JPS6058894A - 光学記録層転写用シ−ト - Google Patents

光学記録層転写用シ−ト

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JPS6058894A
JPS6058894A JP58168054A JP16805483A JPS6058894A JP S6058894 A JPS6058894 A JP S6058894A JP 58168054 A JP58168054 A JP 58168054A JP 16805483 A JP16805483 A JP 16805483A JP S6058894 A JPS6058894 A JP S6058894A
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recording layer
resin
coating
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はＩＤカードや通帳などの記録媒体にレーザー光
等で光学的に記録するための光学記録層を転写法により
形成するのに適した光学記録層転写用シートに関するも
のである。
（従来技術） キャッシュカード、クレジットカード、自分証明用カー
ドなどのＩＤカード、金融機関の預金通帳、或いは情報
記録カードなどの記録媒体の記録層としては磁気層が広
く使用されているが、磁気層の記録密度は概して小さく
、又、普及している反面、偽造の発生頻度も高く、この
ため、他の記録密度の高い、偽造の困難な記録層が望ま
れている。
磁気層以外の記録層としては集積回路（ＩＣ）を利用し
たものやレーザー光等で記録する光学記録層とが代表的
なものとして提案さり、、かつ検討されており、中でも
光学記録層は記録密度の高い点で有望視されている。
このような光学記録層は多くは低融点の金属を蒸着等に
より記録媒体の所定の箇所に薄膜として形成することに
゛より得られるが、記録媒体に直接的に記録層を形成す
るのは効率が悪い上、所定の形状の記録層を形成するに
はマスクを使用しなければならない不便さもある。
（目　的） 本発明は、上記した従来技術における欠点を解消し、光
学記録層を効率的に、しかも所望の形状に形成するため
の光学記録層転写シートを提供することを目的とする。
（発明の構成） 本発明の光学記録層転写用シートは剥離性基材の剥離性
表面に透明合成樹脂保護層、光学記録層、および接着剤
層が順次積層されていることを特徴とするものである。
＠１図は本発明の光学記録ＩＩ￥ｉ転写用シートの一実
施例を示す断面図であって、表面が剥離性の基材１に透
明合成樹脂保護層２、光学記録層３、および接着剤層４
が順次積層された構造となっている。
第２図は別の実施例を示し、基材１の表面にまず剥離性
層５を設けており、その他は第１図のものと同様である
。
基材１としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、セルロースアセテート、ポリスチレン
、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、メチルベンゾン樹
脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンオ
キシド、ポリサルホン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ
化エチレンプロピレン、ポリエーテルイミド、ポリイミ
ド等のプラスチックフィルム。
銅、アルミニウム等の金属箔、紙と前記のプラスチック
フィルム又は金属箔のラミネート品等が使用でき、耐熱
性、機械的強度、平滑性および現状の価格を考慮すると
ポリエステルフィルムが好ましいが、特に限定されるも
のではない。
基材の厚みは１〜５００　ｔｉｍ、好ましくは５〜５０
μｍである。
次に保護層２を形成するための材料としては、常温、熱
又は電子線、紫外線等の放射線により硬化する硬化性化
合物が使用できる。常温又は熱により硬化される樹脂の
種類としては不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッ
ド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が使用でき
、電子線、紫外線等の放射線照射により重合し硬化する
化合物としては不飽和ポリエステル類、アクリレート類
、チオール・エン類、エポキシ・ルイス酸類が使用でき
る。
保護層２の厚みは０５μｍ〜２．０ＵＩ、好ましくは１
〜５００μｍである。
なお、保護層２を形成する際には保護層２の光学記録層
３と接する面の平滑匣が高くなるようにしておくと、こ
のような光学記録層転写用シートを用いて得られる光学
記録層の表面の平滑性が向上し、光学記録の精（９）が
向上して読み取りの際のエラーが低下して好ましい。平
滑疫な高めるには予め表面を鏡面とした金属、ガラスな
どの面に未硬化の塗布層を接触させつつ硬化させればよ
いが、例えば紫外線や電子線を硬化の手段として用いる
ときは表面を鏡面とした金属ロール；巳接触させつつ反
対側（基材側）より照射を行なえば足り、特に電子線を
用いるときは塗布と同じ速度で硬化させ平滑度の高い塗
布硬化面が得られる。
これらの化合物を塗布する方法としては、ロールコート
法、カーテンフローコート法、ワイヤーバーコード法、
グラビアロールコート法、エアナイフコート法等の公知
の方法を用いることが出来、放射線を照射して硬化させ
るときは例えば、コツクロフトワルトン型、バンプグラ
フ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイ
ナミドロン型、高周波型等の各種電子線加速機から放出
され、５０〜１０００ＫｅＶ。
好ましくは１００〜３００　ＫｅＶの範囲のエイ・ルギ
ーを持つ電子線を用い、窒素等の不活性ガス雰囲気中で
用いるか又は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハラ
イドランプ、クセノンアーク灯などにキる紫外線等を用
いる。
なお、放射線として紫外線を用いるときは、前記した放
射線硬化性塗料にベンゾイン、ベンツインエーテル、ベ
ンゾフェノン、ベンジル、キｆントン等或いはこれらの
誘導体を紫外線増感剤として添加して用いる。
光学記録層３を構成する材料としてはレーザー光などに
より穿孔可能なもの、屈折率が変化するもの、発色する
もの、或いは泡が形成されるものであればいずれでもよ
く、例えば穿孔型としては、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐｂ、　Ｃｄ
、Ｂｉ、Ｓｎ、　８ｅ。
Ｉｎ　、　Ｇａ　、　０ｕ−８ｎなどの金属や合金、フ
タロ、、’　７　二ｙなどの色素、Ｔｅ−０，Ｔｅ−０
８２，Ｔｅ−色素、Ｔｅ−ニトロセルロース、　Ａ５−
ゼラチンなどのような金属と有機物との複合体力１使え
る。屈折率が変化するものとしては、ＴｅＯｘ　。
Ｓｂ　−Ｓｅ　、Ａｓ８ｅＴｅなど、又、泡が形成され
る材料としては金属と有機物の積層体などが使える。
光学記録層の厚みは、穿孔型の金属薄膜は、５０〜１０
００Ｘ、屈折率変化型の金属薄膜は、５００〜２ｏｏｏ
Ｘであり、いずれも、蒸着法、スパッタリング法、メッ
キ法などにより得られる。また金属と有機物との複合体
の有機物薄膜は、有機物を溶解させた溶液をロールコー
ト、グラビアコート、スピンナーコートなどのコート法
やスパッタリング法やプラズマ爪合法などにより膜厚０
．１〜ｌ　Ｑ　Ｊｉｍ程度になるよう形成する。
次に接着層４を構成する材料としては、塩化ビニル／酢
酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル／プロピオン酸共重合体、ゴム系樹脂、シアノ
アクリレート樹脂、セ／ｌ／ロース系樹脂、アイオノマ
ー樹脂、ポリオレフィン系共重合体等を用いることが出
来、又、その塗布方法としては、ロールコート、グラビ
アコート、リバースコートその他の通常のコーティング
方式、或はオフセット、グラビア、スクリーン印刷等の
通常の印刷方式等を用いることができる。
接着層の厚みは１〜５０μｍが好ましい。
本発明の光学記録層転写用シートは基本的には以上のよ
うな構成からなっているが、基材１と透明合成樹脂保護
層２の転写時の剥離を確実にする意味で剥離性層５を介
在させてもよく、剥離性層を構成する材料としては、ポ
リメチルメタクリレート樹脂を主体とし、さらに、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニドミセルロース樹脂、
ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等を適宜混合
してなるもの、セルロースアセテ−ドブ千レート樹脂や
セルロースアセテート樹脂等のセルロース系樹脂に、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の熱硬化性樹脂或いはポリエチレンワックス
、シリコーンオイルを適宜混合してなるもの等を用いる
ことができるが、これら以外のものであっても良く、基
材１との剥離強度が、保護層２との剥離強度よりも小さ
くな不よう選択して用いる。又、上記剥離層を支持体に
設ける方式としては、公知のコーティング方法である、
グラビアロールコート法、ロールコーＢＬ　エアーナイ
フコート法、ワイヤーバーコード法、カーテンフローコ
ート法等の方法を用いることができ、塗布量としては０
１〜５、Ｏｎｍが好ましい。
本発明の光学記録層転写用シートの使用方法を第３図に
より説明すると、例えば適宜なカード基材６の表面に光
学転写層記録用シートの接着剤層４が接触するようにし
て徂ね、光学記録層７の所定の形状に合わせて作成した
熱板８を用いてプレスし転写を行ない、その後、ノ＾材
１を剥離することにより、記録層７がカード基材６上に
形成される。
ここでカード基材６を用いればカードが、又。
通帳やその他の基材を用いＩｔばカード以外の記録媒体
が製造できる。カード基材としては剛性を有し、かつ、
熱融着や各種の印刷等の加工に適したものであればいず
れでもよいが、通常、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アクリル樹
脂、スチレン樹脂、ビニルブチラール樹脂、アセチルセ
ルロース樹脂、スチレン−ブタジエン共重合樹脂、ポリ
エチレン樹脂、フッ素樹脂等の合成樹脂が使用でき、な
かでも塩化ビニル樹脂が加工の容易さの点で用いられる
。この他、紙、金属箔等、及び以上の各材料の複合体も
使用しうる。本発明をカードに応用するときは、更に磁
気記録層や写真、彫刻画像、ｒｅメモリ、文字、マーク
、浮出し文字等を設けても差支えなく、他の記録媒体に
応用する際にも同様である。
なお、カード基材が紙や合成樹脂である場合は外見上は
光の反射率が高くても光学記録層の光の反射率よりも実
際には低いのが普通であるので、情報の再生が可能であ
る。しかし、再生の際のＳ／Ｎ比を向上させたり、或い
は金属の鏡面を表面に有する基材を用いるときは予め基
材の表面に光の反射率の低い低反射層を積層するとよく
、例えばカード基材の表面に光学的反射濃度の高い（即
ち光の反射率の小さい）インキ層を設けたり、無反射ク
ロムを蒸着させたり、或いは着色した合成樹脂フィルを
貼り合わせることにより低反射層を形成する。勿論以上
のような低反射層は本発明の光学記録層転写用シートの
光学記録層と接着層の間に形成しておいてもよく、この
とき、必要に応じ、光学記録層と低反射層の間に接着層
を介在させてもにい。
（発明の効果） 本発明の光学記録層転写用シートは巻き取りで連続的に
製造できるので製造効率が高く、又、所定の形状の熱板
を用いてプレスすることにより、記録媒体の所定の位置
に所定の形状の光学記録層を形成することができる。
実施例１ 厚み２５μｍのポリエステルフィルムに、下記組成から
なる剥離剤をバーコードにより塗布し乾燥させた。
次に上記塗布面上に下記組成物を用い、バーコードにて
塗布厚みｊ　ｔｔｍになるよう塗布し、フォトマスク用
の表面の平滑なガラス板　□を塗布面に密着させ、その
まま塗布層を硬化させ、硬化後、剥離して保護層とした
。
続いて保護層上に蒸着法（二よりＴｅ薄膜を厚み２００
λになるよう形成し、その後、塩ビー酢ビ共重合樹脂を
主成分とする組成物を用いて塗布厚み５μｍの接着剤層
をバーコードにて形成し、転写用シートとした。
得られた光記録転写シートを厚み０７朋の硬質塩化ピニ
ルンート製のカードに接着剤層が接触するようにして重
ね、熱プレスにより加熱加工し接着させポリエステルフ
ィルムを剥離した。
得られた光記録カードは、Ｈｅ　−Ｈｅレーザー光（８
７ｒＬＷ）をＮＡ＝０．４５のレンズで集光させて１０
μｓｅｃの時間で書込み、２μｍ径のビットを形成し、
ピット部の反射率が周囲にくらべ８０％低下することを
確認した。
実施例２ 実施例１と同様にして厚み２５ノｔｍのポリエステルフ
ィルム上にアクリル樹脂を主成分とする剥離層を得た。
次に保護剤として下記の組成のものをバーコードにて塗
布し、鏡面仕」二げしたステンレス板表面に密着した。
ステンレス板；二相着後、窒素雰囲気中で加速電圧１５
０　ＫｅＶ、照射電流５ｍＡ、照射線社５　Ｍｒａｄの
カーテン状電子線をポリエステルフィルム面から照射し
、塗膜を硬化させた後、ガラス面から剥離した。
得られた積層シート上に、スパッタリング法により、Ｓ
ｎ　−Ｏｕ合金ターゲット（Ｏｕ、１．５重量％）を用
い、厚み２００ＸのＳｎ　−Ｏｕ薄膜を設け、次に塩ビ
ー酢ピ共重合樹脂を主成分とする接着剤組成物を厚み５
μｍとなるようにバーコードにて塗布して転写用シート
を得た。
以下実施例１と同様（二して得たカードは、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザー（５ｙｘＷ）を用い１０／ｆｓｅｃで書込み、
読み取れることを確認した。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は本発明の光学記録層転写用ｖ−）
の断面図、第５図は転写の様子を示す断面図、第４図は
転写により得られる記録媒体の例を示す断面図である。 １−・・・・・・・・・・・・・・・・・基　月２・・
・・・・・・・・・・・・・・・・保護層３・・・・・
・・・・・・・・・・・光学記録層４・・・・・・・・
・・・・・・・・・・接着剤層５・・・・・・・・・・
・・・・・・・・剥離性層６・・・・・・・・・・・・
・・・・・・カード基材７・・・・・・・・・・・・・
・・・・・記録層８・・・・・・・・・・・・・・・・
・・熱　板特許出願人　大日本印刷株式会社 牙１図 牙　３ｒｌ！Ｊ 牙４図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）剥離性基材の剥離性表面に透明合成樹脂保護層、
    光学記録層、および接着剤層が順次積層されていること
    を特徴とする光学記録層転写用シート。
JP58168054A 1983-09-12 1983-09-12 光学記録層転写用シ−ト Granted JPS6058894A (ja)

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