２ｂ）も排気し１（８）に向クーＣ徐々
に二下降するようにするのが好ましい。
この装置により半導体イ２料の水切乾燥を行なう際は、
半導体、＋Ａ料をギヤリヤ内に収めた状態で前記ギーＶ
リヤをロー りの支４る部（５）にセットし、蓋（３）
を閉じて、ロータｔＬｌ’、ｒ回転する。「Ｊ−夕の回
転によね、各半導（／ｌ−月利も共に回転さ）ｔ、そこ
に付着していた水Ｍｉは遠心力によって周囲に飛ばされ
、水１；／Ｊ ｌ’ｌが行なわれ、且つキャリヤ内の半
導体拐料の表面は気体との接触によって乾１りｒされる
。その隙、ロータ（１１の回転によＪ ［ｊ−夕の底部
の羽根車（１０）によってその上方から−１・力への強
い気流が生じ、ロータ（１）の内部は負圧となＰ］、吸
気Ｄ （Ｇ＋から気体を強制的に導入する。ロータ（１
）内の気体の大部分Ｖよ羽根車（１０）を通って下方に
流れ、案内羽根（１６）を通過して、ケーシング（２）
の底板［２ｂ）Ｊ−を円周方向に流れ、］」１気１コ（
８）および］ノ１気ダクト１８’） ’、ｒ通って流出
する。
半導体、＋Ａ料をギヤリヤ内に収めた状態で前記ギーＶ
リヤをロー りの支４る部（５）にセットし、蓋（３）
を閉じて、ロータｔＬｌ’、ｒ回転する。「Ｊ−夕の回
転によね、各半導（／ｌ−月利も共に回転さ）ｔ、そこ
に付着していた水Ｍｉは遠心力によって周囲に飛ばされ
、水１；／Ｊ ｌ’ｌが行なわれ、且つキャリヤ内の半
導体拐料の表面は気体との接触によって乾１りｒされる
。その隙、ロータ（１１の回転によＪ ［ｊ−夕の底部
の羽根車（１０）によってその上方から−１・力への強
い気流が生じ、ロータ（１）の内部は負圧となＰ］、吸
気Ｄ （Ｇ＋から気体を強制的に導入する。ロータ（１
）内の気体の大部分Ｖよ羽根車（１０）を通って下方に
流れ、案内羽根（１６）を通過して、ケーシング（２）
の底板［２ｂ）Ｊ−を円周方向に流れ、］」１気１コ（
８）および］ノ１気ダクト１８’） ’、ｒ通って流出
する。
このように、羽根上（１０）により、ロータ（１）内の
」ニガから下方への流れケ強力に４１１進するので、気
流の上方への巻き上げを防止し且つロータ（１）の下の
案内羽根（１６）に停滞している水滴や気し・を効果的
に下降し且つ４Ｊｌ気１コ（８）への気味の流ｆ’Ｌ
（ｉｚ促進する。
」ニガから下方への流れケ強力に４１１進するので、気
流の上方への巻き上げを防止し且つロータ（１）の下の
案内羽根（１６）に停滞している水滴や気し・を効果的
に下降し且つ４Ｊｌ気１コ（８）への気味の流ｆ’Ｌ
（ｉｚ促進する。
従って、案内羽根（１６）や底板Ｃ２１））上にイー１
着してし−１だ水滴０７）を排気口（８）ＶＣ向って積
極的に移動し、水はけを良好にする。さらに、ロータの
下面においても強制的に円周方向下方への流れを生じる
ためケーシング周壁（２ａ）からはね返る対流をＩ）’
ｊ止する役割を果し、ケーシングの底板や周壁にイーζ
］危した水分や汚れをロータ」二の半導体材を１に持ち
返ることがなくなる。
着してし−１だ水滴０７）を排気口（８）ＶＣ向って積
極的に移動し、水はけを良好にする。さらに、ロータの
下面においても強制的に円周方向下方への流れを生じる
ためケーシング周壁（２ａ）からはね返る対流をＩ）’
ｊ止する役割を果し、ケーシングの底板や周壁にイーζ
］危した水分や汚れをロータ」二の半導体材を１に持ち
返ることがなくなる。
それ故、本発明によれば、ロータ上方の吸気［１から排
気口への気体の流れを強力に推進し、ケーシングの底板
やその」二の案内羽根上に付着しブこ水４島の水はけ全
良好にし且つケーシング内の気流の巻き」二げや対η宅
を阻止するため、クー・ンングの底板や周壁の汚れや水
分が半６体栃石すこはね返ることがなく、半導ｃｌ’
ｌ料の乾燥効率を−・ｊ蓄向上−ｄ−ることかできる。
気口への気体の流れを強力に推進し、ケーシングの底板
やその」二の案内羽根上に付着しブこ水４島の水はけ全
良好にし且つケーシング内の気流の巻き」二げや対η宅
を阻止するため、クー・ンングの底板や周壁の汚れや水
分が半６体栃石すこはね返ることがなく、半導ｃｌ’
ｌ料の乾燥効率を−・ｊ蓄向上−ｄ−ることかできる。
第１図は本発明の一例による水すｊ乾す光装置を部分的
に切欠い／ζ斜祝図、第２図（ｑ、その概略断面レフ、
側３図はその内部を示す平面図、第６図１は筆２図の線
１５−Ａ断面図、第５図は第４図の線）３− Ｂ断面図
、第６図は他の実施例をルす第４図に類似の断「ｔｌＪ
図、そして第７図は作動助のロータ下部の状態全英す一
部の拡大断面図である。 図中、１・−・ロータ、２・・り”−／ング、２ａ・・
ケーシングの周壁、２ｂ・・・ケーシングの底板、５−
支持部、６・吸気口、８・・Ｊｕｌ気１−１．１ｏ−
ロータの羽根車、１４・・・羽根 第６図 第７図
に切欠い／ζ斜祝図、第２図（ｑ、その概略断面レフ、
側３図はその内部を示す平面図、第６図１は筆２図の線
１５−Ａ断面図、第５図は第４図の線）３− Ｂ断面図
、第６図は他の実施例をルす第４図に類似の断「ｔｌＪ
図、そして第７図は作動助のロータ下部の状態全英す一
部の拡大断面図である。 図中、１・−・ロータ、２・・り”−／ング、２ａ・・
ケーシングの周壁、２ｂ・・・ケーシングの底板、５−
支持部、６・吸気口、８・・Ｊｕｌ気１−１．１ｏ−
ロータの羽根車、１４・・・羽根 第６図 第７図
Claims (2)
- （１）。水切乾燥すべき７リコンウエハ智の半導体相別
を収めたキャリヤが設置Ｉｔされる支持部を（Ｊｉｉえ
且つケーシング内に設置されたロータを含み、前記ロー
タ上方の吸気１コから導入されＲつ前記ロータを通過し
て前記ケーシング固壁に在る１）１気口全通してＪｕｌ
出される気体によっ−Ｃ前記１ゴーク」二に設置在さノ
１−た半導体（２料が乾燥される水リノ乾燥装置におい
て、ｆＴｈｆＪ記ロータの底部を構成するーヘース部拐
は上刃から下方への気流を生じさぜる羽根車から成るこ
とを特徴とする水切乾燥装置。 - （２）、特許請求の範囲第１ ：ｌｆｉに記載の水切乾
燥装置において、前記支持部は前記ベース部）ｌＡの上
りこ離れて設けられている水防乾燥装置１′ｆｆ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16804583A JPS6059740A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 半導体材料の水切乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16804583A JPS6059740A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 半導体材料の水切乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059740A true JPS6059740A (ja) | 1985-04-06 |
Family
ID=15860800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16804583A Pending JPS6059740A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 半導体材料の水切乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059740A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6042732B2 (ja) * | 1980-04-27 | 1985-09-25 | アイシン精機株式会社 | ミシン |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16804583A patent/JPS6059740A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6042732B2 (ja) * | 1980-04-27 | 1985-09-25 | アイシン精機株式会社 | ミシン |
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