JPS605418A - 磁気デイスク基板 - Google Patents
磁気デイスク基板Info
- Publication number
- JPS605418A JPS605418A JP58111179A JP11117983A JPS605418A JP S605418 A JPS605418 A JP S605418A JP 58111179 A JP58111179 A JP 58111179A JP 11117983 A JP11117983 A JP 11117983A JP S605418 A JPS605418 A JP S605418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base plate
- surface roughness
- aluminum
- polyimide resin
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク基板に存する。詳しくは、アルミ
ニウム等の非磁性合金にポリイミド系樹脂層を設けた、
表面精度が良好で、かつ安価に製造し得る磁気ディスク
基板に存するものである。
ニウム等の非磁性合金にポリイミド系樹脂層を設けた、
表面精度が良好で、かつ安価に製造し得る磁気ディスク
基板に存するものである。
従来使用されている磁気ディスク基板は、アルミニウム
合金よ）成シ、高度な平坦性、平滑性が要求されている
ため、旋盤加工、あるいはポリッシュ仕上げ等の機械的
研磨法にょシ製造されている。しかるに、アルミニウム
合金は、材質的にみて軟質であるので、機械的研磨に非
常に多くの工程を必要とするのみならず、研磨後の表面
精度には限界がある。
合金よ）成シ、高度な平坦性、平滑性が要求されている
ため、旋盤加工、あるいはポリッシュ仕上げ等の機械的
研磨法にょシ製造されている。しかるに、アルミニウム
合金は、材質的にみて軟質であるので、機械的研磨に非
常に多くの工程を必要とするのみならず、研磨後の表面
精度には限界がある。
それ故、アルミニウム合金基板のこのような問題点を克
服する方法として、陽極酸化により表面にアルマイト層
を形成し、その後ポリッシュ研磨する方法が提案されて
いる。しかしながら、かかるアルマイト基板においても
、なる程面精度はよくなるものの、磁気ディスクに仕上
げた場合表向欠陥が比較的多いという問題点を有してい
る。かかる表面欠陥の最大の要因は、アルミニウム合金
に微量含有されている例えばＦθ、Ｍｎ、 ８１の如き
不純物元素の化合物がアルミニウム合金より硬いので、
研磨工程において、その部分が研磨されず、突起となっ
て残ったり、その部分が逆に剥落し、穴となるためと考
えられている。又陽極酸化処理工程においても下地不純
物元素の化合物の存在は、上部陽極酸化皮膜に影響をお
よほし、研磨後もやはり、欠陥となって残る。
服する方法として、陽極酸化により表面にアルマイト層
を形成し、その後ポリッシュ研磨する方法が提案されて
いる。しかしながら、かかるアルマイト基板においても
、なる程面精度はよくなるものの、磁気ディスクに仕上
げた場合表向欠陥が比較的多いという問題点を有してい
る。かかる表面欠陥の最大の要因は、アルミニウム合金
に微量含有されている例えばＦθ、Ｍｎ、 ８１の如き
不純物元素の化合物がアルミニウム合金より硬いので、
研磨工程において、その部分が研磨されず、突起となっ
て残ったり、その部分が逆に剥落し、穴となるためと考
えられている。又陽極酸化処理工程においても下地不純
物元素の化合物の存在は、上部陽極酸化皮膜に影響をお
よほし、研磨後もやはり、欠陥となって残る。
かかる問題点を克服する方向として、この様な不純物元
素を極力へらしたアルミニウム合金を使用する方法が提
案されているものの、大幅なコストアンプ拡避けられな
い。
素を極力へらしたアルミニウム合金を使用する方法が提
案されているものの、大幅なコストアンプ拡避けられな
い。
本発明の目的は、かかる従来技術の欠点をほぼ完全に除
いた安価で、きわめて優れた特性を持つ磁気ディスク基
板を提供するにある。
いた安価で、きわめて優れた特性を持つ磁気ディスク基
板を提供するにある。
すなわち、本発明の要旨は、表面粗さがｏ、ｏｇ〜ｌμ
、うねシピツチＳＯμ以下の非磁性基板上にポリイミド
系樹脂ｆ ３− Ｓ Ｏｐの厚さに被覆した磁気ディス
ク基板に存する。すなわち、本発明においては、ポリイ
ミド系樹脂の塗布工程において、非磁性基板の仕上げ工
程の表面粗度が悪くても、いわゆる塗布工程におけるレ
ベリング効果（均展性効果）を利用する事により被膜表
面の表面粗度を格段に上げ、同時に合金基板表面の欠陥
もおおいかくしてしまうものである。
、うねシピツチＳＯμ以下の非磁性基板上にポリイミド
系樹脂ｆ ３− Ｓ Ｏｐの厚さに被覆した磁気ディス
ク基板に存する。すなわち、本発明においては、ポリイ
ミド系樹脂の塗布工程において、非磁性基板の仕上げ工
程の表面粗度が悪くても、いわゆる塗布工程におけるレ
ベリング効果（均展性効果）を利用する事により被膜表
面の表面粗度を格段に上げ、同時に合金基板表面の欠陥
もおおいかくしてしまうものである。
本発明で用いられる非磁性基板としてはアルミニウム単
味、またはアルミニウムーマグネシウム合金等のアルミ
ニウム又はアルミニウム合金基板が供せられる。あるい
は、ポリイミド樹脂との密着性を向上させる事を目的と
して非磁性基板表面に何らかの表面処理がほどこされて
いてもよい。かかる非磁性基板は旋盤加工と加圧焼鈍に
よシ所足のうねυピッチと所定の表面粗さに仕上げられ
る。
味、またはアルミニウムーマグネシウム合金等のアルミ
ニウム又はアルミニウム合金基板が供せられる。あるい
は、ポリイミド樹脂との密着性を向上させる事を目的と
して非磁性基板表面に何らかの表面処理がほどこされて
いてもよい。かかる非磁性基板は旋盤加工と加圧焼鈍に
よシ所足のうねυピッチと所定の表面粗さに仕上げられ
る。
ここで、上記用足のうね９ピツチはＳθμが好ましく、
又所定の表面粗さは７μ（Ｒｍａｘ ）以下が好ましい
。うねシピンチ左θμ以上且つ表面粗さｌμ（Ｒｍａｘ
）以上では、後で述べる樹脂塗布工程において磁気ディ
スク基板としての性能を田すためには樹脂膜厚がＳＯμ
以上必要となｐ工業的に製造する事がむずかしくなる。
又所定の表面粗さは７μ（Ｒｍａｘ ）以下が好ましい
。うねシピンチ左θμ以上且つ表面粗さｌμ（Ｒｍａｘ
）以上では、後で述べる樹脂塗布工程において磁気ディ
スク基板としての性能を田すためには樹脂膜厚がＳＯμ
以上必要となｐ工業的に製造する事がむずかしくなる。
うねりピンチと表面粗さの仕上げの程度は、上記範囲内
において最終の磁気ディスクのコストとパフォーマンス
の関係において任意に決足する事が出来る。
において最終の磁気ディスクのコストとパフォーマンス
の関係において任意に決足する事が出来る。
かかる基板の上に、ポリイミド系樹脂の溶液を塗布する
のであるが、膜厚はＳ −ｔ Ｏμが好ましく、特にｌ
θμ〜２Ｓμが好ましい。膜厚がＳθｐ以上では、乾燥
工程に多大な時間を必要として、実質的に工業生産は不
可能である。
のであるが、膜厚はＳ −ｔ Ｏμが好ましく、特にｌ
θμ〜２Ｓμが好ましい。膜厚がＳθｐ以上では、乾燥
工程に多大な時間を必要として、実質的に工業生産は不
可能である。
またＳμ以下では表面粗度を向上させることができない
。
。
使用されるべきポリイミド樹脂系の溶液としては、いわ
ゆる溶媒にポリイミド樹脂を溶かしたものであっても、
又その前駆体であるポリアミック酸溶液であっても良い
。
ゆる溶媒にポリイミド樹脂を溶かしたものであっても、
又その前駆体であるポリアミック酸溶液であっても良い
。
塗布方法については、ロールコータ一方式、スピンコー
ド方法、ンローコーター法等を採用する事が出来る。
ド方法、ンローコーター法等を採用する事が出来る。
かくしてポリイミド系樹脂系の溶液を非磁性基板に塗布
した後、ｉｓｏ℃〜ＡＯ℃において約１０分間レベリン
グさせながら前乾燥する。
した後、ｉｓｏ℃〜ＡＯ℃において約１０分間レベリン
グさせながら前乾燥する。
この前乾燥工程をとらないと、前述した如き基板の表面
精度のおおいかくし効果が充分でない。
精度のおおいかくし効果が充分でない。
次いで、全体を一〇θ℃〜３３０℃に加熱乾燥焼成し、
目的とする磁気ディスク基板を作る事が出来る。
目的とする磁気ディスク基板を作る事が出来る。
本発明によル得られた、ポリイミド塗布基板は、表面粗
さ０．０ｇ−／μ、うねりピッチＳＯμ以下程度と云う
粗切削加工基板をその１′＝！使用しながら、ポリイミ
ド樹脂を特定の厚さに塗布することによシそのレベリン
グ効果によシ通常使用されているアルミニウム系基板の
表面精度と同等の精度を出す事が可能であるのみならず
、更には、下地加工の鞘既金上げたものの上に塗布する
事によυはぼ極限に近い表面精度も出す事が出来る。
さ０．０ｇ−／μ、うねりピッチＳＯμ以下程度と云う
粗切削加工基板をその１′＝！使用しながら、ポリイミ
ド樹脂を特定の厚さに塗布することによシそのレベリン
グ効果によシ通常使用されているアルミニウム系基板の
表面精度と同等の精度を出す事が可能であるのみならず
、更には、下地加工の鞘既金上げたものの上に塗布する
事によυはぼ極限に近い表面精度も出す事が出来る。
されてしまい、上部に磁性層を付着した場合においても
表面欠陥を極端に少なくする事ができるのである。
表面欠陥を極端に少なくする事ができるのである。
例えば本発明の磁気ディスク基板は、上述のような粗切
削加工基板をそのまま使用しながら、うねりピンチは実
質的になくなり１表面粗度（Ｒｍａｘ ）もｏ、ｉ未満
、好ましくは０．０３未満のものが得られる。また表面
粗度の良好な基板を用いれば０．０ ／以下と云う極め
て表面粗度の良好なものも得られる。
削加工基板をそのまま使用しながら、うねりピンチは実
質的になくなり１表面粗度（Ｒｍａｘ ）もｏ、ｉ未満
、好ましくは０．０３未満のものが得られる。また表面
粗度の良好な基板を用いれば０．０ ／以下と云う極め
て表面粗度の良好なものも得られる。
以下実施例によって、本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に駆足さ
れるものではない。
本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に駆足さ
れるものではない。
実施例１−ダ、比較例１〜３及び参考例１．．２旋盤加
工あるいはランプ仕上げにより、うねシビツチ、面粗度
について各種変化させて、アルミニウム合金板（Ｊ工８
！ｉＯｇＡ 、マグネシウム含有量的Ｌ＆％〕を研削
し、ポリイミド樹脂溶液を約１ｏ−ｓｏμ塗布し、ｇθ
℃にてＩＯ分〜Ａθ分初期乾燥を行ない、次いでコＳＯ
℃ｉｏ分、３００℃−１０分乾燥焼き付けを行なった結
果、塗布表面のうねシ、面精度は次の様になった。
工あるいはランプ仕上げにより、うねシビツチ、面粗度
について各種変化させて、アルミニウム合金板（Ｊ工８
！ｉＯｇＡ 、マグネシウム含有量的Ｌ＆％〕を研削
し、ポリイミド樹脂溶液を約１ｏ−ｓｏμ塗布し、ｇθ
℃にてＩＯ分〜Ａθ分初期乾燥を行ない、次いでコＳＯ
℃ｉｏ分、３００℃−１０分乾燥焼き付けを行なった結
果、塗布表面のうねシ、面精度は次の様になった。
参考例ノは、現在磁性層の塗布タイプに使用されている
磁気ディスク基板の表面粘度であり参考例コは、アル゛
ミニウム系基板上に陽極酸化をｔｌどこし、ポリッシュ
研ＩＩシた後の表面精度である。
磁気ディスク基板の表面粘度であり参考例コは、アル゛
ミニウム系基板上に陽極酸化をｔｌどこし、ポリッシュ
研ＩＩシた後の表面精度である。
参考例と比較して、本発明の磁気ディスク基板は表面精
度に遜色なく充分使用に耐えられる事がわかる。又実施
例ダの如き機械加工によｐ面精度を上げたものの表面に
塗布すれば、ポリイミドを塗布後の而１“Ｔ４度は、Ｒ
ｍａｘで０．００−μと云う高鞘度にも到達しうる事が
示される。
度に遜色なく充分使用に耐えられる事がわかる。又実施
例ダの如き機械加工によｐ面精度を上げたものの表面に
塗布すれば、ポリイミドを塗布後の而１“Ｔ４度は、Ｒ
ｍａｘで０．００−μと云う高鞘度にも到達しうる事が
示される。
更に実施例コ、３、ｌに示された基板ならびに参考例１
．コに示された基板に酸化鉄記録層を形成して欠陥数を
計測した。なお、ここで使用した基板は３インチ品であ
る。
．コに示された基板に酸化鉄記録層を形成して欠陥数を
計測した。なお、ここで使用した基板は３インチ品であ
る。
なお本実施例コ、３、ｑの欠陥について、顕微鏡を使用
して詳細に観察した結果、塗布工程罠付着したゴミであ
った。
して詳細に観察した結果、塗布工程罠付着したゴミであ
った。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
（ほか１名）
Claims (1)
- （１） 表面粗さが。、θｇ〜７μ、うねシビッチｇｏ
μ以下の非磁性基板上にポリイミド系樹脂をｊ−＆θμ
の厚さに被覆した磁気ディスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111179A JPS605418A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 磁気デイスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111179A JPS605418A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 磁気デイスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS605418A true JPS605418A (ja) | 1985-01-12 |
Family
ID=14554491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58111179A Pending JPS605418A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 磁気デイスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605418A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0258729A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-27 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP58111179A patent/JPS605418A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0258729A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-27 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
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