JPS62214523A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
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- JPS62214523A JPS62214523A JP5687986A JP5687986A JPS62214523A JP S62214523 A JPS62214523 A JP S62214523A JP 5687986 A JP5687986 A JP 5687986A JP 5687986 A JP5687986 A JP 5687986A JP S62214523 A JPS62214523 A JP S62214523A
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- Pending
Links
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Landscapes
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は磁気ディスク塗膜において、チタネート系カン
プリング剤とカルボキシル基を有する潤滑剤を反応させ
塗膜強度を向上させる。
プリング剤とカルボキシル基を有する潤滑剤を反応させ
塗膜強度を向上させる。
本発明は潤滑剤を確実に含浸固定させた表面層を備えた
磁気ディスクの製造方法に関する。
磁気ディスクの製造方法に関する。
磁気ディスクは非磁性金属板、例えばアルミニウム合金
板を基板とし、この上に磁性膜がスピンコード法、真空
蒸着法等の方法により薄膜化されて形成されている。磁
気ディスクでの情報の記録と再生は高速で回転する磁気
ディスク上に０．５μｍ程度の微少な距離を隔てて浮上
する磁気ヘッドによって行なわれる。この浮上は磁気デ
ィスクの高速回転に伴って磁気ヘッドが受ける揚力によ
るものであり、この場合磁気ヘッドに塵埃や記録媒体粉
末の付着があると磁気ヘッドの落下衝突、すなわちヘッ
ドクラッシュが起る。
板を基板とし、この上に磁性膜がスピンコード法、真空
蒸着法等の方法により薄膜化されて形成されている。磁
気ディスクでの情報の記録と再生は高速で回転する磁気
ディスク上に０．５μｍ程度の微少な距離を隔てて浮上
する磁気ヘッドによって行なわれる。この浮上は磁気デ
ィスクの高速回転に伴って磁気ヘッドが受ける揚力によ
るものであり、この場合磁気ヘッドに塵埃や記録媒体粉
末の付着があると磁気ヘッドの落下衝突、すなわちヘッ
ドクラッシュが起る。
磁気ディスク傳膜は上記ヘッドクラッシュ等による障害
が少ないことが望まれている。このため、磁気ディスク
塗膜強度の向上が必要となり、その方法としてアルミナ
粉（塗膜補強剤）の混合、潤滑剤の塗布が行なわれてい
る。しかしながら磁気ディスクの高密度化に伴ないノイ
ズの原因になるアルミナ量の減少が必要となり、塗膜強
度を低下させる傾向にある。また潤滑剤もヘッド吸着と
いう障害をひき起すために、あまり多量に塗布すること
は好ましくない。
が少ないことが望まれている。このため、磁気ディスク
塗膜強度の向上が必要となり、その方法としてアルミナ
粉（塗膜補強剤）の混合、潤滑剤の塗布が行なわれてい
る。しかしながら磁気ディスクの高密度化に伴ないノイ
ズの原因になるアルミナ量の減少が必要となり、塗膜強
度を低下させる傾向にある。また潤滑剤もヘッド吸着と
いう障害をひき起すために、あまり多量に塗布すること
は好ましくない。
従来の磁気ディスク塗膜の製造はまず磁性粉、バインダ
ー、シンナーの塗料にアルミナの摩耗粉を混入し、全材
料をよく混練し、次に磁気ディスクに塗布し、約２２０
〜２５０℃の温度で焼き付け、そして研磨用テープを用
いて所定の厚さに研磨（ポリシング）を行ない再度約２
２０〜２５０″Ｃの温度で焼き付け、パーフルオロポリ
アルキルエステル等の潤滑剤を塗布する工程によって行
なわれていた。しかしながら塗膜強度は上述の如くアル
ミナ量と最終工程である潤滑剤の塗布量によって決定さ
れるものの磁気ディスク塗膜の記録特性の面からアルミ
ナ量や潤滑剤量を増加出来ず他の方法による塗膜強度向
上が望まれていた。
ー、シンナーの塗料にアルミナの摩耗粉を混入し、全材
料をよく混練し、次に磁気ディスクに塗布し、約２２０
〜２５０℃の温度で焼き付け、そして研磨用テープを用
いて所定の厚さに研磨（ポリシング）を行ない再度約２
２０〜２５０″Ｃの温度で焼き付け、パーフルオロポリ
アルキルエステル等の潤滑剤を塗布する工程によって行
なわれていた。しかしながら塗膜強度は上述の如くアル
ミナ量と最終工程である潤滑剤の塗布量によって決定さ
れるものの磁気ディスク塗膜の記録特性の面からアルミ
ナ量や潤滑剤量を増加出来ず他の方法による塗膜強度向
上が望まれていた。
そこで本発明は上記欠点を鑑みアルミナ量及び潤滑剤量
を増やさずに磁気ディスク塗膜の強度を同上させる磁気
ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
を増やさずに磁気ディスク塗膜の強度を同上させる磁気
ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
上記問題点は本発明によれば磁性粉と、熱硬化性樹脂と
、溶剤及びチタネート系カンプリング剤を混練して磁性
塗料を作り、該磁性材料をディスク基板上に被覆し塗膜
を形成した後、基板を加熱して前記熱硬化性樹脂を未反
応条件で一次焼付けし次にカルボキシル基を有する潤滑
剤を被覆し、次に再び基板を加熱し該塗膜中の前記熱硬
化性樹脂が完全に硬化する条件で焼付けることを特徴と
する磁気ディスクの製造方法によって解決される。
、溶剤及びチタネート系カンプリング剤を混練して磁性
塗料を作り、該磁性材料をディスク基板上に被覆し塗膜
を形成した後、基板を加熱して前記熱硬化性樹脂を未反
応条件で一次焼付けし次にカルボキシル基を有する潤滑
剤を被覆し、次に再び基板を加熱し該塗膜中の前記熱硬
化性樹脂が完全に硬化する条件で焼付けることを特徴と
する磁気ディスクの製造方法によって解決される。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明は磁性粉としてのγ−Ｆｅｚｅｓを５５重量部と
、熱硬化性樹脂のバインダーとしてのエポキシ樹脂、フ
ェノール＋Ａ脂、アクリル樹脂をそれぞれ３０，１０．
５重量部と、そして更に溶剤としてのシンナーをキシレ
ン、トルエン、酢酸セルソルブをそれぞれ３，３．１重
量部それぞれ三種類の構成材料の塗料とチタネート系カ
ップリング剤としてのキレ−１−１００番（商品名）を
ボールミルを使用してアルミナを約１０％混入しながら
混練して磁性塗料を作り、アルミニウム合金からなる基
板にスピンコード法で被覆して磁性膜を作った。次に得
られた磁性膜を一次焼付は温度（バインダーの硬化温度
以下）である１３０〜１５０℃の温度で約１時間処理し
た後、カルボキシル基を存する潤滑剤であるカルボン酸
タラドックス［株］を８インチ円板の両面に約２０ｍｇ
と多めに塗布し、次に磁性膜とバインダー及び潤滑剤の
密着性を上げるべく二次焼付は温度である２２０〜２５
０℃の温度で約１時間処理し次に所定の膜厚にすべく研
磨した。次に研磨によって形成されたバインダーの未反
応部を反応させるために再度２２０〜２５０℃の温度で
焼付け、更に潤滑剤を約０．００５μｍの厚さに塗布し
磁気ディスクを完成させた。
、熱硬化性樹脂のバインダーとしてのエポキシ樹脂、フ
ェノール＋Ａ脂、アクリル樹脂をそれぞれ３０，１０．
５重量部と、そして更に溶剤としてのシンナーをキシレ
ン、トルエン、酢酸セルソルブをそれぞれ３，３．１重
量部それぞれ三種類の構成材料の塗料とチタネート系カ
ップリング剤としてのキレ−１−１００番（商品名）を
ボールミルを使用してアルミナを約１０％混入しながら
混練して磁性塗料を作り、アルミニウム合金からなる基
板にスピンコード法で被覆して磁性膜を作った。次に得
られた磁性膜を一次焼付は温度（バインダーの硬化温度
以下）である１３０〜１５０℃の温度で約１時間処理し
た後、カルボキシル基を存する潤滑剤であるカルボン酸
タラドックス［株］を８インチ円板の両面に約２０ｍｇ
と多めに塗布し、次に磁性膜とバインダー及び潤滑剤の
密着性を上げるべく二次焼付は温度である２２０〜２５
０℃の温度で約１時間処理し次に所定の膜厚にすべく研
磨した。次に研磨によって形成されたバインダーの未反
応部を反応させるために再度２２０〜２５０℃の温度で
焼付け、更に潤滑剤を約０．００５μｍの厚さに塗布し
磁気ディスクを完成させた。
このようにして得られた塗膜を付した磁気ディスク研磨
時において塗膜に傷が入りにくくなり更に第１表に磁気
ヘッドに荷重を加えて強制的なＣｏｎｔａｃｔ ５ｔａ
ｒｔ ａｎｄ ５ｔｏｐ（Ｃ５Ｓ）の耐久性試験を行な
った結果を示す。
時において塗膜に傷が入りにくくなり更に第１表に磁気
ヘッドに荷重を加えて強制的なＣｏｎｔａｃｔ ５ｔａ
ｒｔ ａｎｄ ５ｔｏｐ（Ｃ５Ｓ）の耐久性試験を行な
った結果を示す。
第１表に示すように従来法では１２０回で不良となった
のに対し、本実施例では２００回迄寿命が伸び耐久性の
向上が明らかであった。
のに対し、本実施例では２００回迄寿命が伸び耐久性の
向上が明らかであった。
第１表
欅ヘッドを浮上させないように逆スライダーにし、しか
もこれに３０ｇの荷重を加えている。
もこれに３０ｇの荷重を加えている。
ＣＳＳサイクルは５０秒０Ｎ−１０秒ＯＦＦとした。
本実施例においてチタネート系カップリング剤を単に磁
性粉に単に添加混入して用いたが各磁性粉の周囲に該カ
ンプリング剤で被覆するように表面処理を施したものを
混入してもよい。
性粉に単に添加混入して用いたが各磁性粉の周囲に該カ
ンプリング剤で被覆するように表面処理を施したものを
混入してもよい。
以上説明したように本発明によればチタネート系カップ
リング剤とカルボキシル基を有する潤滑剤との反応によ
り磁性粉、バインダー及び潤滑剤の密着性が向上し研磨
時、塗膜への疵が入りにくくなり完成品としての塗膜強
度が向上する。
リング剤とカルボキシル基を有する潤滑剤との反応によ
り磁性粉、バインダー及び潤滑剤の密着性が向上し研磨
時、塗膜への疵が入りにくくなり完成品としての塗膜強
度が向上する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁性粉と、熱硬化性樹脂と、溶剤及びチタネート系
カップリング剤を混練して磁性塗料を作り、該磁性材料
をディスク基板上に被覆し塗膜を形成した後、基板を加
熱して前記熱硬化性樹脂を未反応条件で一次焼付けし次
にカルボキシル基を有する潤滑剤を被覆し、次に再び基
板を加熱し該塗膜中の前記熱硬化性樹脂が完全に硬化す
る条件で焼付けることを特徴とする磁気ディスクの製造
方法。 ２、前記一次焼けを１３０〜１５０℃の温度で行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、前記二次焼けを２２０〜２５０℃の温度で行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5687986A JPS62214523A (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5687986A JPS62214523A (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62214523A true JPS62214523A (ja) | 1987-09-21 |
Family
ID=13039699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5687986A Pending JPS62214523A (ja) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62214523A (ja) |
-
1986
- 1986-03-17 JP JP5687986A patent/JPS62214523A/ja active Pending
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