JPS58166099A - カ−ド - Google Patents
カ−ドInfo
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- JPS58166099A JPS58166099A JP57049716A JP4971682A JPS58166099A JP S58166099 A JPS58166099 A JP S58166099A JP 57049716 A JP57049716 A JP 57049716A JP 4971682 A JP4971682 A JP 4971682A JP S58166099 A JPS58166099 A JP S58166099A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- card
- heat
- metal
- synthetic resin
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本脅明は銀行キャツV−Lカード、身分証明証、クレジ
ットカード、入門証等のX 、D II−ド4:遍した
レーデ−記録等C二適したオード6:関するものである
。
ットカード、入門証等のX 、D II−ド4:遍した
レーデ−記録等C二適したオード6:関するものである
。
金属薄膜層を1材表面1;設け、レーデ−光等−:より
金属*g層の融解、変形、黒鉛を起こさせ、光学的な変
化を生じさせること(:より配録再生する事は既6二知
られている。かかる記録再生方式を前記のカードに応用
すると、磁気配録再生方式を応用した従来のカードにく
らべて、偽造が困難であること、及び新方式であるため
一二金属薄属層C二記録された暗証番号等の第三者6:
よる解続が比較的固−である利点を有している。
金属*g層の融解、変形、黒鉛を起こさせ、光学的な変
化を生じさせること(:より配録再生する事は既6二知
られている。かかる記録再生方式を前記のカードに応用
すると、磁気配録再生方式を応用した従来のカードにく
らべて、偽造が困難であること、及び新方式であるため
一二金属薄属層C二記録された暗証番号等の第三者6:
よる解続が比較的固−である利点を有している。
例えば白色のポリ塩化ビニル樹脂等の基材の一部にテ・
等の金属を蒸着し、j[(:透明なポラ塩化ビニルシー
トを融着させることにより一応のカードを作成すること
ができる。しかしながら例えば熱融着のためのプレス板
温度を150℃に設定すると、熱融着後のカードな纏察
すると金属の表面が熱融着1II4:鐘面であったのが
光散乱性となり、父、恐らく基材の表面が島により変化
するため轄晶模様のような模様が生じるため、光学記録
を行なっても再生上着しい支障を生じる。或いは上記の
例6:おいて温度を130゛Cに設定すると1″50℃
仁おける上記欠点は一応解消され・るが、光反射率が低
下L″′Cおり、再生上、再像部分と非−像部分のコン
トラストが上がらず、又、これ以下の温度1:下げると
熱融着そのものが行なわれないものである。
等の金属を蒸着し、j[(:透明なポラ塩化ビニルシー
トを融着させることにより一応のカードを作成すること
ができる。しかしながら例えば熱融着のためのプレス板
温度を150℃に設定すると、熱融着後のカードな纏察
すると金属の表面が熱融着1II4:鐘面であったのが
光散乱性となり、父、恐らく基材の表面が島により変化
するため轄晶模様のような模様が生じるため、光学記録
を行なっても再生上着しい支障を生じる。或いは上記の
例6:おいて温度を130゛Cに設定すると1″50℃
仁おける上記欠点は一応解消され・るが、光反射率が低
下L″′Cおり、再生上、再像部分と非−像部分のコン
トラストが上がらず、又、これ以下の温度1:下げると
熱融着そのものが行なわれないものである。
以上のような熱融雪の欠点を解消するため、ブース板の
形状を、若しくは使用する金型の形状を金属蒸着層部分
には温度及び圧力が掛からないよう該相当部分を除去、
若しくは凹みとする事も出来るが、プレス板若しくは金
製の加工の煩雑さがあり、見当合わせの問題もあり、又
、圧力の掛からない部分の平面性が保てない欠点がある
。j!にプレス板若しくは金型を工夫して金属蒸着層部
分C:当接する一分を冷却手段C;より冷却しておいて
圧力のみが掛かるようにすることも考えられるがプレス
板若しくは金型を製作するのは更4:工程を要するもの
である。
形状を、若しくは使用する金型の形状を金属蒸着層部分
には温度及び圧力が掛からないよう該相当部分を除去、
若しくは凹みとする事も出来るが、プレス板若しくは金
製の加工の煩雑さがあり、見当合わせの問題もあり、又
、圧力の掛からない部分の平面性が保てない欠点がある
。j!にプレス板若しくは金型を工夫して金属蒸着層部
分C:当接する一分を冷却手段C;より冷却しておいて
圧力のみが掛かるようにすることも考えられるがプレス
板若しくは金型を製作するのは更4:工程を要するもの
である。
゛ 本発明者は上記従来のカードの欠点を解消するため
種々検討を重ねた結果、予め耐熱性基材の表面C:金属
薄膜層を設けて記録材料片を作成し、かかる記録材料片
を用いてカード基材と透明合成II脂&−)の関I装置
いて周辺なり一部したカードとすることにより、上記し
た欠点が解消されることを見出して本発明仁到達したも
のである。
種々検討を重ねた結果、予め耐熱性基材の表面C:金属
薄膜層を設けて記録材料片を作成し、かかる記録材料片
を用いてカード基材と透明合成II脂&−)の関I装置
いて周辺なり一部したカードとすることにより、上記し
た欠点が解消されることを見出して本発明仁到達したも
のである。
即ち、本発明は、熱融着可能な表面を有するカード基材
の該表面の一部に、予め耐熱性基材の表面の少なくとも
一部に金属#膜層が設けられている記録材料片が載置さ
れ、更にカード基材の表面及び記録材料片を含む全面(
:熱融着可能な透明合成樹脂V−)が被覆され、かつ、
金属薄膜層以外の部分が熱融雪により封止されているこ
とを特徴とするカードに関するものである。
の該表面の一部に、予め耐熱性基材の表面の少なくとも
一部に金属#膜層が設けられている記録材料片が載置さ
れ、更にカード基材の表面及び記録材料片を含む全面(
:熱融着可能な透明合成樹脂V−)が被覆され、かつ、
金属薄膜層以外の部分が熱融雪により封止されているこ
とを特徴とするカードに関するものである。
以下、本発明について図面に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明のカード1の一実施態様を示す模式的な
断面図である。第1図は、カード基材2と透明合成樹脂
シート3とが、それらの周囲が熱融雪により封止され、
かつ、それらの闇に耐熱性基材4の表面−二金属薄膜層
5が設けられている記録材料片6が挾持されているカー
ド1を示すものである。
断面図である。第1図は、カード基材2と透明合成樹脂
シート3とが、それらの周囲が熱融雪により封止され、
かつ、それらの闇に耐熱性基材4の表面−二金属薄膜層
5が設けられている記録材料片6が挾持されているカー
ド1を示すものである。
上記の実施態様に宿って、カードの各部分を構成する材
料及び製造法5二ついて次に説明すると、まず基材とし
ては次のようなものが使用可能であって、即ち、ポリ塩
化ビニル樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合樹脂、ポ
リ塩化ビニリデン樹脂、ポリメタクリル酸メtル等のア
クリ)糸樹脂、ポリステ&/y樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂、アセチルセルロース411111 、スチレ
ン/ブタジェン共重合樹脂等の合成樹脂シート若しくは
板が使用され、通常は磁気カードと同様の表面の白いポ
リ塩化ビニル樹脂V−)が使用される。或いは以上のよ
うな合成樹脂シート以外を二、鉄、ステンレス、アルミ
ニりA、M、銅、亜鉛等の金11I4Wi若しくは板や
、紙、合成紙等も使用でき、以上の各材料は単独若しく
は補強を行ない、N1:表面C二必#仁応じ合成樹脂層
を設けて熱融着可能にしたものを用いる。或いは更C:
上記したごとき各材料を適宜複合して所要の性状を5付
与せtめてもよい。なお後記する透明合成樹□脂シート
の内(二は金属−材と熱融着可能なものもあるので、そ
のような場合4:はカード基材として金属箔若しくは金
属板が少なくとも表面にあるようなものも使用しうる。
料及び製造法5二ついて次に説明すると、まず基材とし
ては次のようなものが使用可能であって、即ち、ポリ塩
化ビニル樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合樹脂、ポ
リ塩化ビニリデン樹脂、ポリメタクリル酸メtル等のア
クリ)糸樹脂、ポリステ&/y樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂、アセチルセルロース411111 、スチレ
ン/ブタジェン共重合樹脂等の合成樹脂シート若しくは
板が使用され、通常は磁気カードと同様の表面の白いポ
リ塩化ビニル樹脂V−)が使用される。或いは以上のよ
うな合成樹脂シート以外を二、鉄、ステンレス、アルミ
ニりA、M、銅、亜鉛等の金11I4Wi若しくは板や
、紙、合成紙等も使用でき、以上の各材料は単独若しく
は補強を行ない、N1:表面C二必#仁応じ合成樹脂層
を設けて熱融着可能にしたものを用いる。或いは更C:
上記したごとき各材料を適宜複合して所要の性状を5付
与せtめてもよい。なお後記する透明合成樹□脂シート
の内(二は金属−材と熱融着可能なものもあるので、そ
のような場合4:はカード基材として金属箔若しくは金
属板が少なくとも表面にあるようなものも使用しうる。
父、以上の説明ではカード基材は不透明のものを主i二
書いたが、再生用に反射光を使用する場合にはカード基
材は不透明のものでもよいが透過光を使用する場合には
カード基材としては透明なものを使用する必要があり、
この場合には特に透明性の合成樹脂シート若しくは板の
単独若しくは複合体が好ましく使用され、厚みとしては
100〜300.04−である。
書いたが、再生用に反射光を使用する場合にはカード基
材は不透明のものでもよいが透過光を使用する場合には
カード基材としては透明なものを使用する必要があり、
この場合には特に透明性の合成樹脂シート若しくは板の
単独若しくは複合体が好ましく使用され、厚みとしては
100〜300.04−である。
次(:力−ド基材の表面及び記録材料片を含む全面C二
被覆する透明合成樹脂V−ト3としては前記したカード
基材として挙げた合成樹脂シートのうち透明性の合成樹
脂り一ト若しくは板が好ましく使用され、厚みとしては
10〜2000μ箇である。これらの透明性の合成樹脂
V−)には熱融雪を可能(ニするため、熱融雪を行なう
方の面(:熱融着可能な合成樹脂層を積層したものであ
ってもよい。
被覆する透明合成樹脂V−ト3としては前記したカード
基材として挙げた合成樹脂シートのうち透明性の合成樹
脂り一ト若しくは板が好ましく使用され、厚みとしては
10〜2000μ箇である。これらの透明性の合成樹脂
V−)には熱融雪を可能(ニするため、熱融雪を行なう
方の面(:熱融着可能な合成樹脂層を積層したものであ
ってもよい。
次に記録材料片6を構成する耐熱性基材4について説明
すると、耐熱性基材4としては表面が平滑で、かつ、熱
融看時に変形若しくは変化を生じないものが好ましい。
すると、耐熱性基材4としては表面が平滑で、かつ、熱
融看時に変形若しくは変化を生じないものが好ましい。
その意味で耐熱性基材4の軟化点はカード基材や表面被
覆用の透明合成樹脂シートの融雪温度よりも高いことが
望ましく、なお、言うまでもないが、該融雪温度は金属
薄一層の融点以下であることが好ましい、父、耐熱性基
材4の平面性の点では廖液流延法でつくられるポリカー
ボネートフィルムや二輪延伸配向したポリエステルフィ
ルムが好ましい、或いは平面性を良好にするため耐熱性
基材4の表面C:更に耐熱性合成樹脂層を塗布、嬉融塗
布等により積層してもよい。
覆用の透明合成樹脂シートの融雪温度よりも高いことが
望ましく、なお、言うまでもないが、該融雪温度は金属
薄一層の融点以下であることが好ましい、父、耐熱性基
材4の平面性の点では廖液流延法でつくられるポリカー
ボネートフィルムや二輪延伸配向したポリエステルフィ
ルムが好ましい、或いは平面性を良好にするため耐熱性
基材4の表面C:更に耐熱性合成樹脂層を塗布、嬉融塗
布等により積層してもよい。
以上のような耐熱性基材としてはポライミド、ポリエス
テル、ナイロン、ビニロン、ポリカーボネート、ポリス
ルホン、ポリパラキレリレン、ポリキノザン、ポリベン
ズイミダゾール、ボッフェニレン−トリアゾール、ポリ
オキfPアゾール、ポリオキデミド、フェノールフタレ
ンポリマー、ポリオキシ安息香酸等のフィルム若しくは
シート、或いは上記の耐熱性基材として挙げたもの及び
その他の熱可−性合成樹脂並びにその他のフィルム若し
くはシートな架橋剤の作用や紫外線、電子線等の照射C
二より架橋させたものでも使用できる。
テル、ナイロン、ビニロン、ポリカーボネート、ポリス
ルホン、ポリパラキレリレン、ポリキノザン、ポリベン
ズイミダゾール、ボッフェニレン−トリアゾール、ポリ
オキfPアゾール、ポリオキデミド、フェノールフタレ
ンポリマー、ポリオキシ安息香酸等のフィルム若しくは
シート、或いは上記の耐熱性基材として挙げたもの及び
その他の熱可−性合成樹脂並びにその他のフィルム若し
くはシートな架橋剤の作用や紫外線、電子線等の照射C
二より架橋させたものでも使用できる。
以上のような耐熱性基材は更に次紀の金属薄膜層を表面
に形成した後、加熱C:より変形若しくは変化して金属
薄膜層表面を光散乱性C二したり、結晶模様のような模
様が生じないだけでなく、謝1:q性があって、金属薄
膜層の表面の平面性を使用中(二維持し得るものか好ま
しい。このような剛性は前記した基材C二も当然の事な
がら必要とされる。父、耐熱性基材としては透過光で再
生するため(:は透明のものが犠ましいが、反射光で再
生するためI:はコントラスト向上のため黒色のものが
望ましい。
に形成した後、加熱C:より変形若しくは変化して金属
薄膜層表面を光散乱性C二したり、結晶模様のような模
様が生じないだけでなく、謝1:q性があって、金属薄
膜層の表面の平面性を使用中(二維持し得るものか好ま
しい。このような剛性は前記した基材C二も当然の事な
がら必要とされる。父、耐熱性基材としては透過光で再
生するため(:は透明のものが犠ましいが、反射光で再
生するためI:はコントラスト向上のため黒色のものが
望ましい。
上記耐熱性基材の表面に設ける金属薄膜層としては各種
の金属を用いて公知の方法−二より形成することができ
る。金属としては、011丁1. ?@。
の金属を用いて公知の方法−二より形成することができ
る。金属としては、011丁1. ?@。
Co、Mi、81、Mn、Ou、ム曳ムg、 Go、ム
飢ム1、Mg、 ilb、?j ZJPζ0ζB1、s
n、g・、ニーG&等が使用でき。、なかでも記録に必
要なエネルギー密度が小さい点でテ・、B1.8n、I
n等の低融点金属が好ましく使用される。
飢ム1、Mg、 ilb、?j ZJPζ0ζB1、s
n、g・、ニーG&等が使用でき。、なかでも記録に必
要なエネルギー密度が小さい点でテ・、B1.8n、I
n等の低融点金属が好ましく使用される。
これらの金属は1種又は211以上混合して用いること
ができる。更にこれらの金属を用いて金属薄膜層を設け
る方法としては真空蒸着、スパッタリング、イオンブレ
ーティング、プラズマ蒸着、電気めっき、無電解めっき
等の公知の方法により行なえる。金属薄膜層の厚みとし
ては100〜1000ム、好ましくは200〜500ム
である。1001未満では再生時(:得られる画像部と
非画像部のコントラストが小さく読取りが困難となり、
又、1000Xを越えると、記録エネルギー(81度)
のしきい値が高くなる上、例えば−像部であるビットの
形状が悪くなり、続取りが困難となって好ましくないも
のである0以上の厚みの金属薄膜層は上記したいずれの
方法によっても行なえるが、真空蒸暑、プラズマ蒸着等
の蒸着中スパッタリングが拘−かつ効率的に行なえる方
法として適している。
ができる。更にこれらの金属を用いて金属薄膜層を設け
る方法としては真空蒸着、スパッタリング、イオンブレ
ーティング、プラズマ蒸着、電気めっき、無電解めっき
等の公知の方法により行なえる。金属薄膜層の厚みとし
ては100〜1000ム、好ましくは200〜500ム
である。1001未満では再生時(:得られる画像部と
非画像部のコントラストが小さく読取りが困難となり、
又、1000Xを越えると、記録エネルギー(81度)
のしきい値が高くなる上、例えば−像部であるビットの
形状が悪くなり、続取りが困難となって好ましくないも
のである0以上の厚みの金属薄膜層は上記したいずれの
方法によっても行なえるが、真空蒸暑、プラズマ蒸着等
の蒸着中スパッタリングが拘−かつ効率的に行なえる方
法として適している。
以上の各材料を用いて第1図直:示したオードを製造す
るには、第2図に示すごとく、カード基材2の表面の所
定の位置に、予め耐熱性基材4の表面に金属薄膜層5v
t設は所定の寸法題:裁断した記録材料片6を載置し、
その上から全面C:透明合成樹脂シートで覆い、プレス
熱板7及び7’iig二挾持して加熱及び加圧すればよ
い。加熱及び加圧の条件は材料(二よっても異なるが温
度としては100〜300°C1圧力としては40〜4
Q Q El/cdであり、時間としては通常20〜
60分程度である。以上のように加熱及び加圧すること
C:よりカード基材2と透明合成樹脂シートとが記録材
料片が置かれた以外の部分において熱融着し封止される
。
るには、第2図に示すごとく、カード基材2の表面の所
定の位置に、予め耐熱性基材4の表面に金属薄膜層5v
t設は所定の寸法題:裁断した記録材料片6を載置し、
その上から全面C:透明合成樹脂シートで覆い、プレス
熱板7及び7’iig二挾持して加熱及び加圧すればよ
い。加熱及び加圧の条件は材料(二よっても異なるが温
度としては100〜300°C1圧力としては40〜4
Q Q El/cdであり、時間としては通常20〜
60分程度である。以上のように加熱及び加圧すること
C:よりカード基材2と透明合成樹脂シートとが記録材
料片が置かれた以外の部分において熱融着し封止される
。
以上、本発明の一実施′態様について述べたが、本発明
は以上説明したカードのみを対象とするものでなくj!
(二次のようなものも含まれる。なお、以下の説明Cお
いて使用する材料、及び製造方法は特に断わらない限り
は上記の実施態様の説明中C:述べた事と同じであ゛る
。
は以上説明したカードのみを対象とするものでなくj!
(二次のようなものも含まれる。なお、以下の説明Cお
いて使用する材料、及び製造方法は特に断わらない限り
は上記の実施態様の説明中C:述べた事と同じであ゛る
。
slに、上記の説明においては記録材料片6を金属薄膜
層5が透明合成樹脂シート3と接するように載置したが
、第3図に示すように透明な耐熱性合成樹脂基材4Iを
用い、透明な耐熱性合成樹脂基材4Iが透明合成樹脂シ
ート3と接するよう(=載置してもよく、このようにす
ると、!!2図(:示す形のカードにくらべ透明合成樹
脂v−ト5の下g二気泡が発生する率が減少する。
層5が透明合成樹脂シート3と接するように載置したが
、第3図に示すように透明な耐熱性合成樹脂基材4Iを
用い、透明な耐熱性合成樹脂基材4Iが透明合成樹脂シ
ート3と接するよう(=載置してもよく、このようにす
ると、!!2図(:示す形のカードにくらべ透明合成樹
脂v−ト5の下g二気泡が発生する率が減少する。
この理由は明らかではないが、透明合成樹−シートと耐
熱性合成樹脂基材とのなじみが透明合成IIMllli
1シートと金属薄編−とのなじみよりも良いためと考え
られる。
熱性合成樹脂基材とのなじみが透明合成IIMllli
1シートと金属薄編−とのなじみよりも良いためと考え
られる。
@2I:金属薄1iIK@としては単一のみならず、2
噛以上の複−としてもよい、或いは通常の金属薄−一の
上にヨウ化鉛V設けて記録感度V向上させたものも本発
明(:応用でとる。
噛以上の複−としてもよい、或いは通常の金属薄−一の
上にヨウ化鉛V設けて記録感度V向上させたものも本発
明(:応用でとる。
lLi5に配録材料片V第4図に示すごとく耐−件基材
4v接着−8v介してカード基材に固定してもよい、或
いはaS図に示すとと<115i#llのカード?=お
ける透明な耐熱性合成樹脂基材4′と透明台1樹脂シー
トとの関V接*−SV介して固定してもよい。このよう
に固定することにより、記録材料片の位置精度1確保す
ることができる。或いは以上のように耐熱性基材側を接
着するのではなく、−6rjA及び1117@lに示す
ようm=金属薄膜−側を接着する。・と5表−の電離と
共に記録材料片上の金属薄部−が破壊され、偽造の防止
もできる。!IIIIIIは接着剤組藪物若しくは熱融
看性合l!樹1&r用いて構成することがで良心。
4v接着−8v介してカード基材に固定してもよい、或
いはaS図に示すとと<115i#llのカード?=お
ける透明な耐熱性合成樹脂基材4′と透明台1樹脂シー
トとの関V接*−SV介して固定してもよい。このよう
に固定することにより、記録材料片の位置精度1確保す
ることができる。或いは以上のように耐熱性基材側を接
着するのではなく、−6rjA及び1117@lに示す
ようm=金属薄膜−側を接着する。・と5表−の電離と
共に記録材料片上の金属薄部−が破壊され、偽造の防止
もできる。!IIIIIIは接着剤組藪物若しくは熱融
看性合l!樹1&r用いて構成することがで良心。
又%記録材料片として耐熱性基材の一部に、例えば周囲
を残して金属薄編1iIv形藪しておき、屑曲の部分V
透明台W樹脂シート若しくはカード基材と接着mv介し
て接着することもよい。
を残して金属薄編1iIv形藪しておき、屑曲の部分V
透明台W樹脂シート若しくはカード基材と接着mv介し
て接着することもよい。
このようにすると固定が可能である上に金属薄膜−への
プレス時の熱の影響や、WiIllilと金属薄amと
の化学反応による金属薄@着の腐食も防止で舞る。
プレス時の熱の影響や、WiIllilと金属薄amと
の化学反応による金属薄@着の腐食も防止で舞る。
1!lに本発明のカードには更に表面の耐摩耗性、耐汚
染性等の物理的及び化学的性状の向上のため透明保tI
II11v設けてもよく、熱可塑性合成樹脂及び/又は
熱硬化性合Flt樹睡旨Yベヒクルとする合成樹脂塗料
V塗布して設ける方法によっても行なえるが、更に効果
的な透明保護層ケ設けるには電離放射線硬化型の化合物
を用いた電、離放射線硬化型塗料を用いて塗布し、紫外
線若しくは電子線を用いて照射する方法感=よるとよい
。電離放射線硬化型の化合物としてはポリエステルアク
リレート、ポリエポキシアクリレート、ポリウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオ−ルア
クツレート等のアクリレート類、エポキシIlv有する
化合物と7リルジアゾニウム塩などのルイス酸との混合
物であるエポキシ−ルイス11111.二つ以上の不飽
和二重結合ヶ有する化合物、二つ以上のチオール(−s
n)vr有する化合物との混合物であるチオール・エン
化合物a、不飽和ポリエステル類等が使用で#る。
染性等の物理的及び化学的性状の向上のため透明保tI
II11v設けてもよく、熱可塑性合成樹脂及び/又は
熱硬化性合Flt樹睡旨Yベヒクルとする合成樹脂塗料
V塗布して設ける方法によっても行なえるが、更に効果
的な透明保護層ケ設けるには電離放射線硬化型の化合物
を用いた電、離放射線硬化型塗料を用いて塗布し、紫外
線若しくは電子線を用いて照射する方法感=よるとよい
。電離放射線硬化型の化合物としてはポリエステルアク
リレート、ポリエポキシアクリレート、ポリウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオ−ルア
クツレート等のアクリレート類、エポキシIlv有する
化合物と7リルジアゾニウム塩などのルイス酸との混合
物であるエポキシ−ルイス11111.二つ以上の不飽
和二重結合ヶ有する化合物、二つ以上のチオール(−s
n)vr有する化合物との混合物であるチオール・エン
化合物a、不飽和ポリエステル類等が使用で#る。
ii5に図示しないが、カード基材及び/又は透明合成
樹脂シートの記録材料片を設ける位置vtめエンボスそ
の他の方法により凹みY設けておくと、記録材料片?載
置しプレスする際に各材料歪みが起きに〈<、従って平
面性のよいカードが得やすい。或いはカード基材と透明
合成樹脂シートの間に、記録材料片と厚みがほり等しく
、4配録材料片が入る形状の貫通抜き六V設けたスベー
ナーシー)を介してカード【構成してもよく、この場合
、スペーナーシート自体な熱aIe性材料で構ヒするか
表裏に熱融雪性合威a+1l11sv形ピしておくとよ
い。
樹脂シートの記録材料片を設ける位置vtめエンボスそ
の他の方法により凹みY設けておくと、記録材料片?載
置しプレスする際に各材料歪みが起きに〈<、従って平
面性のよいカードが得やすい。或いはカード基材と透明
合成樹脂シートの間に、記録材料片と厚みがほり等しく
、4配録材料片が入る形状の貫通抜き六V設けたスベー
ナーシー)を介してカード【構成してもよく、この場合
、スペーナーシート自体な熱aIe性材料で構ヒするか
表裏に熱融雪性合威a+1l11sv形ピしておくとよ
い。
@6に金−薄一一自体は折り曲げや打撃にLり変形[や
すいのでカード基材や記録材料片の基材は成る01 <
剛性の高いものが望ましく、従って反射光再生型の場合
には金属若しく、は金属ケ用いた徐合体や周辺を金−枠
で補強り、たものが好ましい。透過光再生型の場合にも
記録材料片の周囲やカード基材を金属等で補強するとよ
く、ガラス緻細や金属細線等?用いて補強してもよい。
すいのでカード基材や記録材料片の基材は成る01 <
剛性の高いものが望ましく、従って反射光再生型の場合
には金属若しく、は金属ケ用いた徐合体や周辺を金−枠
で補強り、たものが好ましい。透過光再生型の場合にも
記録材料片の周囲やカード基材を金属等で補強するとよ
く、ガラス緻細や金属細線等?用いて補強してもよい。
嘱75=記録材料片の曲げによる変形な防止す。
るπめ、記録材料片12個以上4:分割してカード内に
封入してもよい。このようにすると曲げの力がカード基
材及び透明台1樹−旨シ−トの曲げ変形により緩和され
、記録材料片のf形を防止しうる。
封入してもよい。このようにすると曲げの力がカード基
材及び透明台1樹−旨シ−トの曲げ変形により緩和され
、記録材料片のf形を防止しうる。
擲8に本発明のカードは金属薄vilIw有す−る耐熱
性基材を記録用C:用いるものであるが、この他、lI
気紀録畷や写真、彫刻画像、文字、マーク、インプリン
トと称する浮き出し文字等を併設することは差支えない
。このようにすることにより、1枚のカードで種々の再
生様式6二対応でき、又、二重三重の偽造防止も可能で
ある。
性基材を記録用C:用いるものであるが、この他、lI
気紀録畷や写真、彫刻画像、文字、マーク、インプリン
トと称する浮き出し文字等を併設することは差支えない
。このようにすることにより、1枚のカードで種々の再
生様式6二対応でき、又、二重三重の偽造防止も可能で
ある。
1N 91:レーザー光4Y用いて記録し再生すら際に
は1本発明のカードは情報密度が高いために特に続み出
しの位置精gが間jil:なるので。
は1本発明のカードは情報密度が高いために特に続み出
しの位置精gが間jil:なるので。
予め線状のガイド部を設けておくとガイード部ケ基準に
読み出し1行なうことができる。かかるガイド部として
は金繊薄1[IN=レーザーで設けたm、黒色インキ等
のインキで印刷した線、断面がV字状、凹状等の溝を用
いることができ。
読み出し1行なうことができる。かかるガイド部として
は金繊薄1[IN=レーザーで設けたm、黒色インキ等
のインキで印刷した線、断面がV字状、凹状等の溝を用
いることができ。
それぞれレーザー光、可視光、触針等を用いて検出する
ことができる。
ことができる。
本発明は以上の構成を有するので通常のプレス、1用い
た熱融を法により何ら支障のない、レーザー光等で記録
再生の可能なカードV得ることができる。
た熱融を法により何ら支障のない、レーザー光等で記録
再生の可能なカードV得ることができる。
実施例1
厚み0.25−のポリエステルフィルムの表面にBnv
厚み4ooXになるよう蒸着した0次に厚み0.5關の
白色の塩化ビニ・ル樹脂シートの一部に、上記のIll
ポリエステルフィルムのフィルム面V白色の塩化ビニル
樹−シート側に接するように重ね、更にその上に厚みa
2mの透明塩化ビ五ル!Ii!脂シー)′Ik’lねて
liiき、プレス機を用いて150℃、120に/7の
条件で50分間加熱加圧して一体化しその後裁断してカ
ード状とした。
厚み4ooXになるよう蒸着した0次に厚み0.5關の
白色の塩化ビニ・ル樹脂シートの一部に、上記のIll
ポリエステルフィルムのフィルム面V白色の塩化ビニル
樹−シート側に接するように重ね、更にその上に厚みa
2mの透明塩化ビ五ル!Ii!脂シー)′Ik’lねて
liiき、プレス機を用いて150℃、120に/7の
条件で50分間加熱加圧して一体化しその後裁断してカ
ード状とした。
得られたカードの透明シート側からHe −Neレーザ
(5mW)%−集光し、100隅吻のパルス’Jt、w
変調して照射したところ10μ径のスポットが住じてお
り、以上の様にして記録したカードの記録部に0.5m
WのHe−Neシレーv集光させその反射光をビームス
プリッタ−な介してフォトダイオードで読取ることがで
央た。
(5mW)%−集光し、100隅吻のパルス’Jt、w
変調して照射したところ10μ径のスポットが住じてお
り、以上の様にして記録したカードの記録部に0.5m
WのHe−Neシレーv集光させその反射光をビームス
プリッタ−な介してフォトダイオードで読取ることがで
央た。
父1以上のようなカードなシートのみ剥そうとしたとこ
ろSnの蒸着−が破壊されてしまい、偽造不可能であっ
た。
ろSnの蒸着−が破壊されてしまい、偽造不可能であっ
た。
実施例2
厚み0.2F!allのポリエステルフィルムの表′1
にSnv厚みaoo′iになるよう蒸着した。次に厚み
05−の白色の塩化ビニル11141Mシー1ノーIt
lJ r=、 k Eの蒸着さ!またポリエステルフィ
ルムのフィルム面を白色の塩化ビニル411IRWIシ
ート側1:合わせ、Nに厚み0.2−の透明塩化ビニル
極脂シー)r*ねプレス機ケ用いて150℃、120
Kl/−dの条件で3Ω分間加熱加圧して一体化しに。
にSnv厚みaoo′iになるよう蒸着した。次に厚み
05−の白色の塩化ビニル11141Mシー1ノーIt
lJ r=、 k Eの蒸着さ!またポリエステルフィ
ルムのフィルム面を白色の塩化ビニル411IRWIシ
ート側1:合わせ、Nに厚み0.2−の透明塩化ビニル
極脂シー)r*ねプレス機ケ用いて150℃、120
Kl/−dの条件で3Ω分間加熱加圧して一体化しに。
得られたカードの透明シート@ζ二放射−−化枦詣(ア
ゾカウルトラセット、旭電化製)Y管布し、紫外線にて
硬化し、s!断してカードVとした。
ゾカウルトラセット、旭電化製)Y管布し、紫外線にて
硬化し、s!断してカードVとした。
得られたカードの透明シート側からHe−Neレーザ5
mWV集光し%10Qmseの7(k X光rfllし
て照射したところ10μ径のスポットが生じており%以
上のmtニして配録したカードのV縁部に0.5 mW
のHe−Noシレーt集光させその反射光なビームスプ
リッタ−を介して、フォトダイオードで読取ることがで
きた。
mWV集光し%10Qmseの7(k X光rfllし
て照射したところ10μ径のスポットが生じており%以
上のmtニして配録したカードのV縁部に0.5 mW
のHe−Noシレーt集光させその反射光なビームスプ
リッタ−を介して、フォトダイオードで読取ることがで
きた。
又1以上のようなカードtし一部のみ剥そうとしたとこ
ろ8ryの蒸tsiが破壊されてしまい。
ろ8ryの蒸tsiが破壊されてしまい。
偽造不可能であった。
@1図及び@3図〜絡7図は本発明のカードの実l/1
11J1様P示す断面図、枦2図は本発明のカードの製
造法の一例V示す断面図である。 符号の説明 1・・・・・・・・・・・・カード 2・・・・・・・・・・・・カード基材3・・・・・・
・・・・・・透明台FiV樹脂シート4・・・・・・・
・・・・・耐熱性基材(4′は透明のもの)5・・・・
・・・・・・・・金属薄膜−6・・・・・・・・・・・
・記録材料片(6′は41に対応)7・・・・・・・・
・・・・プレス板 8・・・・・・・・・・・・警−III才1図 2 才2図 51−8図 才4図 オδ図
11J1様P示す断面図、枦2図は本発明のカードの製
造法の一例V示す断面図である。 符号の説明 1・・・・・・・・・・・・カード 2・・・・・・・・・・・・カード基材3・・・・・・
・・・・・・透明台FiV樹脂シート4・・・・・・・
・・・・・耐熱性基材(4′は透明のもの)5・・・・
・・・・・・・・金属薄膜−6・・・・・・・・・・・
・記録材料片(6′は41に対応)7・・・・・・・・
・・・・プレス板 8・・・・・・・・・・・・警−III才1図 2 才2図 51−8図 才4図 オδ図
Claims (1)
- (1)熱融着可能な表面を有するカード基材の該褒料片
が載置され、Xtt=*−F基材の表面及び配録材料片
を含む全面に熱融着可能な透明合成樹脂シー訃が被覆さ
れ、かつ、金属薄膜層以外の部分が熱融@4二より封止
専れていることを特徴とするオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57049716A JPS58166099A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | カ−ド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57049716A JPS58166099A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | カ−ド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58166099A true JPS58166099A (ja) | 1983-10-01 |
JPH0555320B2 JPH0555320B2 (ja) | 1993-08-16 |
Family
ID=12838907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57049716A Granted JPS58166099A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | カ−ド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58166099A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5999776U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | Idカ−ド |
JPS5999779U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体をもつidカ−ド |
JPS5999780U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体を備えたidカ−ド |
JPS5999777U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−を持つidカ−ド |
JPS5999778U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体を有するidカ−ド |
JPS61214152A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光カ−ド |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
JPS5331691A (en) * | 1976-09-06 | 1978-03-25 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | N-(n-substituted phenylglycine amido)cephalosporanic acid derivatives |
JPS5537398A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-15 | Hoechst Ag | Identification card |
JPS5621892A (en) * | 1979-08-01 | 1981-02-28 | Toshiba Corp | Optical recorder and its manufacturing method |
-
1982
- 1982-03-26 JP JP57049716A patent/JPS58166099A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
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JPS5621892A (en) * | 1979-08-01 | 1981-02-28 | Toshiba Corp | Optical recorder and its manufacturing method |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5999776U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | Idカ−ド |
JPS5999779U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体をもつidカ−ド |
JPS5999780U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体を備えたidカ−ド |
JPS5999777U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−を持つidカ−ド |
JPS5999778U (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-05 | 共同印刷株式会社 | 光メモリ−媒体を有するidカ−ド |
JPH0222300Y2 (ja) * | 1982-12-24 | 1990-06-15 | ||
JPH0222298Y2 (ja) * | 1982-12-24 | 1990-06-15 | ||
JPH0222297Y2 (ja) * | 1982-12-24 | 1990-06-15 | ||
JPH0222299Y2 (ja) * | 1982-12-24 | 1990-06-15 | ||
JPH0347900Y2 (ja) * | 1982-12-24 | 1991-10-14 | ||
JPS61214152A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光カ−ド |
JPH0650575B2 (ja) * | 1985-03-19 | 1994-06-29 | 大日本印刷株式会社 | 光カ−ド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0555320B2 (ja) | 1993-08-16 |
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