JP2764566B2 - 光学記録層転写用シートの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明はＩＤカードや通帳な
どの記録媒体にレーザー光等で光学的に記録するための
光学記録層を転写法により形成するのに適した光学記録
層転写用シートの製造方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】キャッシュカード、クレジットカード、
自分証明用カード等のＩＤカード、金融機関の預金通
帳、あるいは情報記録カードなどの記録媒体の記録層と
しては磁気層が広く使用されているが、磁気記録の記録
密度は概して小さく、又、普及している反面、偽造の発
生頻度も高く、このため、他の記録密度の高い、偽造の
困難な記録層が望まれている。磁気層以外の記録層とし
ては集積回路（ＩＣ）を利用したものやレーザー光等で
記録する光学記録層とが代表的なものとして提案され、
かつ検討されており、中でも光学記録層は記録密度の高
い点で有望視されている。 【０００３】このような光学記録層は多くは低融点の金
属を蒸着等により記録媒体の所定の箇所に薄膜として形
成することにより得られるが、記録媒体に直接的に記録
層を形成するのは効率が悪い上、所定の形状の記録層を
形成するにはマスクを使用しなければならない不便さも
ある。 【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術における欠点を解消し、光学記録層を効率的に、
しかも所望の形状に形成するための光学記録層転写用シ
ートの効率的な製造方法を提供することを課題とする。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明の光学記録層転写
用シートの製造方法の第１は、基材に放射線硬化性化合
物を塗布する工程、該放射線硬化性化合物塗布面を鏡面
部材に接触させつつ放射線を照射することにより硬化さ
せる工程、該硬化層上に金属薄膜からなる光学記録層を
形成する工程、光学記録層側に接着層を形成する工程、
の工程を少なくとも含むことを特徴とする。また、本発
明の光学記録層転写用シートの製造方法の第２は、基材
に剥離層を設ける工程、該剥離層上に放射線硬化性化合
物を塗布する工程、該放射線硬化性化合物塗布面を鏡面
部材に接触させつつ放射線を照射することにより硬化さ
せる工程、該硬化層上に金属薄膜からなる光学記録層を
形成する工程、光学記録層側に接着層を形成する工程、
の工程を少なくとも含むことを特徴とする。また上記の
方法において、鏡面部材が、表面を鏡面としたステンレ
ス板であることを特徴とする。 【０００５】 【発明の実施の形態】本発明の光学記録層転写用シート
の製造方法は、剥離性基材の剥離性表面に透明合成樹脂
保護層、光学記録層、および接着剤層を順次積層するこ
とを特徴とするものである。 第１図は、本発明の光学記
録層転写用シートの製造方法により製造されるシートの
断面図である。第１図に示すように転写用シートは、表
面が剥離性の基材１に透明合成樹脂保護層２、光学記録
層３、および接着剤層４が順次積層された構造となって
いる。 第２図は、本発明の光学記録層転写用シートの製
造方法により製造される他のシートの断面図である。第
２図に示すように転写用シートは、基材１の表面にまず
剥離性層５を設けており、その他は第１図のものと同様
である。以下、本発明を詳細に説明する。本願発明に供
される基材１としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、セルロースアセテート、ポリ
スチレン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポ
リプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、メチルペ
ンテン樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェ
ニレンオキシド、ポリサルホン、ポリフッ化エチレン、
ポリフッ化エチレンプロピレン、ポリエーテルイミド、
ポリイミド等のプラスチックフィルム、銅、アルミニウ
ム等の金属箔、紙と前記のプラスチックフィルム又は金
属箔のラミネート品等が使用でき、耐熱性、機械的強
度、平滑性および現状の価格を考慮するとポリエステル
フィルムが好ましいが、特に制限されるものではない。
基材の厚みは１〜５００ミクロン、好ましくは５〜５０
ミクロンである。 【０００６】次に保護層を形成するための材料として
は、電子線、または紫外線等の放射線により硬化する硬
化性化合物が使用できる。電子線、紫外線等の放射線照
射により重合し、硬化する化合物としては不飽和ポリエ
ステル類、アクリレート類、チオール・エン類、エポキ
シ・ルイス酸類が使用できる。保護層２の厚みは０．５
ミクロン〜２．０ミクロン、好ましくは１〜５００ミク
ロンである。 【０００７】なお、保護層２を形成する際には保護層２
の光学記録層３と接する面の平滑度が高くなるようにし
ておくと、このような光学記録層転写用シートを用いて
得られる光学記録層の表面の平滑性が向上し、光学記録
の精度が向上して読みとりの際のエラーが低下して好ま
しい。平滑度を高めるためには予め表面を鏡面とした金
属、ガラスなどの面に未硬化の塗布層を接触させつつ硬
化させればよいが、例えば紫外線や電子線を硬化の手段
として用いるときは表面を鏡面とした金属ロールに接触
させつつ反対側（基材側）より照射を行なえば足り、特
に電子線を用いるときは塗布と同じ速度で硬化させ平滑
度の高い塗布硬化面が得られる。 【０００８】これらの化合物を塗布する方法としては、
ロールコート法、カーテンフローコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアロールコート法、エアナイフコー
ト法等の公知の方法を用いることができ、放射線を照射
して硬化させるときは例えば、コックロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速機から放出され、５０〜１０００ＫｅＶ、好まし
くは１００〜３００ＫｅＶの範囲のエネルギーを持つ電
子線を用い、窒素等の不活性ガス雰囲気中で用いるか又
は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、クセノンアーク灯などによる紫外線等を用いる。 【０００９】尚、放射線として紫外線を用いるときは前
記した放射線硬化性塗料にベンゾイン、ベンゾインエー
テル、ベンゾフェノン、ベンジル、キサントン等或いは
これらの誘導体を紫外線増感剤として添加して用いる。
光学記録層３を構成する材料としてはレーザー光などに
より穿孔可能なもの、あるいは泡が形成されるものであ
ればいずれでもよく、例えば穿孔型としては、Ｓｂ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｃｕ
−Ｓｎなどの金属や合金、フタロシアニンなどの色素、
Ｔｅ−Ｃ、Ｔｅ−ＣＳ２、Ｔｅ−色素、Ｔｅ−ニトロセ
ルロース、Ａｇ−ゼラチンなどのような金属と有機物と
の複合体が使える。又、泡が形成される材料としては金
属と有機物の積層体などが使える。 【００１０】光学記録層の厚みは、穿孔型の金属薄膜は
５０〜１０００オングストロームであり、蒸着法、スパ
ッタリング法、メッキ法などにより得られる。また金属
と有機物との複合体の有機薄膜は、有機物を溶解させた
溶液をロールコート、グラビアコート、スピンナーコー
トなどのコート法やスパッタリング法やプラズマ重合法
などにより膜厚０．１〜１０ミクロン程度になるように
形成する。次に接着層４を構成する材料としては、塩化
ビニル／酢酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル／プロピオン酸共重合体、ゴム系樹
脂、シアノアクリレート樹脂、セルロース系樹脂、アイ
オノマー樹脂、ポリオレフィン系共重合体等を用いるこ
とができ、又、その塗布方法としては、ロールコート、
グラビアコート、リバースコートその他の通常のコーテ
ィング方法、或いはオフセット、グラビア、スクリーン
印刷等の通常の印刷方式等を用いることができる。接着
層の厚みは１から５０ミクロンが好ましい。 【００１１】本発明の光学記録層転写用シートの製造方
法で得られる光学記録層転写用シートは基本的には以上
の様な構成からなっているが、基材１と透明合成樹脂保
護層２の転写時の剥離を確実にする意味で剥離性層５を
介在させてもよく、剥離性層を構成する材料としては、
ポリメチルメタクリレート樹脂を主体とし、さらに、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹
脂、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等を適宜
混合してなるもの、セルロースアセテートブチレート樹
脂やセルロースアセテート樹脂等のセルロース系樹脂
に、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポ
リウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂あるいはポリエチレン
ワックス、シリコーンオイルを適宜混合してなるもの等
を用いることができるが、これら以外のものであっても
よく、基材１との剥離強度が、保護層２との剥離強度よ
りも小さくなるよう選択して用いる。又、上記剥離層を
支持体に設ける方式としては、公知のコーティング方法
である、グラビアロールコート法、ロールコート法、エ
アーナイフコート法、ワイヤーバーコート法、カーテン
フローコート法等の方法を用いることができ、塗布量と
しては０．１〜３．０ミクロンが好ましい。 【００１２】本発明の光学記録層転写用シートの製造方
法で得られる光学記録層転写用シートの使用方法を第３
図により説明すると、例えば適宜なカード基材６の表面
に光学記録層転写用シートの接着剤層４が接触するよう
にして重ね、光学記録層７の所定の形状に合わせて作製
した熱板８を用いてプレスし転写を行ない、その後、基
材１を剥離することにより、記録層７がカード基材６上
に形成される。ここでカード基材６を用いればカード
が、又、通帳やその他の基材を用いればカード以外の記
録媒体が製造できる。カード基材としては剛性を有し、
かつ、熱融着や各種の印刷等の加工に適したものであれ
ばいずれでも良いが、通常、塩化ビニル樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ビニルブチ
ラール樹脂、アセチルセルロース樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合樹脂、ポリエチレン樹脂、フッ素樹脂等の
合成樹脂が使用でき、なかでも塩化ビニル樹脂が加工の
容易さの点で用いられる。このほか、紙、金属箔等、及
び各材料の複合体も使用し得る。本発明をカードに応用
するときには、更に磁気記録層や写真、彫刻画像、ＩＣ
メモリ、文字、マーク、浮出し文字等を設けても差し支
えなく、他の記録媒体に応用する際にも同様である。 【００１３】尚、カード基材が紙や合成樹脂である場合
は外見上は光の反射率が高くても光学記録層の光の反射
率よりも実際には低いのが普通であるので、情報の再生
が可能である。しかし、再生の際のＳ／Ｎ比を向上させ
たり、或いは金属の鏡面を表面に有する基材を用いると
きには予め基材の表面に光の反射率の低い低反射層を積
層するとよく、例えば、カード基材の表面に光学的反射
濃度の高い（すなわち光の反射率の小さい）インキ層を
設けたり、無反射クロムを蒸着させたり、或いは着色し
た合成樹脂フィルムを貼り合わせることにより低反射層
を形成する。勿論以上のような低反射層は本発明の製造
方法で得られる光学的記録層転写用シートの光学記録層
と接着層の間に形成しておいてもよく、このとき、必要
に応じ、光学記録層と低反射層の間に接着層を介在させ
てもよい。 【００１４】 【発明の効果】本発明の光学記録層転写用シートの製造
方法では、光学的記録層転写用シートを巻き取りにより
連続的に製造できるので製造効率が高く、又、所定の形
状の熱板を用いてプレスすることにより、記録媒体の所
定の位置に所定の形状の光学記録層を形成することがで
きる。 【００１５】 【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。ただし以
下の実施例は本発明の内容を制限するものではない。厚
み２５ミクロンのポリエステルフィルムに、下記組成か
らなる剥離層をバーコートにより塗布し、乾燥させた。 ・アクリル樹脂（三菱レーヨン社製 ダイヤナールＢＲ
９０）・・・２０重量部・塩ビ−酢ビ 共重合樹脂（ユ
ニオンカーバイド社製 ビニライトＶＹＨＨ）・５重量
部 ・メチルエチルケトン・・・５０重量部 ・トルエン・・・２５重量部 【００１６】次に、上記塗布面上に、保護剤として下記
の組成のものを用い、バーコートにて塗布し、鏡面仕上
げしたステンレス板表面に密着した。 ・ポリウレタンアクリレート（ポリクローム社製 ＤＶ
−５３） ５０重量部 ・ポリエステルアクリレート（東亜合成化学社製 アロ
ニクスＭ−１７００）５０重量部 ステンレス板に密着後、窒素雰囲気中で加速電圧１５０
ＫｅＶ、照射電流５ｍＡ、照射線量５Ｍｒａｄのカーテ
ン状電子線をポリエステルフィルム面から照射し、塗膜
を硬化させた後、ステンレス板面から剥離した。 【００１７】得られた積層シート上に、スパッタリング
法により、Ｓｎ−Ｃｕ合金ターゲット（Ｃｕ１．５重量
％）を用い、厚み２００オングストロームのＳｎ−Ｃｕ
薄膜を設け、次に塩ビ−酢ビ共重合樹脂を主成分とする
接着剤組成物を厚み５ミクロンとなるようにバーコート
にて塗布して転写用シートを得た。得られた光記録転写
シートを厚み０．７ミリメートルの硬質塩化ビニルシー
ト製のカードに接着剤層が接触するようにして重ね、熱
プレスにより加熱加工し接着させポリエステルフィルム
を剥離した。得られた光記録カードは、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザー光（５ｍＷ）をＮＡ＝０．４５のレンズで集光させ
て１０マイクロｓｅｃの時間で書込み、読みとれること
を確認した。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されるシートの断面図である。 【図２】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造される他のシートの断面図である。 【図３】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されたシートをカード基材に適用する１態様を
示す断面図である。 【図４】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されるシートをカード基材に転写したところを
示す断面図である 【符号の説明】 １・・・基材、２・・・保護層、３・・・光学記録層、
４・・・接着剤層、５・・・剥離性層、６・・・カード
基材、７・・・記録層、８・・・熱板

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．基材に放射線硬化性化合物を塗布する工程、該放射
   線硬化性化合物塗布面を鏡面部材に接触させつつ放射線
   を照射することにより硬化させる工程、該硬化層上に金
   属薄膜からなる光学記録層を形成する工程、光学記録層
   側に接着層を形成する工程、の工程を少なくとも含むこ
   とを特徴とする光学記録層転写用シートの製造方法。 ２．基材に剥離層を設ける工程、該剥離層上に放射線硬
   化性化合物を塗布する工程、該放射線硬化性化合物塗布
   面を鏡面部材に接触させつつ放射線を照射することによ
   り硬化させる工程、該硬化層上に金属薄膜からなる光学
   記録層を形成する工程、光学記録層側に接着層を形成す
   る工程、の工程を少なくとも含むことを特徴とする光学
   記録層転写用シートの製造方法。 ３．鏡面部材が、表面を鏡面としたステンレス板である
   ことを特徴とする請求項１記載の光学記録層転写用シー
   トの製造方法。４．鏡面部材が、表面を鏡面としたステンレス板である
   ことを特徴とする請求項２記載の光学記録層転写用シー
   トの製造方法。