JPH08273157A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH08273157A JPH08273157A JP7076128A JP7612895A JPH08273157A JP H08273157 A JPH08273157 A JP H08273157A JP 7076128 A JP7076128 A JP 7076128A JP 7612895 A JP7612895 A JP 7612895A JP H08273157 A JPH08273157 A JP H08273157A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】データゾーンの山高さがＣＳＳゾーンの山高さ
より低い磁気ディスクを生産性良く製造する方法を提供
する。 【構成】予め磁気ディスク用基体表面の全面にほぼ均一
な山高さの凹凸を形成し、この基体の凹凸を有する表面
のうち、データゾーンのみにバーニッシュ処理を施すこ
とにより当該データゾーンの表面凹凸の山高さを低く
し、次いでその基体表面のデータゾーン及びＣＳＳゾー
ンを含む領域面上に強磁性層、保護層、潤滑層を順次形
成して磁気ディスクを製造する。 【効果】データゾーンの凹凸の山高さがＣＳＳゾーンの
凹凸の山高さより低い磁気ディスクを、簡便に生産性良
く製造することが可能であり、これにより、優れたＣＳ
Ｓ特性と磁気ヘッドの低浮上化との両立が実現できる高
記録密度の磁気ディスクが得られる。
より低い磁気ディスクを生産性良く製造する方法を提供
する。 【構成】予め磁気ディスク用基体表面の全面にほぼ均一
な山高さの凹凸を形成し、この基体の凹凸を有する表面
のうち、データゾーンのみにバーニッシュ処理を施すこ
とにより当該データゾーンの表面凹凸の山高さを低く
し、次いでその基体表面のデータゾーン及びＣＳＳゾー
ンを含む領域面上に強磁性層、保護層、潤滑層を順次形
成して磁気ディスクを製造する。 【効果】データゾーンの凹凸の山高さがＣＳＳゾーンの
凹凸の山高さより低い磁気ディスクを、簡便に生産性良
く製造することが可能であり、これにより、優れたＣＳ
Ｓ特性と磁気ヘッドの低浮上化との両立が実現できる高
記録密度の磁気ディスクが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ゾーンテクスチャリン
グ方式の磁気ディスクの製造方法に関するものである。
グ方式の磁気ディスクの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータの普及に伴い外部記
憶装置の１つである固定型磁気ディスクの高記憶容量化
への要求は、非常に高まっているが、その一つの方法と
して磁気ヘッドの浮上量を低くすることが試みられてい
る。
憶装置の１つである固定型磁気ディスクの高記憶容量化
への要求は、非常に高まっているが、その一つの方法と
して磁気ヘッドの浮上量を低くすることが試みられてい
る。
【０００３】一方ＣＳＳ方式の磁気ディスクでは、磁気
ディスクの起動、停止に伴い、磁気ヘッドがＣＳＳゾー
ンにおいて磁気ディスク表面から離着陸を行うが、磁気
ヘッドが磁気ディスク表面に吸着あるいは、衝突しない
ように、一般に磁気ディスク表面に凹凸処理（テクスチ
ャリング処理）が施されている。前述したように高記憶
容量化のためには、磁気ヘッドが磁気ディスク表面から
低く浮上することが好ましいが、この表面の凹凸があま
り激しいと、磁気ヘッドは磁気ディスク上を低く飛ぶこ
とができず、特に大きな突起等が存在すると、磁気ヘッ
ドが飛行中に接触して磁気ディスク表面に損傷を与えた
り、あるいは磁気ヘッドにヘッドクラッシュが生じたり
して記憶の高密度化には適さない。
ディスクの起動、停止に伴い、磁気ヘッドがＣＳＳゾー
ンにおいて磁気ディスク表面から離着陸を行うが、磁気
ヘッドが磁気ディスク表面に吸着あるいは、衝突しない
ように、一般に磁気ディスク表面に凹凸処理（テクスチ
ャリング処理）が施されている。前述したように高記憶
容量化のためには、磁気ヘッドが磁気ディスク表面から
低く浮上することが好ましいが、この表面の凹凸があま
り激しいと、磁気ヘッドは磁気ディスク上を低く飛ぶこ
とができず、特に大きな突起等が存在すると、磁気ヘッ
ドが飛行中に接触して磁気ディスク表面に損傷を与えた
り、あるいは磁気ヘッドにヘッドクラッシュが生じたり
して記憶の高密度化には適さない。
【０００４】これら磁気ヘッドの低浮上化と磁気ヘッド
の吸着防止を同時に満足させる方法として、従来から磁
気ヘッドの吸着あるいは、損傷が生じない範囲で可能な
限り、表面の凹凸を小さくすることが試みられてきた
が、この方式では磁気ヘッドの低浮上化に限界があっ
た。
の吸着防止を同時に満足させる方法として、従来から磁
気ヘッドの吸着あるいは、損傷が生じない範囲で可能な
限り、表面の凹凸を小さくすることが試みられてきた
が、この方式では磁気ヘッドの低浮上化に限界があっ
た。
【０００５】この問題を解決する方式として、磁気ヘッ
ドが磁気ディスク表面から離着陸を行うＣＳＳゾーン
（例えば、ドーナツ状磁気ディスクの内周近傍のディス
ク表面領域、あるいは外周近傍のディスク表面領域）の
表面にのみ磁気ヘッド−磁気ディスク間の吸着、損傷が
防止できる程度の凹凸を形成し、他のデータゾーンはそ
れよりも凹凸を小さくして、低浮上化を実現させる方
式、所謂ゾーンテクスチャリング方式、あるいは部分テ
クスチャリング方式が提案されている。
ドが磁気ディスク表面から離着陸を行うＣＳＳゾーン
（例えば、ドーナツ状磁気ディスクの内周近傍のディス
ク表面領域、あるいは外周近傍のディスク表面領域）の
表面にのみ磁気ヘッド−磁気ディスク間の吸着、損傷が
防止できる程度の凹凸を形成し、他のデータゾーンはそ
れよりも凹凸を小さくして、低浮上化を実現させる方
式、所謂ゾーンテクスチャリング方式、あるいは部分テ
クスチャリング方式が提案されている。
【０００６】このような磁気ディスク用基体の表面に凹
凸を部分的に形成する方法については、部分的に研磨加
工の程度を変える方法（特開昭57- 167135号公報等）、
マスクを介して部分的に凹凸面を形成する方法（特開昭
62- 256214号公報）、マスク材をパターン印刷後にエッ
チングする方法（特開昭63-86116号公報）、部分的にエ
ッチングする方法（特開昭63- 167422号公報）等が公知
である。しかし、これらの方法では制御された形状の微
細な凹凸表面を、制御された部分にしかも生産性良く形
成するには限界があった。
凸を部分的に形成する方法については、部分的に研磨加
工の程度を変える方法（特開昭57- 167135号公報等）、
マスクを介して部分的に凹凸面を形成する方法（特開昭
62- 256214号公報）、マスク材をパターン印刷後にエッ
チングする方法（特開昭63-86116号公報）、部分的にエ
ッチングする方法（特開昭63- 167422号公報）等が公知
である。しかし、これらの方法では制御された形状の微
細な凹凸表面を、制御された部分にしかも生産性良く形
成するには限界があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、記憶の高密
度化を図る磁気ディスクの前述した耐ＣＳＳ特性と低浮
上化の両立を可能にする、表面のほぼ全面に凹凸を有
し、データゾーンの山高さがＣＳＳゾーンの山高さより
低い磁気ディスクを容易に製造する方法を提供すること
を目的とする。
度化を図る磁気ディスクの前述した耐ＣＳＳ特性と低浮
上化の両立を可能にする、表面のほぼ全面に凹凸を有
し、データゾーンの山高さがＣＳＳゾーンの山高さより
低い磁気ディスクを容易に製造する方法を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、表面のほぼ全面に凹凸
を有する磁気ディスクのデータゾーンの凹凸の山高さが
ＣＳＳゾーンの凹凸の山高さより低い磁気ディスクの製
造方法において、予め磁気ディスク用基体表面のほぼ全
面にほぼ均一な山高さの凹凸を形成し、この基体の凹凸
を有する表面のうち、データゾーンのみにバーニッシュ
処理を施すことにより当該データゾーンの表面凹凸の山
高さを低くし、次いでその基体表面のデータゾーン及び
ＣＳＳゾーンを含む領域面上に強磁性層、保護層、潤滑
層を順次形成することを特徴とする磁気ディスクの製造
方法を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、表面のほぼ全面に凹凸
を有する磁気ディスクのデータゾーンの凹凸の山高さが
ＣＳＳゾーンの凹凸の山高さより低い磁気ディスクの製
造方法において、予め磁気ディスク用基体表面のほぼ全
面にほぼ均一な山高さの凹凸を形成し、この基体の凹凸
を有する表面のうち、データゾーンのみにバーニッシュ
処理を施すことにより当該データゾーンの表面凹凸の山
高さを低くし、次いでその基体表面のデータゾーン及び
ＣＳＳゾーンを含む領域面上に強磁性層、保護層、潤滑
層を順次形成することを特徴とする磁気ディスクの製造
方法を提供するものである。
【０００９】また、本発明は、表面のほぼ全面に凹凸を
有する磁気ディスクのデータゾーンの凹凸の山高さがＣ
ＳＳゾーンの凹凸の山高さより低い磁気ディスクの製造
方法において、予め磁気ディスク用基体表面上に強磁性
層を形成した後、その表面上のほぼ全面にほぼ均一な山
高さの凹凸を形成し、次いでデータゾーンのみにバーニ
ッシュ処理を施すことにより当該データゾーンの表面凹
凸の山高さを低くし、更にその基体表面のデータゾーン
及びＣＳＳゾーンを含む領域面上に潤滑層を形成するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法を提供するもの
である。
有する磁気ディスクのデータゾーンの凹凸の山高さがＣ
ＳＳゾーンの凹凸の山高さより低い磁気ディスクの製造
方法において、予め磁気ディスク用基体表面上に強磁性
層を形成した後、その表面上のほぼ全面にほぼ均一な山
高さの凹凸を形成し、次いでデータゾーンのみにバーニ
ッシュ処理を施すことにより当該データゾーンの表面凹
凸の山高さを低くし、更にその基体表面のデータゾーン
及びＣＳＳゾーンを含む領域面上に潤滑層を形成するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法を提供するもの
である。
【００１０】本発明において、バーニッシュ処理、即ち
バーニッシュテープにより基体表面を研磨する処理は、
磁気ディスクのデータゾーンのみの表面凹凸を正確に、
かつ再現性良く、表面凹凸のの山の高さを低くすること
ができることのほかに、磁気ディスク基体表面にキズを
つけることなく処理できるので好ましい。
バーニッシュテープにより基体表面を研磨する処理は、
磁気ディスクのデータゾーンのみの表面凹凸を正確に、
かつ再現性良く、表面凹凸のの山の高さを低くすること
ができることのほかに、磁気ディスク基体表面にキズを
つけることなく処理できるので好ましい。
【００１１】このようなバーニッシュ処理方法として
は、所望の回転速度で回転している磁気ディスク基体の
表面に砥粒を供給しながらバーニッシュテープを接触さ
せ、基体表面の凹凸を凸部を研磨することによって、あ
るいは磁気ディスク基体の表面に砥粒を供給しながら走
行するバーニッシュテープを接触させ、基体表面の凹凸
の凸部を研磨することによって達成される。特に、張力
を持ったバーニッシュテープに気体圧力を介して基体表
面に接触させることによる方法が、基体表面にキズをつ
けることなく均一に表面の凹凸の山高さを低くする点で
望ましい。
は、所望の回転速度で回転している磁気ディスク基体の
表面に砥粒を供給しながらバーニッシュテープを接触さ
せ、基体表面の凹凸を凸部を研磨することによって、あ
るいは磁気ディスク基体の表面に砥粒を供給しながら走
行するバーニッシュテープを接触させ、基体表面の凹凸
の凸部を研磨することによって達成される。特に、張力
を持ったバーニッシュテープに気体圧力を介して基体表
面に接触させることによる方法が、基体表面にキズをつ
けることなく均一に表面の凹凸の山高さを低くする点で
望ましい。
【００１２】このようなバーニッシュ処理に用いられる
テープの材質、砥粒粒径は、特に制限されないが、この
目的のためには、砥粒の平均粒径が０．３μｍ以上２μ
ｍ以下であることが望ましく、さらには０．４ｍ以上
１．２μｍ以下であることがより望ましい。
テープの材質、砥粒粒径は、特に制限されないが、この
目的のためには、砥粒の平均粒径が０．３μｍ以上２μ
ｍ以下であることが望ましく、さらには０．４ｍ以上
１．２μｍ以下であることがより望ましい。
【００１３】本発明においては、ＣＳＳゾーンは通常円
形のドーナツ状の磁気ディスクの主表面の内周領域ある
いは外周領域に所定幅をもってその領域の全周に環状に
設けられるので、当該ＣＳＳゾーンを除いたデータゾー
ンの領域に選択的に上記バーニッシュ処理が施され、こ
れによりデータゾーンの表面凹凸の山高さが低くされ
る。
形のドーナツ状の磁気ディスクの主表面の内周領域ある
いは外周領域に所定幅をもってその領域の全周に環状に
設けられるので、当該ＣＳＳゾーンを除いたデータゾー
ンの領域に選択的に上記バーニッシュ処理が施され、こ
れによりデータゾーンの表面凹凸の山高さが低くされ
る。
【００１４】バーニッシュ処理を施す磁気ディスク用基
体の表面の凹凸としては、バーニッシュ処理により山の
高さを低くできるものであれば特に制限はない。
体の表面の凹凸としては、バーニッシュ処理により山の
高さを低くできるものであれば特に制限はない。
【００１５】例えば、磁気ディスク基体の表面に凹凸を
形成する方法としては、無機質の微粒子を分散させたコ
ーティング液を基体の主表面に塗布し、基体表面に微細
な凹凸を有するコーティング層を形成する方法（例え
ば、金属アルコキシド溶液を加水分解、縮重合して作製
したゾル液中に一次粒子の平均粒子径５０〜８００Å程
度のシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の無機
質の微粒子を分散させたコーティング液を磁気ディスク
用基板表面にコーティングし、焼成して微細な凹凸を有
する非晶質コーティング層を形成する方法）、基体表面
を研磨テープで研削し、表面に微細な凹凸を形成する方
法、あるいはスパッタ法で基体表面上に島状に微粒子を
析出させ表面に微細な凹凸を形成する方法等が実用可能
な方法として挙げられる。
形成する方法としては、無機質の微粒子を分散させたコ
ーティング液を基体の主表面に塗布し、基体表面に微細
な凹凸を有するコーティング層を形成する方法（例え
ば、金属アルコキシド溶液を加水分解、縮重合して作製
したゾル液中に一次粒子の平均粒子径５０〜８００Å程
度のシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の無機
質の微粒子を分散させたコーティング液を磁気ディスク
用基板表面にコーティングし、焼成して微細な凹凸を有
する非晶質コーティング層を形成する方法）、基体表面
を研磨テープで研削し、表面に微細な凹凸を形成する方
法、あるいはスパッタ法で基体表面上に島状に微粒子を
析出させ表面に微細な凹凸を形成する方法等が実用可能
な方法として挙げられる。
【００１６】特に、バーニッシュ処理時の基体表面の凹
凸とバーニッシュテープとの接触により、基体表面にキ
ズを発生させることなく表面凹凸の山高さを容易に、か
つ精度良く均一に低くすることができるようにするため
には、表面に無機質の微粒子を分散させた非晶質のコー
ティング層からなる凹凸を有した磁気ディスク基体であ
ることが望ましい。かかる非晶質の凹凸表面を有するコ
ーティング層は、機械的、化学的耐久性の高い膜であ
り、磁気ディスク基体表面に形成される凹凸として最適
である。
凸とバーニッシュテープとの接触により、基体表面にキ
ズを発生させることなく表面凹凸の山高さを容易に、か
つ精度良く均一に低くすることができるようにするため
には、表面に無機質の微粒子を分散させた非晶質のコー
ティング層からなる凹凸を有した磁気ディスク基体であ
ることが望ましい。かかる非晶質の凹凸表面を有するコ
ーティング層は、機械的、化学的耐久性の高い膜であ
り、磁気ディスク基体表面に形成される凹凸として最適
である。
【００１７】かかる凹凸を有する非晶質のコーティング
層は、無機質の微粒子を分散させたコーティング液を磁
気ディスク基体表面に塗布し、その後加熱して焼き付け
ることにより容易に得られる。例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａ
ｌ、Ｚｒ等の金属アルコキシドやその加水分解生成物と
Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等の酸化物等の無機質の微粒子
とを含むゾル・ゲル反応により非晶質の被膜形成ができ
るコーティング液が好ましく使用される。かかる無機質
物質からなる非晶質の凹凸表面を有するコーティング層
は、機械的、化学的耐久性の高い膜であり、磁気ディス
ク基体表面に形成される凹凸として最適である。
層は、無機質の微粒子を分散させたコーティング液を磁
気ディスク基体表面に塗布し、その後加熱して焼き付け
ることにより容易に得られる。例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａ
ｌ、Ｚｒ等の金属アルコキシドやその加水分解生成物と
Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等の酸化物等の無機質の微粒子
とを含むゾル・ゲル反応により非晶質の被膜形成ができ
るコーティング液が好ましく使用される。かかる無機質
物質からなる非晶質の凹凸表面を有するコーティング層
は、機械的、化学的耐久性の高い膜であり、磁気ディス
ク基体表面に形成される凹凸として最適である。
【００１８】このようなコーティング液の塗布方法とし
ては、例えば上記したようなコーティング液を磁気ディ
スク基体の主表面に薄く被膜形成することができるフレ
キソ印刷法、タコ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷
法、あるいはスピンコート法、あるいはコーティング液
を含浸させた布で塗布する方法など適宜な塗布方法を選
ぶことができる。
ては、例えば上記したようなコーティング液を磁気ディ
スク基体の主表面に薄く被膜形成することができるフレ
キソ印刷法、タコ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷
法、あるいはスピンコート法、あるいはコーティング液
を含浸させた布で塗布する方法など適宜な塗布方法を選
ぶことができる。
【００１９】このように塗布されたコーティング液は、
溶媒を乾燥し、１５０℃以上、例えば１５０〜６００℃
に加熱し、焼成処理をすることにより、表面硬度、機械
的耐久性、化学的耐久性に優れたコーティング層とな
る。
溶媒を乾燥し、１５０℃以上、例えば１５０〜６００℃
に加熱し、焼成処理をすることにより、表面硬度、機械
的耐久性、化学的耐久性に優れたコーティング層とな
る。
【００２０】このような表面に凹凸を有する非晶質のコ
ーティング層を磁気ディスク用基体面に形成すると、そ
の上にスパッタ法により強磁性層、潤滑層順次形成して
も、または下地層、強磁性層、保護層、潤滑層を順次形
成しても、この凹凸構造が磁気ディスクの表面の凹凸構
造として再現できる。
ーティング層を磁気ディスク用基体面に形成すると、そ
の上にスパッタ法により強磁性層、潤滑層順次形成して
も、または下地層、強磁性層、保護層、潤滑層を順次形
成しても、この凹凸構造が磁気ディスクの表面の凹凸構
造として再現できる。
【００２１】なお、磁気ディスク用基体表面に、必要に
応じ下地層を形成し、その上に強磁性層に形成した後、
保護層を介して、あるいは介さずして、その上に非晶質
の表面に凹凸を有するコーティング層を施し、必要に応
じ更に保護層を形成し、潤滑層を形成しても、所望の表
面凹凸構造を有する磁気ディスクを製造することができ
る。
応じ下地層を形成し、その上に強磁性層に形成した後、
保護層を介して、あるいは介さずして、その上に非晶質
の表面に凹凸を有するコーティング層を施し、必要に応
じ更に保護層を形成し、潤滑層を形成しても、所望の表
面凹凸構造を有する磁気ディスクを製造することができ
る。
【００２２】本発明においては、上記したようにコーテ
ィング法により凹凸を付与させる場合、このコーティン
グ層は、非磁性の磁気ディスク用基体面に直接または下
地層を介して上記した方法により形成してもよいし、あ
るいは非磁性の磁気ディスク用基板の表面に下地層を介
して、または介せずして強磁性層を形成し、その上に耐
食層を介して、または介せずして、またはその上に保護
層を介して、または介せずして、その上に上記した方法
により凹凸を有するコーティング層を形成してもよい。
もちろん、上記したようにコーティング法により凹凸を
付与させる場合、この凹凸を有するコーティング層は上
記した例に限らず、該コーティング層により磁気ディス
クの表面に適切な凹凸構造が形成できるならば、磁気デ
ィスクの非磁性ディスク基板面上に形成される多層構造
のどの界面に形成してもよい。
ィング法により凹凸を付与させる場合、このコーティン
グ層は、非磁性の磁気ディスク用基体面に直接または下
地層を介して上記した方法により形成してもよいし、あ
るいは非磁性の磁気ディスク用基板の表面に下地層を介
して、または介せずして強磁性層を形成し、その上に耐
食層を介して、または介せずして、またはその上に保護
層を介して、または介せずして、その上に上記した方法
により凹凸を有するコーティング層を形成してもよい。
もちろん、上記したようにコーティング法により凹凸を
付与させる場合、この凹凸を有するコーティング層は上
記した例に限らず、該コーティング層により磁気ディス
クの表面に適切な凹凸構造が形成できるならば、磁気デ
ィスクの非磁性ディスク基板面上に形成される多層構造
のどの界面に形成してもよい。
【００２３】本発明においては、ＣＳＳゾーンは通常円
形のドーナツ状の磁気ディスクの主表面の内周領域ある
いは外周領域に所定幅をもってその領域の全周に環状に
設けられるので、当該ＣＳＳゾーンを除いたデータゾー
ンの領域に選択的に上記バーニッシュ処理が施され、こ
れによりデータゾーンの表面凹凸の山高さが低くされ
る。
形のドーナツ状の磁気ディスクの主表面の内周領域ある
いは外周領域に所定幅をもってその領域の全周に環状に
設けられるので、当該ＣＳＳゾーンを除いたデータゾー
ンの領域に選択的に上記バーニッシュ処理が施され、こ
れによりデータゾーンの表面凹凸の山高さが低くされ
る。
【００２４】本発明において使用される磁気記録層とし
ての強磁性層としては、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系等のＣｏ合金系の磁気記録材料が好
ましく、また強磁性層の下層に耐久性向上のため、磁気
特性改善のために、下地層、例えば、Ｎｉ下地層、Ｎｉ
−Ｐ下地層、Ｃｒ層、ＳｉＯ2 層などの各種下地層を形
成することができる。
ての強磁性層としては、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系等のＣｏ合金系の磁気記録材料が好
ましく、また強磁性層の下層に耐久性向上のため、磁気
特性改善のために、下地層、例えば、Ｎｉ下地層、Ｎｉ
−Ｐ下地層、Ｃｒ層、ＳｉＯ2 層などの各種下地層を形
成することができる。
【００２５】また、本発明においては、上記したような
強磁性層の上層に、またはその下層にＣｒ層やＣｒ合金
層、その他各種耐食性のある金属または合金層を形成す
ることもできる。
強磁性層の上層に、またはその下層にＣｒ層やＣｒ合金
層、その他各種耐食性のある金属または合金層を形成す
ることもできる。
【００２６】本発明において使用される磁気ディスク用
基体としては、ガラス、結晶化ガラス、カーボン、非磁
性金属およびこれらの表面にコーティングされたものか
らなる群より選ばれた少なくとも１種で構成されるもの
であることが好ましいが、これに限定されずその他所望
の非磁性材料も使用できる。
基体としては、ガラス、結晶化ガラス、カーボン、非磁
性金属およびこれらの表面にコーティングされたものか
らなる群より選ばれた少なくとも１種で構成されるもの
であることが好ましいが、これに限定されずその他所望
の非磁性材料も使用できる。
【００２７】また、本発明においては、強磁性層、保護
層、潤滑層、下地層、耐食層の他に所望において種々の
機能膜を形成することもなんら妨げない。
層、潤滑層、下地層、耐食層の他に所望において種々の
機能膜を形成することもなんら妨げない。
【００２８】このようにして形成された磁気ディスク基
体表面の凹凸形状は、ＣＳＳゾーンの表面の凹凸の最大
山高さが、山の高さ分布の最頻値を基準として、１５０
Å以上８００Å以下であり、さらに、データゾーンの表
面の凹凸の最大山高さｈ1 と、ＣＳＳゾーンの表面の凹
凸の最大山高さｈ2 との間に、０．４≦ｈ１／ｈ２＜
０．９の関係を有することにより、良好な耐ＣＳＳ特性
と、データゾーンでの低い磁気ヘッド浮上高さが両立で
きるとともに、ＣＳＳゾーンとテータゾーンとの間を磁
気ヘッドが移動する際のヘッドの飛行安定性が確保でき
る。
体表面の凹凸形状は、ＣＳＳゾーンの表面の凹凸の最大
山高さが、山の高さ分布の最頻値を基準として、１５０
Å以上８００Å以下であり、さらに、データゾーンの表
面の凹凸の最大山高さｈ1 と、ＣＳＳゾーンの表面の凹
凸の最大山高さｈ2 との間に、０．４≦ｈ１／ｈ２＜
０．９の関係を有することにより、良好な耐ＣＳＳ特性
と、データゾーンでの低い磁気ヘッド浮上高さが両立で
きるとともに、ＣＳＳゾーンとテータゾーンとの間を磁
気ヘッドが移動する際のヘッドの飛行安定性が確保でき
る。
【００２９】
（実施例１）エチルシリケートを加水分解、縮重合して
作成したＳｉアルコキシドの部分加水分解・縮重合物を
含有するエタノール溶液（シリカ換算濃度１．０ｗｔ
％）に、一次粒子の平均粒径３００Åのシリカ微粒子を
０．０２ｗｔ％混合、分散させたコーティング液を作成
した。一方、外径６５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ０．６
３５ｍｍの平滑な表面を有するドーナツ形状の板状のソ
ーダライム・ガラス基体を用意し、この基体の内周の２
点を支持してぶら下げ、上記溶液に浸漬した後、１ｍｍ
／秒の速度で引き上げて、加熱乾燥した後、３５０℃で
３０分焼成して、主表面に凹凸を有する磁気ディスク用
基体を作成した。
作成したＳｉアルコキシドの部分加水分解・縮重合物を
含有するエタノール溶液（シリカ換算濃度１．０ｗｔ
％）に、一次粒子の平均粒径３００Åのシリカ微粒子を
０．０２ｗｔ％混合、分散させたコーティング液を作成
した。一方、外径６５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ０．６
３５ｍｍの平滑な表面を有するドーナツ形状の板状のソ
ーダライム・ガラス基体を用意し、この基体の内周の２
点を支持してぶら下げ、上記溶液に浸漬した後、１ｍｍ
／秒の速度で引き上げて、加熱乾燥した後、３５０℃で
３０分焼成して、主表面に凹凸を有する磁気ディスク用
基体を作成した。
【００３０】この磁気ディスク用基体の半径１６ｍｍよ
り外側を、テープバーニッシュ装置を用いて、バーニッ
シ研磨テープ（ＴＭＰ社製：ＷＡ８０００、研磨剤：ア
ルミナ）を回転している磁気ディスク用基体に空気圧で
押し当てることにより、バーニッシュ処理を施した。
り外側を、テープバーニッシュ装置を用いて、バーニッ
シ研磨テープ（ＴＭＰ社製：ＷＡ８０００、研磨剤：ア
ルミナ）を回転している磁気ディスク用基体に空気圧で
押し当てることにより、バーニッシュ処理を施した。
【００３１】次いで、その基体上にスパッタ法で、厚さ
約１５００ÅのＣｒ下地層、厚さ約６００ÅのＣｏ−Ｎ
ｉ磁性層、厚さ約３００Åのカーボン保護層を形成し、
さらに浸漬法により厚さ約３０Åのパーフルオロポリエ
ーテルの潤滑剤を被覆して潤滑層を形成した。
約１５００ÅのＣｒ下地層、厚さ約６００ÅのＣｏ−Ｎ
ｉ磁性層、厚さ約３００Åのカーボン保護層を形成し、
さらに浸漬法により厚さ約３０Åのパーフルオロポリエ
ーテルの潤滑剤を被覆して潤滑層を形成した。
【００３２】こうして作られた磁気ディスクの内周近傍
は、山高さ分布の最頻値を基準とした山高さが約２９０
Åであり、外周近傍は山高さが約２００Åであった。ま
た、半径１６ｍｍのバーニッシュ処理をした部分としな
い部分との境界には、バーニッシュ処理による円周状の
キズは観察されなかった。
は、山高さ分布の最頻値を基準とした山高さが約２９０
Åであり、外周近傍は山高さが約２００Åであった。ま
た、半径１６ｍｍのバーニッシュ処理をした部分としな
い部分との境界には、バーニッシュ処理による円周状の
キズは観察されなかった。
【００３３】これら磁気ディスクを、半径１５．２ｍｍ
のＣＳＳゾーンでＣＳＳテストを５万回行った後の摩擦
係数を測定したところ約０．２であり、外観のダメージ
も見受けられず、良好な結果を示した。さらに、磁気ヘ
ッドの最低浮上保証量をフライング・ハイト・テスター
にて測定したところ、半径１６ｍｍより内側では約２マ
イクロインチであったが、半径１６ｍｍより外側では、
１．２マイクロインチ以下であった。また、ＣＳＳゾー
ンとテータゾーンとの間のシーク動作においても、グラ
イド・ノイズが乱れることなく、磁気ヘッドの良好な飛
行安定性が示された。
のＣＳＳゾーンでＣＳＳテストを５万回行った後の摩擦
係数を測定したところ約０．２であり、外観のダメージ
も見受けられず、良好な結果を示した。さらに、磁気ヘ
ッドの最低浮上保証量をフライング・ハイト・テスター
にて測定したところ、半径１６ｍｍより内側では約２マ
イクロインチであったが、半径１６ｍｍより外側では、
１．２マイクロインチ以下であった。また、ＣＳＳゾー
ンとテータゾーンとの間のシーク動作においても、グラ
イド・ノイズが乱れることなく、磁気ヘッドの良好な飛
行安定性が示された。
【００３４】（実施例２）エチルシリケートを加水分
解、縮重合して作成したＳｉアルコキシドの部分加水分
解・縮重合物を含有するエタノール溶液（シリカ換算濃
度１．２ｗｔ％）に、一次粒子の平均粒径５５０Åのシ
リカ微粒子を０．０５ｗｔ％混合、分散させたコーティ
ング液を作成した。実施例１と同じサイズの平滑な表面
を有するドーナツ形状の板状のソーダライム・ガラス基
体の内周の２点を支持してぶら下げ、上記溶液に浸漬し
た後、２ｍｍ／秒の速度で引き上げて、加熱乾燥した
後、３５０℃で３０分焼成して、表面に凹凸を有する磁
気ディスク用基体のサンプルを作成した。
解、縮重合して作成したＳｉアルコキシドの部分加水分
解・縮重合物を含有するエタノール溶液（シリカ換算濃
度１．２ｗｔ％）に、一次粒子の平均粒径５５０Åのシ
リカ微粒子を０．０５ｗｔ％混合、分散させたコーティ
ング液を作成した。実施例１と同じサイズの平滑な表面
を有するドーナツ形状の板状のソーダライム・ガラス基
体の内周の２点を支持してぶら下げ、上記溶液に浸漬し
た後、２ｍｍ／秒の速度で引き上げて、加熱乾燥した
後、３５０℃で３０分焼成して、表面に凹凸を有する磁
気ディスク用基体のサンプルを作成した。
【００３５】この磁気ディスク用基体の半径１６ｍｍよ
り外側を、テープバーニッシュ装置を用いて、バーニッ
シュ研磨テープ（ＴＭＰ社製：ＧＣ８０００、研磨剤：
シリコンカーバイト）を回転している磁気ディスク用基
体に空気圧で押し当てることにより、バーニッシュ処理
を施した。
り外側を、テープバーニッシュ装置を用いて、バーニッ
シュ研磨テープ（ＴＭＰ社製：ＧＣ８０００、研磨剤：
シリコンカーバイト）を回転している磁気ディスク用基
体に空気圧で押し当てることにより、バーニッシュ処理
を施した。
【００３６】その基体上に実施例１同様にして、下地
層、磁性層、保護層を形成し、さらに潤滑層を被覆して
磁気ディスクを作製した。
層、磁性層、保護層を形成し、さらに潤滑層を被覆して
磁気ディスクを作製した。
【００３７】こうして作られた磁気ディスクの内周近傍
は、山高さ分布の最頻値を基準とした山高さが約５００
Åであり、外周近傍は山高さが約２７０Åであった。ま
た、半径１６ｍｍのバーニッシュ処理をした部分としな
い部分との境界には、バーニッシュ処理による円周状の
キズは観察されなかった。
は、山高さ分布の最頻値を基準とした山高さが約５００
Åであり、外周近傍は山高さが約２７０Åであった。ま
た、半径１６ｍｍのバーニッシュ処理をした部分としな
い部分との境界には、バーニッシュ処理による円周状の
キズは観察されなかった。
【００３８】これら磁気ディスクを、半径１５．２ｍｍ
のＣＳＳゾーンでＣＳＳテストを５万回行った後の摩擦
係数を測定したところ約０．３であり、外観のダメージ
も見受けられず、良好な結果を示した。さらに、磁気ヘ
ッドの最低浮上保証量をフライング・ハイト・テスター
にて測定したところ、半径１６ｍｍより内側では約３マ
イクロインチであったが、半径１６ｍｍより外側では、
１．６マイクロインチ以下であった。また、ＣＳＳゾー
ンとテータゾーンとの間のシーク動作においても、グラ
イド・ノイズが乱れることなく、磁気ヘッドの良好な飛
行安定性が示された。
のＣＳＳゾーンでＣＳＳテストを５万回行った後の摩擦
係数を測定したところ約０．３であり、外観のダメージ
も見受けられず、良好な結果を示した。さらに、磁気ヘ
ッドの最低浮上保証量をフライング・ハイト・テスター
にて測定したところ、半径１６ｍｍより内側では約３マ
イクロインチであったが、半径１６ｍｍより外側では、
１．６マイクロインチ以下であった。また、ＣＳＳゾー
ンとテータゾーンとの間のシーク動作においても、グラ
イド・ノイズが乱れることなく、磁気ヘッドの良好な飛
行安定性が示された。
【００３９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、制御された表面
凹凸形状を有する部分を、制御された領域に均一に形成
された磁気ディスクを、簡便に生産性良く製造すること
が可能である。これにより、耐ＣＳＳ特性と磁気ヘッド
の低浮上量化の両立を可能にした、高密度記憶化を図れ
る磁気ディスクを提供することが可能となる。
凹凸形状を有する部分を、制御された領域に均一に形成
された磁気ディスクを、簡便に生産性良く製造すること
が可能である。これにより、耐ＣＳＳ特性と磁気ヘッド
の低浮上量化の両立を可能にした、高密度記憶化を図れ
る磁気ディスクを提供することが可能となる。
Claims (9)
- 【請求項１】表面のほぼ全面に凹凸を有する磁気ディス
クのデータゾーンの凹凸の山高さがＣＳＳゾーンの凹凸
の山高さより低い磁気ディスクの製造方法において、予
め磁気ディスク用基体表面のほぼ全面にほぼ均一な山高
さの凹凸を形成し、この基体の凹凸を有する表面のう
ち、データゾーンのみにバーニッシュ処理を施すことに
より当該データゾーンの表面凹凸の山高さを低くし、次
いでその基体表面のデータゾーン及びＣＳＳゾーンを含
む領域面上に強磁性層、保護層、潤滑層を順次形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】表面のほぼ全面に凹凸を有する磁気ディス
クのデータゾーンの凹凸の山高さがＣＳＳゾーンの凹凸
の山高さより低い磁気ディスクの製造方法において、予
め磁気ディスク用基体表面上に強磁性層を形成した後、
その表面上のほぼ全面にほぼ均一な山高さの凹凸を形成
し、次いでデータゾーンのみにバーニッシュ処理を施す
ことにより当該データゾーンの表面凹凸の山高さを低く
し、更にその基体表面のデータゾーン及びＣＳＳゾーン
を含む領域面上に潤滑層を形成することを特徴とする磁
気ディスクの製造方法。 - 【請求項３】予め磁気ディスク用基体表面のほぼ全面に
形成される凹凸は、磁気ディスク用基体表面に無機質の
微粒子を分散させたコーティング液を塗布することによ
り得ることを特徴とする請求項１または２記載の磁気デ
ィスクの製造方法。 - 【請求項４】磁気ディスク用基体表面に無機質の微粒子
を分散させたコーティング液を塗布し、次いでこの基体
を１５０℃以上に加熱処理し、焼付け処理して凹凸を有
する非晶質のコーティング層を形成することを特徴とす
る請求項３記載の磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項５】前記非晶質のコーティング層が、金属アル
コキシドを主原料として加水分解・重合反応により形成
されたものであることを特徴とする請求項４記載の磁気
ディスクの製造方法。 - 【請求項６】前記バーニッシュ処理が、回転している磁
気ディスク用基体の主表面に研磨テープを浮遊させなが
ら接触することにより行われることを特徴とする請求項
１または２記載の磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項７】前記ＣＳＳゾーンの表面の凹凸の最大山高
さが、山の高さ分布の最頻値を基準として、１５０Å以
上８００Å以下であり、前記データゾーンの表面の凹凸
の最大山高さｈ1 と、ＣＳＳゾーンの表面の凹凸の最大
山高さｈ2 との間に０．４≦ｈ1 ／ｈ2 ＜０．９の関係
を有することを特徴とする請求項１または２記載の磁気
ディスクの製造方法。 - 【請求項８】前記強磁性層の下層に下地膜が形成されて
いることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディ
スクの製造方法。 - 【請求項９】前記強磁性層の上層に保護層が形成されて
いることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディ
スクの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7076128A JPH08273157A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 磁気ディスクの製造方法 |
| US08/624,801 US5738906A (en) | 1995-03-31 | 1996-03-27 | Method for producing a magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7076128A JPH08273157A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273157A true JPH08273157A (ja) | 1996-10-18 |
Family
ID=13596305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7076128A Pending JPH08273157A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5738906A (ja) |
| JP (1) | JPH08273157A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6746754B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-06-08 | Seagate Technology Llc | Mechanical texturing of sol-gel-coated substrates for magnetic recording media |
| US6866883B2 (en) * | 2000-07-25 | 2005-03-15 | Seagate Technology Llc | Mechanical texturing of sol-gel—coated substrates for magnetic recording media |
| US7019924B2 (en) * | 2001-02-16 | 2006-03-28 | Komag, Incorporated | Patterned medium and recording head |
| US20050036223A1 (en) * | 2002-11-27 | 2005-02-17 | Wachenschwanz David E. | Magnetic discrete track recording disk |
| US7147790B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-12-12 | Komag, Inc. | Perpendicular magnetic discrete track recording disk |
| US8727832B2 (en) * | 2011-09-27 | 2014-05-20 | HGST Netherlands B.V. | System, method and apparatus for enhanced cleaning and polishing of magnetic recording disk |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167135A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-14 | Nec Corp | Magnetic disc |
| JPS62256214A (ja) * | 1986-04-28 | 1987-11-07 | Hoya Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0823933B2 (ja) * | 1986-09-30 | 1996-03-06 | ホ−ヤ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS63167422A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7076128A patent/JPH08273157A/ja active Pending
-
1996
- 1996-03-27 US US08/624,801 patent/US5738906A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5738906A (en) | 1998-04-14 |
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