JPS62208426A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS62208426A JPS62208426A JP5036286A JP5036286A JPS62208426A JP S62208426 A JPS62208426 A JP S62208426A JP 5036286 A JP5036286 A JP 5036286A JP 5036286 A JP5036286 A JP 5036286A JP S62208426 A JPS62208426 A JP S62208426A
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Landscapes
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は金属磁性粉を用いた磁気ディスク塗膜の焼付は
硬化方法に係り、特に塗膜の焼付は硬化処理によっても
金属磁性粉の磁気特性を劣化させず、良好な特性をもっ
た磁気ディスクが得られる磁気ディスクの製造方法に関
する。
硬化方法に係り、特に塗膜の焼付は硬化処理によっても
金属磁性粉の磁気特性を劣化させず、良好な特性をもっ
た磁気ディスクが得られる磁気ディスクの製造方法に関
する。
従来γ−Ｆｒ３２．Ｏｓ、コバルト被着ｙＦｅｚ○８な
どの磁性粉とエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬
化性樹脂をバインダーとする磁気ディスク塗膜の硬化は
酸化雰囲気中１８０℃〜２５０℃の温度で行なわれてい
るが、金属磁性粉を含む塗膜では焼付は硬化の際に金属
磁性粉の酸化が進み、磁気特性が大巾に低下するという
欠点があった。
どの磁性粉とエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬
化性樹脂をバインダーとする磁気ディスク塗膜の硬化は
酸化雰囲気中１８０℃〜２５０℃の温度で行なわれてい
るが、金属磁性粉を含む塗膜では焼付は硬化の際に金属
磁性粉の酸化が進み、磁気特性が大巾に低下するという
欠点があった。
この欠点を補なうため、不活性雰囲気で硬化処理を行な
い、塗膜の磁気特性の低下を防止する方法が提案されて
いる（特開昭５９−３３６２７）。しかしながら、この
不活性雰囲気中での硬化においても、磁気特性の酸化に
よる低下を完全に除くことはできていない。
い、塗膜の磁気特性の低下を防止する方法が提案されて
いる（特開昭５９−３３６２７）。しかしながら、この
不活性雰囲気中での硬化においても、磁気特性の酸化に
よる低下を完全に除くことはできていない。
本発明の目的は、金属磁性粉を用いた磁気ディスク塗膜
の焼付は硬化に際し、金属磁性粉の磁化特性を損なうこ
となく良好な塗膜強度を与える磁気ディスクの製造方法
を提供することにある。
の焼付は硬化に際し、金属磁性粉の磁化特性を損なうこ
となく良好な塗膜強度を与える磁気ディスクの製造方法
を提供することにある。
磁気ディスクは塗膜に強度をもたせるため熱硬化性樹脂
を用いて１８０℃〜２５０℃の空気中で焼付は硬化して
いる。しかし、金属磁性粉を含む磁気ディスク塗膜は、
上記の硬化条件下では金属粉が酸化し、磁気特性が極度
に低下してしまう。
を用いて１８０℃〜２５０℃の空気中で焼付は硬化して
いる。しかし、金属磁性粉を含む磁気ディスク塗膜は、
上記の硬化条件下では金属粉が酸化し、磁気特性が極度
に低下してしまう。
そこで、本発明者らは、金ｗ１．磁性粉を酸化させない
で熱硬化させる方法として、水素又は水素含有した窒素
、不活性ガス中で熱硬化させることが効果的であること
を見い出した。
で熱硬化させる方法として、水素又は水素含有した窒素
、不活性ガス中で熱硬化させることが効果的であること
を見い出した。
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例１
鉄粉１００重量部に対し、エポキシ樹脂３６軟部部、フ
ェノールＪＦＭ脂３６重量部、ポリビニールブチラール
１０重竜部、ソルベント６００重量部からなる塗料をア
ルミ円板からなる基板上にスピンコードで薄く均一に塗
布して磁性膜を形成する。
ェノールＪＦＭ脂３６重量部、ポリビニールブチラール
１０重竜部、ソルベント６００重量部からなる塗料をア
ルミ円板からなる基板上にスピンコードで薄く均一に塗
布して磁性膜を形成する。
その後配向処理を施したのち、Ｎ２．ガスに１％の水素
を混合したガス雰囲気の中で１５０℃〜２８０℃の温度
範囲で、２時間、焼付は硬化を行なった。
を混合したガス雰囲気の中で１５０℃〜２８０℃の温度
範囲で、２時間、焼付は硬化を行なった。
この結果、得られた硬化前後の磁化量の保持率と硬化温
度の関係を第１図に示した。また、この方法で得られた
塗膜の引っかき強度と硬化温度の関係を第２図に示した
。
度の関係を第１図に示した。また、この方法で得られた
塗膜の引っかき強度と硬化温度の関係を第２図に示した
。
実施例２
実施例１と同様な塗料をアルミ円板に塗布したのち、１
５０〜２８０℃の温度範囲でＮ２雰囲気中で２時間焼付
は硬化を行なった。得られた磁性膜の硬化前後の磁化率
の保持率および引っかき強度の硬化温度依存を第１図、
第２図に示した６実施例３ 実施例１と同様な塗料をアルミ円板に塗布したのち、１
５０℃〜２８０℃の温度範囲で空気中２時間焼付は硬化
を行なった。この方法で得られた塗膜の硬化前後の磁化
の保持率および引っかき強度の硬化温度依存を第１図、
第２図に示した。
５０〜２８０℃の温度範囲でＮ２雰囲気中で２時間焼付
は硬化を行なった。得られた磁性膜の硬化前後の磁化率
の保持率および引っかき強度の硬化温度依存を第１図、
第２図に示した６実施例３ 実施例１と同様な塗料をアルミ円板に塗布したのち、１
５０℃〜２８０℃の温度範囲で空気中２時間焼付は硬化
を行なった。この方法で得られた塗膜の硬化前後の磁化
の保持率および引っかき強度の硬化温度依存を第１図、
第２図に示した。
これら３つの実施例の比較から明らかなように水素を１
％混合したガス雰囲気での硬化処理は、磁化の保持率特
性を、空気中およびｊｐ、にＮ２雰囲気中に比べて大き
く改善する効果を有する。また引っかき強度では、実施
例１，２．３において大巾な差はなく、水素含有雰囲気
の硬化処理は、空気中、窒素中とほぼ同等である。
％混合したガス雰囲気での硬化処理は、磁化の保持率特
性を、空気中およびｊｐ、にＮ２雰囲気中に比べて大き
く改善する効果を有する。また引っかき強度では、実施
例１，２．３において大巾な差はなく、水素含有雰囲気
の硬化処理は、空気中、窒素中とほぼ同等である。
実施例４
実施例１において、硬化時間２Ｈ１硬化１１λ度を２３
０℃と一定にして、水素濃度を０〜１００％まで変化さ
せて磁化量の硬化前後の保持率を測定した。第３図は磁
化の保持率の水素濃度依存を示すもので、水素濃度が０
．１％以上において保持率は１００％近い値をもち、こ
の範囲において水素添加の効果が顕著であることがわか
る。
０℃と一定にして、水素濃度を０〜１００％まで変化さ
せて磁化量の硬化前後の保持率を測定した。第３図は磁
化の保持率の水素濃度依存を示すもので、水素濃度が０
．１％以上において保持率は１００％近い値をもち、こ
の範囲において水素添加の効果が顕著であることがわか
る。
これらの実施例では、非酸化性ガスとして窒素を用いた
が、Ａｒ、旦６．Ｎｅ、Ｋｒ’などの不活性ガスを用い
、これに水素を混合して同様な効果を期待できることは
いうまでもない。
が、Ａｒ、旦６．Ｎｅ、Ｋｒ’などの不活性ガスを用い
、これに水素を混合して同様な効果を期待できることは
いうまでもない。
また、実施例では金属粉として鉄粉を用いたがＮｉ、Ｃ
ｏ、Ｇｏ−（、ｒ等の粉末を用いても同様な結果が得ら
れる。
ｏ、Ｇｏ−（、ｒ等の粉末を用いても同様な結果が得ら
れる。
さらにバインダーとして用いる熱硬化性樹脂についても
、フェノール樹脂、エポキシ樹脂の他公知の種々の熱硬
化性樹脂を用いることができる。
、フェノール樹脂、エポキシ樹脂の他公知の種々の熱硬
化性樹脂を用いることができる。
以上説明したごとく１本発明によれば金属磁性粉を用い
た磁気ディスクの磁気的性質を劣化させることなく、充
分な塗膜強度をもった硬化膜を形成することができるの
で、高性能な磁気ディスクの製造に効果がある。
た磁気ディスクの磁気的性質を劣化させることなく、充
分な塗膜強度をもった硬化膜を形成することができるの
で、高性能な磁気ディスクの製造に効果がある。
第１図は磁性塗；摸の硬化前後の磁化量の保持率と硬化
温度の関係を示す図である。第２図は磁性塗膜の硬化温
度と引っかき強度の関係を示す図である。Ａはハガレ無
、Ｂは一部ハガレ、Ｃは約１／２ハガレ、Ｄは全面ハガ
レを表わす。第３図は、窒素ガス中の水素濃度と磁化の
硬化前後の保持率の関係を示す図である。
温度の関係を示す図である。第２図は磁性塗膜の硬化温
度と引っかき強度の関係を示す図である。Ａはハガレ無
、Ｂは一部ハガレ、Ｃは約１／２ハガレ、Ｄは全面ハガ
レを表わす。第３図は、窒素ガス中の水素濃度と磁化の
硬化前後の保持率の関係を示す図である。
Claims (1)
- １、金属磁性粉と熱硬化性樹脂とを混合してなる塗料を
非磁性基板上に塗布して形成した塗膜を、水素又は水素
を含む不活性ガス中で焼付け硬化させることを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5036286A JPS62208426A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5036286A JPS62208426A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62208426A true JPS62208426A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12856780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5036286A Pending JPS62208426A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62208426A (ja) |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP5036286A patent/JPS62208426A/ja active Pending
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