JPS6056406B2 - 誘導加熱部を有する連続焼鈍炉 - Google Patents
誘導加熱部を有する連続焼鈍炉Info
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- JPS6056406B2 JPS6056406B2 JP9378880A JP9378880A JPS6056406B2 JP S6056406 B2 JPS6056406 B2 JP S6056406B2 JP 9378880 A JP9378880 A JP 9378880A JP 9378880 A JP9378880 A JP 9378880A JP S6056406 B2 JPS6056406 B2 JP S6056406B2
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- temperature
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- induction heating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
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- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は誘導加熱部を有する連続焼鈍炉の創案に係り
、連続焼鈍設備における加熱帯および再加熱帯を経済的
なガス加熱により実施し、しかもそれらガス加熱帯と共
にガス再加熱帯に関して誘導加熱部を用いストリップに
直接エネルギーを供給することによつて従来のガスの如
きによる炉温制御では追従できなかつたライン速度変化
時およびストリップサイズ変化時のストリップ温度を過
時効処理をも含めて高精度且つ円滑に制御せしめること
のできるようにしたものである。
、連続焼鈍設備における加熱帯および再加熱帯を経済的
なガス加熱により実施し、しかもそれらガス加熱帯と共
にガス再加熱帯に関して誘導加熱部を用いストリップに
直接エネルギーを供給することによつて従来のガスの如
きによる炉温制御では追従できなかつたライン速度変化
時およびストリップサイズ変化時のストリップ温度を過
時効処理をも含めて高精度且つ円滑に制御せしめること
のできるようにしたものである。
連続焼鈍炉によつてストリップを加熱焼鈍することは
従来から行われているところであり、又再加熱して過時
効処理することも枢要であるが、この従来のストリップ
加熱部はＮ２ガスで満たされたラジアントチユーブ内で
Ｃガスを燃焼させることによりＮｏガスを加熱するもの
であり、ライン速度、ストリップサイズ、炉温、ストリ
ップ温度などの情報に基き、計算機でＣガスの燃焼を制
御 することによつて通過するストリップを目標温度
に達するようにするものである。
従来から行われているところであり、又再加熱して過時
効処理することも枢要であるが、この従来のストリップ
加熱部はＮ２ガスで満たされたラジアントチユーブ内で
Ｃガスを燃焼させることによりＮｏガスを加熱するもの
であり、ライン速度、ストリップサイズ、炉温、ストリ
ップ温度などの情報に基き、計算機でＣガスの燃焼を制
御 することによつて通過するストリップを目標温度
に達するようにするものである。
従つてこれらの加熱部内における熱伝達は、Ｃガス＝ラ
ジアント チユーブ→Ｎ２ガス→ストリップとなり、そ
のス トリップにおける温度制御の応答速度は非常に遅
いこととならざるを得ない。即ちこのような従来技術
においてはそのライン速度、材料サイズ、加熱目標温度
なとの操業条件を変更する場合に、上記のようにストリ
ップ温度制御の応答が遅いためにダミーコイルを用いな
ければならないもので、即ち操業条件が似通つた製品構
成で操業するよう な場合にはダミーコイルを用いなく
てもそれなりに操業し得ることは勿論であるが、実際の
需要ないし要求は多様な変化及び納期を満たすためにそ
のような製品構成を組むことが不可能であつて、上記し
たダミーコイルの採用が不可欠的となる。 ところがこ
のようなダミーコイルを使用した操業による損失は大で
あつて、その代表的なものとしては設備能力の低下とエ
ネルギーの浪費であり、ノ前者についてはダミー操業時
間が多ければ多い程製品生産時間が短縮されるこが明か
てあり、又後者についてはダミー操業に用いられるエネ
ルギーは全く無用なものであつて、それらによる損失は
何れも大きいこととならざるを得ない。なお特開ク昭５
０−８９２０３号公報には加熱帯と均熱帯の入側に誘導
加熱を設け、かつ連続材質判定装置により、冷延鋼板を
連続焼鈍することが提案されているが、材質判定の結果
によりフィードバックをかける技術であるからその遅れ
長さが大になり、速度を変更する機会が長くなる不利を
有する。本発明は上記したような従来のものの不利を解
消するように検討して創案されたものであつて、ストリ
ップをガス加熱帯、均熱帯、冷却帯、ガス再加熱帯、徐
冷帯および急冷帯に対し連続的に通過せしめ焼鈍するよ
うにしたものにおいて、その加熱帯の近傍と共にガス再
加熱帯の近傍にストリップ温度を調節するための誘導加
熱部を設けたことを特徴とする誘導加熱部を有する連続
焼鈍炉てある。
ジアント チユーブ→Ｎ２ガス→ストリップとなり、そ
のス トリップにおける温度制御の応答速度は非常に遅
いこととならざるを得ない。即ちこのような従来技術
においてはそのライン速度、材料サイズ、加熱目標温度
なとの操業条件を変更する場合に、上記のようにストリ
ップ温度制御の応答が遅いためにダミーコイルを用いな
ければならないもので、即ち操業条件が似通つた製品構
成で操業するよう な場合にはダミーコイルを用いなく
てもそれなりに操業し得ることは勿論であるが、実際の
需要ないし要求は多様な変化及び納期を満たすためにそ
のような製品構成を組むことが不可能であつて、上記し
たダミーコイルの採用が不可欠的となる。 ところがこ
のようなダミーコイルを使用した操業による損失は大で
あつて、その代表的なものとしては設備能力の低下とエ
ネルギーの浪費であり、ノ前者についてはダミー操業時
間が多ければ多い程製品生産時間が短縮されるこが明か
てあり、又後者についてはダミー操業に用いられるエネ
ルギーは全く無用なものであつて、それらによる損失は
何れも大きいこととならざるを得ない。なお特開ク昭５
０−８９２０３号公報には加熱帯と均熱帯の入側に誘導
加熱を設け、かつ連続材質判定装置により、冷延鋼板を
連続焼鈍することが提案されているが、材質判定の結果
によりフィードバックをかける技術であるからその遅れ
長さが大になり、速度を変更する機会が長くなる不利を
有する。本発明は上記したような従来のものの不利を解
消するように検討して創案されたものであつて、ストリ
ップをガス加熱帯、均熱帯、冷却帯、ガス再加熱帯、徐
冷帯および急冷帯に対し連続的に通過せしめ焼鈍するよ
うにしたものにおいて、その加熱帯の近傍と共にガス再
加熱帯の近傍にストリップ温度を調節するための誘導加
熱部を設けたことを特徴とする誘導加熱部を有する連続
焼鈍炉てある。
上記した各誘導加熱に関しては一般に知られている通り
であつて、トランスにおける２次回路がストリップであ
つて、ストリップ内に多くの渦電流を生じ、そのジュー
ル熱によつてストリップを加熱することとなり、ストリ
ップに直接エネルギーを供給できる有利さがあつて、こ
のためエネルギー伝達効率が高く、その応答も早い。し
かしてコスト的にはＣガスの方が有利であるから上記し
た誘導加熱は操業条件が変更される場合に過渡的にエネ
ルギーを補給するような用法が最も有効であつて、基本
的にはＣガスによるストリップ加熱をなすことが好まし
い。斯かる本発明によるもの）具体的な実施態様は第１
図に示す通りであつて、ブライドルロール，１、テンシ
ョンデバイス２を介してストリップ５０がガス加熱帯３
に送り込まれ、次いで均熱帯５、冷却帯６、送られるが
、この場合においてそのガス加熱帯３と均熱帯５の間に
誘導加熱部４が設けられている。
であつて、トランスにおける２次回路がストリップであ
つて、ストリップ内に多くの渦電流を生じ、そのジュー
ル熱によつてストリップを加熱することとなり、ストリ
ップに直接エネルギーを供給できる有利さがあつて、こ
のためエネルギー伝達効率が高く、その応答も早い。し
かしてコスト的にはＣガスの方が有利であるから上記し
た誘導加熱は操業条件が変更される場合に過渡的にエネ
ルギーを補給するような用法が最も有効であつて、基本
的にはＣガスによるストリップ加熱をなすことが好まし
い。斯かる本発明によるもの）具体的な実施態様は第１
図に示す通りであつて、ブライドルロール，１、テンシ
ョンデバイス２を介してストリップ５０がガス加熱帯３
に送り込まれ、次いで均熱帯５、冷却帯６、送られるが
、この場合においてそのガス加熱帯３と均熱帯５の間に
誘導加熱部４が設けられている。
又上記冷却帯６を経たものは次ｊいでガス再加熱帯７、
徐冷帯９及び急冷帯１０を経てブライドルロール１１が
導かれるが、そのガス再加熱帯７と徐冷帯９の間にも誘
導再加熱帯８が設けられている。前記した誘導加熱帯４
は誘導加熱コイル１７を有し、又この誘導加熱帯４の前
５後には温度検出器１５，１６を設けてストリップ５０
の温度を検出し、その信号３１，３２を温度制御機構２
６に送り、該機構２６には炉温制御装置２３からの基準
値２４（目標ストリップ温度、溶接点位置、ライン速度
、板厚、板幅）が送ら４れ、それによるコイル電圧や周
波数信号３５が電圧や周波数の可変制御機構２９に送ら
れ、該機構２９から電源電流３７として供給されるよう
に成つている。更に上記した炉温制御装置２３からの別
の基準値２は前記誘導加熱帯８に対して設けられた温度
制御機構２７に送られ、この誘導再加熱帯８の前後にも
温度検出器１８，１９を設け、それら検出器１８，１９
からの信号３３，３４が上記制御機構２７に導かれ、該
機構２７て得られた誘導加熱コイルの電圧、周波数信号
３６は制御機構３０に送られ、該制御機構３０から電源
電流３８を誘導再加熱帯８の誘導加熱コイル２０に供給
するように成つている。図中１２，１３，１４はフ何れ
もシールロールである。上述したような本発明の設備に
関してその操法を説明すると、前記したようなストリッ
プ５０に関する操業条件変更の中で、代表的なサイズ変
更の場合において、このサイズ変更にはサイズ小→・サ
イズ大と変更される場合と、それとは反対にサイズ大→
サイズ小となる場合とがあることは明かであり、その前
者の場合についての板温（ストリップ温度）の制御に関
する概要は第２図に示す通りである。
徐冷帯９及び急冷帯１０を経てブライドルロール１１が
導かれるが、そのガス再加熱帯７と徐冷帯９の間にも誘
導再加熱帯８が設けられている。前記した誘導加熱帯４
は誘導加熱コイル１７を有し、又この誘導加熱帯４の前
５後には温度検出器１５，１６を設けてストリップ５０
の温度を検出し、その信号３１，３２を温度制御機構２
６に送り、該機構２６には炉温制御装置２３からの基準
値２４（目標ストリップ温度、溶接点位置、ライン速度
、板厚、板幅）が送ら４れ、それによるコイル電圧や周
波数信号３５が電圧や周波数の可変制御機構２９に送ら
れ、該機構２９から電源電流３７として供給されるよう
に成つている。更に上記した炉温制御装置２３からの別
の基準値２は前記誘導加熱帯８に対して設けられた温度
制御機構２７に送られ、この誘導再加熱帯８の前後にも
温度検出器１８，１９を設け、それら検出器１８，１９
からの信号３３，３４が上記制御機構２７に導かれ、該
機構２７て得られた誘導加熱コイルの電圧、周波数信号
３６は制御機構３０に送られ、該制御機構３０から電源
電流３８を誘導再加熱帯８の誘導加熱コイル２０に供給
するように成つている。図中１２，１３，１４はフ何れ
もシールロールである。上述したような本発明の設備に
関してその操法を説明すると、前記したようなストリッ
プ５０に関する操業条件変更の中で、代表的なサイズ変
更の場合において、このサイズ変更にはサイズ小→・サ
イズ大と変更される場合と、それとは反対にサイズ大→
サイズ小となる場合とがあることは明かであり、その前
者の場合についての板温（ストリップ温度）の制御に関
する概要は第２図に示す通りである。
蓋しこのサイズ小→サイズ大の場合において、そのサイ
ズが大きくなることは熱容量が大きくなることであつて
、同じ熱量を供給した場合にサイズが大きくなるとスト
リップ温度が低下することは明かで、第２図左側の従来
方式においてはそのａに示すようなサイズ変化に対しｂ
のような板温変化があり、ｃのような炉温、ｄのような
ライン速度の各変化があることは図示の通りである。即
ちそのｂとして示す板厚のチャートのような温度の落込
み量はサイズ変更の量に応じて一定であるため、或る限
界を越えたサイズ変更を行つた場合にはストリップ温度
が許容値を外れることとなり、ダミーコイルを用いるこ
とが必要である。これに対し本発明においては第２図の
右側に示す通りで異サイズの接合点（溶接点）がガス加
熱帯に入ると先行ストリップはＣによつて目標温度に達
するが、後行ストリップは熱容量が大きいため目標温度
を大きく下回つてしまう。例えば０．８ｈ×１０００Ｗ
から１．０ｈ×１０００Ｗに変更される場合にその目標
温度が夫々７００℃とすると以下のようになる。ＣＦ×
ρＦＸ８×１０−４×１Ｘ１Ｘ（７０００Ｃ−２０℃）
＝ＣＦ＞＜ＰＦＸｌ×１０−４×ｌ×１Ｘ（Ｔ−２
０）．゜．Ｔ＝５６４ＦＣ゜．ΔＴ＝１３６×Ｃこのよ
うにストリップ厚が０．８Ｔｒ０ｎから１．０Ｔｗｔに
変更されただけで後行ストリップの温度は目標温度から
１３６℃も外れてしまうことになる。
ズが大きくなることは熱容量が大きくなることであつて
、同じ熱量を供給した場合にサイズが大きくなるとスト
リップ温度が低下することは明かで、第２図左側の従来
方式においてはそのａに示すようなサイズ変化に対しｂ
のような板温変化があり、ｃのような炉温、ｄのような
ライン速度の各変化があることは図示の通りである。即
ちそのｂとして示す板厚のチャートのような温度の落込
み量はサイズ変更の量に応じて一定であるため、或る限
界を越えたサイズ変更を行つた場合にはストリップ温度
が許容値を外れることとなり、ダミーコイルを用いるこ
とが必要である。これに対し本発明においては第２図の
右側に示す通りで異サイズの接合点（溶接点）がガス加
熱帯に入ると先行ストリップはＣによつて目標温度に達
するが、後行ストリップは熱容量が大きいため目標温度
を大きく下回つてしまう。例えば０．８ｈ×１０００Ｗ
から１．０ｈ×１０００Ｗに変更される場合にその目標
温度が夫々７００℃とすると以下のようになる。ＣＦ×
ρＦＸ８×１０−４×１Ｘ１Ｘ（７０００Ｃ−２０℃）
＝ＣＦ＞＜ＰＦＸｌ×１０−４×ｌ×１Ｘ（Ｔ−２
０）．゜．Ｔ＝５６４ＦＣ゜．ΔＴ＝１３６×Ｃこのよ
うにストリップ厚が０．８Ｔｒ０ｎから１．０Ｔｗｔに
変更されただけで後行ストリップの温度は目標温度から
１３６℃も外れてしまうことになる。
上記した本発明ではこのような場合において先ずガス加
熱帯３の後部に誘導加熱帯４が設けられ、炉温制御装置
２３から得られる目標ストリップ温度、溶接点位置、ラ
イン速度、板厚、板幅のような各基準信号出力２４と温
度検出器１５て得られる誘導加熱炉前ストリップ温度３
１および検出器１６で得られた誘導加熱炉後ストリップ
温度３２から制御機構２６にて誘導加熱コイル１７の出
力を演算し、その結果により可変電圧、可変周波数制御
機構２９を操作し、前記コイル１７に供給する電源３７
の電圧及び周波数を決定するものであり、このようにす
るならば後行ストリップの温度はこの誘導加熱炉４を通
過する間に目標温度に達することとなつて、溶接点前後
のストリップ温度は目標温度を外れることがなく、全く
理想的なストリップ温度となる。
熱帯３の後部に誘導加熱帯４が設けられ、炉温制御装置
２３から得られる目標ストリップ温度、溶接点位置、ラ
イン速度、板厚、板幅のような各基準信号出力２４と温
度検出器１５て得られる誘導加熱炉前ストリップ温度３
１および検出器１６で得られた誘導加熱炉後ストリップ
温度３２から制御機構２６にて誘導加熱コイル１７の出
力を演算し、その結果により可変電圧、可変周波数制御
機構２９を操作し、前記コイル１７に供給する電源３７
の電圧及び周波数を決定するものであり、このようにす
るならば後行ストリップの温度はこの誘導加熱炉４を通
過する間に目標温度に達することとなつて、溶接点前後
のストリップ温度は目標温度を外れることがなく、全く
理想的なストリップ温度となる。
上記したようなストリップ温度の様相は第２図右側２ｂ
における板温として示す通りであるが、前述のようにエ
ネルギーコスト面からは誘導加熱によりＣガス加熱の方
が経済的であるから溶接点が誘導加熱帯を通過した後、
Ｃガスのみの操業条件となるようにガス加熱帯３の炉温
を上昇させると共にライン速度を低下せしめ、一方この
操作と共に誘導加熱によるエネルギーを漸次減少させ、
それが零となつたところでＣガスのみによる安定操業に
入る。
における板温として示す通りであるが、前述のようにエ
ネルギーコスト面からは誘導加熱によりＣガス加熱の方
が経済的であるから溶接点が誘導加熱帯を通過した後、
Ｃガスのみの操業条件となるようにガス加熱帯３の炉温
を上昇させると共にライン速度を低下せしめ、一方この
操作と共に誘導加熱によるエネルギーを漸次減少させ、
それが零となつたところでＣガスのみによる安定操業に
入る。
又本発明においては上記のような誘導加熱帯４と共にガ
ス再加熱帯７と誘導再加熱帯８部分においても上記した
ガス加熱帯３と誘導加熱帯４の場合と同様に操作される
ことにより、ガス再加熱帯７を通過する負荷（ストリッ
プ）の変動をを吸収して内部まて目標温度に均一且つ適
切に達せし．め、該ガス再加熱帯に続く徐冷帯における
過時効処理を円滑に実施せしめ、又安定操業を得しめる
ことができる。
ス再加熱帯７と誘導再加熱帯８部分においても上記した
ガス加熱帯３と誘導加熱帯４の場合と同様に操作される
ことにより、ガス再加熱帯７を通過する負荷（ストリッ
プ）の変動をを吸収して内部まて目標温度に均一且つ適
切に達せし．め、該ガス再加熱帯に続く徐冷帯における
過時効処理を円滑に実施せしめ、又安定操業を得しめる
ことができる。
上記したようなストリップのサイズ小→サイズ大となる
場合に対し、反対のサイズ大→サイズ小一とされた場合
においては、先行ストリップに対し後行ストリップの熱
容量が小さくなるもので、従来技術では溶接点がガス加
熱炉を通過すると後行ストリップの温度がステップ上に
上昇し温度外れを生ずることは第３図ｂに示す通りであ
る。
場合に対し、反対のサイズ大→サイズ小一とされた場合
においては、先行ストリップに対し後行ストリップの熱
容量が小さくなるもので、従来技術では溶接点がガス加
熱炉を通過すると後行ストリップの温度がステップ上に
上昇し温度外れを生ずることは第３図ｂに示す通りであ
る。
これに対し上記したような設備による本発明ではこのよ
うな溶接点の通過に対し予め炉温を低下し又ライン速度
を上昇させて後行ストリップのサイズ（小）に即応させ
た操業条件に変更する。即ちこのま）であるとストリッ
プ温度は当然低下することになるが、その場合の不足し
たエネルギーは誘導加熱炉４又は８で補給する。炉温及
ひライン速度が後行ストリップサイズの操業条件となつ
たときに誘導加熱炉４又は８のエネルギーを遮断すれば
、その後行ストリップはＣガスのみで目標温度に達する
条件を満たしたことになる。従つて溶接点がガス加熱帯
を通過した後に誘導加熱を遮断し、第３図ｂのような理
想的ストリップ温度を得しめることができる。上記した
ところはストリップ５０のサイズ変更の場合であるが、
その他の目標温度やライン速度のような操業条件変更の
場合においても上述同様に操作し操業することによりス
トリップの温度外れを来さないで好ましい操業をなすこ
とができることは明かである。
うな溶接点の通過に対し予め炉温を低下し又ライン速度
を上昇させて後行ストリップのサイズ（小）に即応させ
た操業条件に変更する。即ちこのま）であるとストリッ
プ温度は当然低下することになるが、その場合の不足し
たエネルギーは誘導加熱炉４又は８で補給する。炉温及
ひライン速度が後行ストリップサイズの操業条件となつ
たときに誘導加熱炉４又は８のエネルギーを遮断すれば
、その後行ストリップはＣガスのみで目標温度に達する
条件を満たしたことになる。従つて溶接点がガス加熱帯
を通過した後に誘導加熱を遮断し、第３図ｂのような理
想的ストリップ温度を得しめることができる。上記した
ところはストリップ５０のサイズ変更の場合であるが、
その他の目標温度やライン速度のような操業条件変更の
場合においても上述同様に操作し操業することによりス
トリップの温度外れを来さないで好ましい操業をなすこ
とができることは明かである。
上記したような実施態様では誘導加熱部４，８がそれぞ
れガス加熱部の出側に設けられた図示の場合を説明した
が、本発明では誘導加熱部がガス加熱部の入側に設置さ
れても適宜にその操作条件を調整して実施することがで
きる。
れガス加熱部の出側に設けられた図示の場合を説明した
が、本発明では誘導加熱部がガス加熱部の入側に設置さ
れても適宜にその操作条件を調整して実施することがで
きる。
上記したような本発明に関し、その目標温度の変更、サ
イズ変更およびライン速度の変更に関しての補償量を説
明すると以下の如くである。
イズ変更およびライン速度の変更に関しての補償量を説
明すると以下の如くである。
一般にストリップに必要な熱量は（１）式で表わされる
。こ）でＣＦ；鉄の比熱 ρ ；鉄の密度 ■ ；ライン速度 Ｗ ；ストリップ巾 ｈ ；ストリップ厚 Ｔ ；目標温 Ｑ ；ストリップに必要な熱量 又誘導加熱炉の出力とストリップに供給される熱量の関
係は（２）式で表わされるＱｊＯｕｌ／Ｓｅｃ＝０．７
×１０３×ＰＫＷ（■）Ｐ；誘導加熱炉の出力．゜．（
１）、（２）より 故にＷｍＸｈｍのストリップをＶｍ／Ｓで走行させＴ℃
の加熱するための誘導加熱炉の出力は上記Ｂ式て表わさ
れる。
。こ）でＣＦ；鉄の比熱 ρ ；鉄の密度 ■ ；ライン速度 Ｗ ；ストリップ巾 ｈ ；ストリップ厚 Ｔ ；目標温 Ｑ ；ストリップに必要な熱量 又誘導加熱炉の出力とストリップに供給される熱量の関
係は（２）式で表わされるＱｊＯｕｌ／Ｓｅｃ＝０．７
×１０３×ＰＫＷ（■）Ｐ；誘導加熱炉の出力．゜．（
１）、（２）より 故にＷｍＸｈｍのストリップをＶｍ／Ｓで走行させＴ℃
の加熱するための誘導加熱炉の出力は上記Ｂ式て表わさ
れる。
然して目標温度の変更は、一般に目標温度をＴ１からＴ
２に変更した場合に補正すべき誘導加熱炉の出力ΔＰは
以下の如くである。
２に変更した場合に補正すべき誘導加熱炉の出力ΔＰは
以下の如くである。
たＳｔ，．Ｋ＝６×１０３×ＶＸＷＸｈ
例えばＷ＝１．０ｒＴ１、ｈ＝０．０００６ｍ．．Ｕ＝
３ｒｒ１／ｓのとき、Ｔ１＝７００゜Ｃて、Ｔ２＝７５
０℃とすると以下のようになる。
３ｒｒ１／ｓのとき、Ｔ１＝７００゜Ｃて、Ｔ２＝７５
０℃とすると以下のようになる。
又サイズ変更の場合は、一般にサイズをＷ１×ｈ１から
Ｗ２×Ｈ２に変更した場合、補正すべき誘導加熱炉の出
力ΔＰは以下のようになる。
Ｗ２×Ｈ２に変更した場合、補正すべき誘導加熱炉の出
力ΔＰは以下のようになる。
たＳ化、Ｋ＝６×１０３×ＶＸＴ
例えばＶ＝３ｍ／Ｓ．，Ｔ＝７００℃のとき、Ｗｌｈｌ
＝１ｍ×０．０００４ｍてＷ２ｈ２＝１．加×０．００
０６ｍとすると、ΔＰは以下のようになる。
＝１ｍ×０．０００４ｍてＷ２ｈ２＝１．加×０．００
０６ｍとすると、ΔＰは以下のようになる。
更にライン速度の変量）１、一般にライン速度をＶ１か
らＶ２に変更した場合に補正すべき誘導加熱炉の出力Δ
Ｐは下記のようになる。
らＶ２に変更した場合に補正すべき誘導加熱炉の出力Δ
Ｐは下記のようになる。
たＳｔ．．Ｋ＝６×１０３×ＷＸｈＸＴ
例えばＷ＝１ｍ，．ｈ＝０．０００６ｍ，，Ｔ＝７００
℃のときに、Ｖ１＝１５０ｒＴ１ｐｍ．．Ｖ２＝１８０
ｒＴ］Ｐｍとすると次の通りである。
℃のときに、Ｖ１＝１５０ｒＴ１ｐｍ．．Ｖ２＝１８０
ｒＴ］Ｐｍとすると次の通りである。
上記したような本発明によるときはこの種ガス加熱を主
体とした連続焼鈍設備において従来適切フに追従するこ
とのできなかつたライン速度、ストリップサイズ或いは
目標温度の変更などに精度高く追従した好ましい操業を
なすことが可能てあり、それによつてダミーコイルの如
きを必要とせず、しかもこのダミー操業による設備能力
の低下７を回避し且つエネルギー節減を図り、経済的に
有利なガス加熱を主体とし、特に過時効処理の如きに関
しても上記のように精度の高い追従を有効且つ円滑に実
現し得るものであるから工業的にその効果の大きい発明
てある。
体とした連続焼鈍設備において従来適切フに追従するこ
とのできなかつたライン速度、ストリップサイズ或いは
目標温度の変更などに精度高く追従した好ましい操業を
なすことが可能てあり、それによつてダミーコイルの如
きを必要とせず、しかもこのダミー操業による設備能力
の低下７を回避し且つエネルギー節減を図り、経済的に
有利なガス加熱を主体とし、特に過時効処理の如きに関
しても上記のように精度の高い追従を有効且つ円滑に実
現し得るものであるから工業的にその効果の大きい発明
てある。
ノ図面の簡単な説明
図面は本発明の実施態様を示すものであつて、第１図は
本発明による連続焼鈍設備の構成関係説明図、第２図は
そのストリップに関してサイズ小よりサイズ大に変更す
る場合における操業状態を従来方式と本発明によるもの
と比較して示した図表、第３図はそのストリップがサイ
ズ大よりサイズ小に変更する場合についての第２図と同
様な図表てある。
本発明による連続焼鈍設備の構成関係説明図、第２図は
そのストリップに関してサイズ小よりサイズ大に変更す
る場合における操業状態を従来方式と本発明によるもの
と比較して示した図表、第３図はそのストリップがサイ
ズ大よりサイズ小に変更する場合についての第２図と同
様な図表てある。
然してこれらの図面において、３はガス加熱帯、４は誘
導加熱帯、７はガス再加熱帯、８は誘導再加熱帯、１５
，１６及ひ１８，１９は温度検出器、２３は炉温制御装
置、２６，２７はストリップ温度制御機構、２９，３０
は可変電圧可変周波数制御機構を示すものてある。
導加熱帯、７はガス再加熱帯、８は誘導再加熱帯、１５
，１６及ひ１８，１９は温度検出器、２３は炉温制御装
置、２６，２７はストリップ温度制御機構、２９，３０
は可変電圧可変周波数制御機構を示すものてある。
Claims (1)
- １ ストリップをガス加熱帯、均熱帯、冷却帯、ガス再
加熱帯、徐冷帯および急冷帯に対し連続的に通過せしめ
焼鈍するようにしたものにおいて、その加熱帯の近傍と
共にガス再加熱帯の近傍にストリップ温度を調節するた
めの誘導加熱部を設けたことを特徴とする誘導加熱部を
有する連続焼鈍炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9378880A JPS6056406B2 (ja) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | 誘導加熱部を有する連続焼鈍炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9378880A JPS6056406B2 (ja) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | 誘導加熱部を有する連続焼鈍炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5719336A JPS5719336A (en) | 1982-02-01 |
| JPS6056406B2 true JPS6056406B2 (ja) | 1985-12-10 |
Family
ID=14092148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9378880A Expired JPS6056406B2 (ja) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | 誘導加熱部を有する連続焼鈍炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6056406B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6017811A (ja) * | 1983-07-09 | 1985-01-29 | 住友電気工業株式会社 | 連結押出機による発泡体の押出方法 |
| JPS6096728A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-30 | Rozai Kogyo Kk | ストリツプの熱処理炉 |
| JPS6210225A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-19 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | ストリツプの加熱装置 |
| FR2688802B1 (fr) * | 1992-03-19 | 1994-09-30 | Stein Heurtey | Procede de traitement thermique de bandes metalliques. |
| FR2752134B1 (fr) * | 1996-08-02 | 2003-12-26 | Selas Sa | Dispositif de chauffage par induction et installation de traitement thermique en continu comportant un tel dispositif |
| US5770838A (en) * | 1996-09-11 | 1998-06-23 | Drever Company | Induction heaters to improve transitions in continuous heating system, and method |
| US6180933B1 (en) | 2000-02-03 | 2001-01-30 | Bricmont, Inc. | Furnace with multiple electric induction heating sections particularly for use in galvanizing line |
| JP4777191B2 (ja) * | 2006-09-04 | 2011-09-21 | 新日本製鐵株式会社 | 亜鉛浴が設けられた連続焼鈍炉内設置型誘導加熱装置 |
| RU2608257C2 (ru) * | 2011-07-15 | 2017-01-17 | Тата Стил Эймейден Бв | Устройство для производства отожженных сортов стали и способ для производства упомянутых сортов стали |
| JP2015030891A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 連続焼鈍ラインの制御方法及び制御装置 |
-
1980
- 1980-07-11 JP JP9378880A patent/JPS6056406B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5719336A (en) | 1982-02-01 |
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