JPH08273214A - 光学記録層転写用シートの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光記録層を効率的に、しかも所望の形状に形
成するための光学記録層転写用シートを効率化する方法
を提供することを目的とする。 【構成】 基材に放射線効果性化合物を塗布する工程、
塗布面を鏡面部材に接触させつつ放射線を照射すること
により硬化させる工程、該硬化層上に金属薄薄膜からな
る光学記録層を形成する工程、光学記録層側に接着剤層
を形成する工程、を少なくとも含むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＩＤカードや通帳な
どの記録媒体にレーザー光等で光学的に記録するための
光学記録層を転写法により形成するのに適した光学記録
層転写用シートの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】キャッシュカード、クレジットカード、
自分証明用カード等のＩＤカード、金融機関の預金通
帳、あるいは情報記録カードなどの記録媒体の記録層と
しては磁気層が広く使用されているが、磁気記録の記録
密度は概して小さく、又、普及している反面、偽造の発
生頻度も高く、このため、他の記録密度の高い、偽造の
困難な記録層が望まれている。磁気層以外の記録層とし
ては集積回路（ＩＣ）を利用したものやレーザー光等で
記録する光学記録層とが代表的なものとして提案され、
かつ検討されており、中でも光学記録層は記録密度の高
い点で有望視されている。

【０００３】このような光学記録層は多くは低融点の金
属を蒸着等により記録媒体の所定の箇所に薄膜として形
成することにより得られるが、記録媒体に直接的に記録
層を形成するのは効率が悪い上、所定の形状の記録層を
形成するにはマスクを使用しなければならない不便さも
ある。

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術における欠点を解消し、光学記録層を効率的に、
しかも所望の形状に形成するための光学記録層転写用シ
ートの効率的な製造方法を提供することを課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本願発明の光学記録層転
写用シートの製造方法は、基材に放射線硬化性塗料を塗
布する工程、塗布面を鏡面部材に接触させつつ放射線を
照射することにより硬化させる工程、硬化層上に金属薄
膜からなる光学記録層を形成する工程、光学記録層側に
接着層を形成する工程、の工程を少なくとも含むことを
特徴とする。 また上記の方法において、鏡面部材が、
表面を鏡面としたロール形状であることを特徴とする。

【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本願発明
に供される基材１としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、セルロースアセテート、ポ
リスチレン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、メチル
ペンテン樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフ
ェニレンオキシド、ポリサルホン、ポリフッ化エチレ
ン、ポリフッ化エチレンプロピレン、ポリーテルイミ
ド、ポリイミド等のプラスチックフィルム、銅、アルミ
ニウム等の金属箔、紙と前記のプラスチックフィルム又
は金属泊のラミネート品等が使用でき、耐熱性、機械的
強度、平滑性および現状の価格を考慮するとポリエステ
ルフィルムが好ましいが、特に制限されるものではな
い。基材の厚みは１〜５００ミクロン、好ましくは５〜
５０ミクロンである。

【０００６】次に保護層を形成するための材料として
は、電子線、または紫外線等の放射線により硬化する硬
化性化合物が使用できる。電子線、紫外線等の放射線照
射により重合し、硬化する化合物としては不飽和ポリエ
ステル類、アクリレート類、チオール・エン類、エポキ
シ・ルイス酸類が使用できる。保護層２の厚みは０．５
ミクロン〜２．０ミクロン、好ましくは１〜５００ミク
ロンである。

【０００７】なお、保護層２を形成する際には保護層２
の光学記録層３と接する面の平滑度が高くなるようにし
ておくと、このような光学記録層転写用シートを用いて
得られる光学記録層の表面の平滑性が向上し、光学記録
の精度が向上して読みとりの際のエラーが低下して好ま
しい。平滑度を高めるためには予め表面を鏡面とした金
属、ガラスなどの面に未硬化の塗布層を接触させつつ硬
化させればよいが、例えば紫外線や電子線を硬化の手段
として用いるときは表面を鏡面とした金属ロールに接触
させつつ反対側（基材側）より照射を行なえば足り、特
に電子線を用いるときは塗布と同じ速度で硬化させ平滑
度の高い塗布硬化面が得られる。

【０００８】これらの化合物を塗布する方法としては、
ロールコート法、カーテンフローコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアロールコート法、エアナイフコー
ト法等の公知の方法を用いることができ、放射線を照射
して硬化させるときは例えば、コツクロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加機から放出され、５０〜１０００ＫｅＶ、好ましく
は１００〜３００ＫｅＶの範囲のエネルギーを持つ電子
線を用い、窒素等の不活性ガス雰囲気中で用いるか又
は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、クセノンアーク灯などによる紫外線等を用いる。

【０００９】尚、放射線として紫外線を用いるときは前
記した放射線硬化性塗料にベンゾイン、ベンゾインエー
テル、ベンゾフェノン、ベンジル、キサントン等或いは
これらの誘導体を紫外線増感剤として添加して用いる。
光学記録層３を構成する材料としてはレーザー光などに
より穿孔可能なもの、あるいは泡が形成されるものであ
ればいずれでもよく、例えば穿孔型としては、Ｓｂ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｃｕ
−Ｓｎなどの金属や合金、フタロシアニンなどの色素、
Ｔｅ−Ｃ、Ｔｅ−ＣＳ２、Ｔｅ−色素、Ｔｅ−ニトロセ
ルロース、Ａｇ−ゼラチンなどのような金属と有機物と
の複合体が使える。屈折率が変化するものとしては、Ｔ
ｅＯｘ、Ｓｂ−Ｓｅ、ＡｓＳｅＴｅなど、又、泡が形成
される材料としては金属と有機物の積層体などが使え
る。

【００１０】光学記録層の厚みは、穿孔型の金属薄膜は
５０〜１０００オングストローム、屈折率変化型の金属
薄膜は５００〜２０００オングストロームであり、いず
れも、蒸着法、スパッタリング法、メッキ法などにより
得られる。また金属と有機物との複合体の有機物薄膜
は、有機物を溶解させた溶液をロールコート、グラビア
コート、スピンナーコートなどのコート法やスパッタリ
ング法やプラズマ重合法などにより膜圧０．１〜１０ミ
クロン程度になるように形成する。次に接着層４を構成
する材料としては、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、
エチレン／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／プロピオ
ン酸共重合体、ゴム系樹脂、シアノアクリレート樹脂、
セルロース系樹脂、アイオノマー樹脂、ポリオレフィン
系共重合体等を用いることができ、又、その塗布方法と
しては、ロールコート、グラビアコート、リバースコー
トその他の通常のコーティング方法、或いはオフセッ
ト、グラビア、スクリーン印刷等の通常の印刷方式等を
用いることができる。接着層の厚みは１から５０ミクロ
ンが好ましい。

【００１１】本発明の光学記録層転写用シートは基本的
には以上の様な構成からなっているが、基材１と透明合
成樹脂保護層２の転写時の剥離を確実にする意味で剥離
性層５を介在させてもよく、剥離性層を構成する材料と
しては、ポリメチルメタクリレート樹脂を主体とし、さ
らに、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロ
ース樹脂、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等
を適宜混合してなるもの、セルロースアセテートブチレ
ート樹脂やセルロースアセテート樹脂等のセルロース系
樹脂に、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹
脂、ポリウレタン油脂等の熱硬化性樹脂あるいはポリエ
チレンワックス、シリコーンオイルを適宜混合してなる
もの等を用いることができるが、これら以外のものであ
ってもよく、基材１との剥離強度が、保護層２との剥離
強度よりも小さくなるよう選択して用いる。又、上記剥
離層を支持体に設ける方式としては、公知のコーティン
グ方法である、グラビアロールコート法、ロールコート
法、エアーナイフコート法、ワイヤーバーコート法、カ
ーテンフローコート法等の方法を用いることができ、塗
布料としては０．１〜３．０ミクロンが好ましい。

【００１２】本発明の光学記録層転写用シートの使用方
法を第３図により説明すると、例えば適宜なカード基材
６の表面に光学転写層記録用シートの接着剤層４が接触
するようにして重ね、光学記録層７の所定の形状に合わ
せて作成した熱板８を用いてプレスし転写を行ない、そ
の後、基材１を剥離することにより、記録層７がカード
基材６上に形成される。ここでカード基材６を用いれば
カードが、又、通帳やその他の基材を用いればカード以
外の記録媒体が製造できる。カード基材としては剛性を
有し、かつ、熱融着や各種の印刷等の加工に適したもの
であればいずれでも良いが、通常、塩化ビニル樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ビニ
ルブチラール樹脂、アセチルセルロース樹脂、スチレン
−ブタジエン共重合樹脂、ポリエチレン樹脂、フッ素樹
脂等の合成樹脂が使用でき、なかでも塩化ビニル樹脂が
加工の容易さの点で用いられる。このほか、紙、金属箔
等、及び各材料の複合体も使用し得る。本発明をカード
に応用するときには、更に磁気記録層や写真、彫刻画
像、ＩＣメモリ、文字、マーク、雨期だし文字等を設け
ても差し支えなく、他の記録媒体に応用する際にも同様
である。

【００１３】尚、カード基材が紙や合成樹脂である場合
は外見上は光の反射率が高くても光学記録層の光の反射
率よりも実際には低いのがふつうであるので、情報の再
生が可能である。しかし、再生の際のＳ／Ｎ比を向上さ
せたり、或いは金属の鏡面を表面に有する基材を用いる
ときには予め基材の表面に光の反射率の低い低反射そう
を積層するとよく、例えば、カード基材の表面に光学的
反射濃度の高い（すなわち光の反射率の小さい）インキ
層を設けたり、無反射クロムを蒸着させたり、或いは着
色した合成樹脂フィルムを有り合わせることにより低反
射層を形成する。むろん以上のような低反射層は本発明
の光学的記録層転写用シートの光学記録層と接着層の間
に形成しておいてもよく、このとき、必要に応じ、光学
記録層と低反射層の間に接着層を介在させてもよい。

【００１４】

【作用及び発明の効果】本発明の光学記録層転写用シー
トは巻き取りにより連続的に製造できるので製造効率が
高く、又、所定の形状の熱板を用いてプレスすることに
より、記録媒体の所定の位置に所定の形状の光学記録層
を形成することができる。

【００１５】

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。ただし以
下の実施例は本発明の内容を制限するものではない。厚
み２５ミクロンのポリエステルフィルムに、下記組成か
らなる剥離層をバーコートにより塗布し、乾燥させた。 ・アクリル樹脂（三菱レーヨン社製 ダイヤナールＢＲ
９０）・・・２０重量部・塩ビ−酢ビ 共重合樹脂（ユ
ニオンカーバイド社製 ビニライトＶＹＨＨ）・５重量
部 ・メチルエチルケトン・・・５０重量部 ・トルエン・・・２５重量部

【００１６】次に保護材として下記の組成のものをバー
コートにて塗布し、鏡面仕上げしたステンレス板表面に
密着した。 ・ポリウレタンアクリレート （ポリクローム社製 Ｄ
Ｖ−５３）・・・５０重量部 ・ポリエステルアクリレート（東亞合成化学社製、アロ
ニクスＭ−１７００）・５０重量部 ステンレス板に密着後、窒素雰囲気中で加速電圧１５０
ＫｅＶ、照射電流５ｍＡ照射線量５Ｍｒａｄのカーテン
状電子線をポリエステルフィルム面から照射し、と膜を
硬化させた後、ガラス面から剥離した。

【００１７】得られた積層シート上に、スパッタリング
法により、Ｓｎ−Ｃｕ合金ターゲット（Ｃｕ１．５重量
％）を用い、厚み２００オングストロームのＳｎ−Ｃｕ
薄膜を設け、次に塩ビ−酢ビ共重合樹脂を主成分とする
接着剤組成物を厚み５ミクロンとなるようにバーコート
にて塗布して転写用シートを得た。得られた光記録転写
シートを厚み０．７ミリメートルの硬質塩化ビニルシー
ト製のカードに接着剤層が接触するようにして重ね、熱
プレスにより加熱加工し接着させポリエステルフィルム
を剥離した。得られた光記録カードは、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザー光（５ｍＷ）をＮＡ＝０．４５のレンズで集光させ
て１０マイクロｓｅｃの時間で書込み、読みとれること
を確認した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されるシートの断面図である。

【図２】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造される他のシートの断面図である。

【図３】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されたシートをカード基材に適用する１態様を
示す断面図である。

【図４】本発明の光学記録層転写用シートの製造方法に
より製造されるシートをカード基材に転写したところを
示す断面図である

【符号の説明】

１・・・基材、２・・・保護層、３・・・光学記録層、
４・・・接着剤層、５・・・剥離性層、６・・・カード
基材、７・・・記録層、８・・・熱板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材に放射線硬化性化合物を塗布する工
   程、 塗布面を鏡面部材に接触させつつ放射線を照射すること
   により硬化させる工程、 該硬化層上に金属薄膜からなる光学記録層を形成する工
   程、 光学記録層側に接着層を形成する工程、 の工程を少なくとも含むことを特徴とする光学記録層転
   写用シートの製造方法。
2. 【請求項２】鏡面部材が、表面を鏡面としたロール形状
   である特許請求の範囲第１項記載の光学記録層転写用シ
   ートの製造方法。