JPS586527A - 可撓性磁気記録体 - Google Patents
可撓性磁気記録体Info
- Publication number
- JPS586527A JPS586527A JP56103552A JP10355281A JPS586527A JP S586527 A JPS586527 A JP S586527A JP 56103552 A JP56103552 A JP 56103552A JP 10355281 A JP10355281 A JP 10355281A JP S586527 A JPS586527 A JP S586527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- coated
- continuous thin
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本＠明は義気テープ装置、フレキシブルディスク装置な
どの磁気的記憶ｔ＆ｒＩＬＫ用いられゐ可撓性磁気記録
体に関する・ 磁気テープ記憶装置、フレキシブルディスク記憶ｌＩ＆
−などに用いられる可ｌａ性の磁気記録体としては従来
、第１図もしくは第２図のごとく、ポリエステルなどの
可纏性基体ｌの片面もしくは両面Ｋａｌ性編２を被覆し
た構成のものが用いられてｉる。１ｍ性−２としては従
来ｒ−に′＠＊ ’ａ ｓ ” ’ｍ ｓ磁性金属など
の微粒子塗布膜が主に用いられている・一般Ｋｌｉ気記
録において記録Ｉｆ＆を上げるには１碌媒体の保磁力を
上げることおよびｆｆｉ性−厚を薄くすることが有効で
あることが知られているが保磁力を極端に大きくすると
記録ヘッドの磁気飽和により書き込みが困難とな９．ま
九従来用いられているような塗布膜媒体の場合にはその
製造上の問題からエラーを少なく保りて磁性員厚を薄く
することが困難であり、記録密度の向上にも限界があっ
た。
どの磁気的記憶ｔ＆ｒＩＬＫ用いられゐ可撓性磁気記録
体に関する・ 磁気テープ記憶装置、フレキシブルディスク記憶ｌＩ＆
−などに用いられる可ｌａ性の磁気記録体としては従来
、第１図もしくは第２図のごとく、ポリエステルなどの
可纏性基体ｌの片面もしくは両面Ｋａｌ性編２を被覆し
た構成のものが用いられてｉる。１ｍ性−２としては従
来ｒ−に′＠＊ ’ａ ｓ ” ’ｍ ｓ磁性金属など
の微粒子塗布膜が主に用いられている・一般Ｋｌｉ気記
録において記録Ｉｆ＆を上げるには１碌媒体の保磁力を
上げることおよびｆｆｉ性−厚を薄くすることが有効で
あることが知られているが保磁力を極端に大きくすると
記録ヘッドの磁気飽和により書き込みが困難とな９．ま
九従来用いられているような塗布膜媒体の場合にはその
製造上の問題からエラーを少なく保りて磁性員厚を薄く
することが困難であり、記録密度の向上にも限界があっ
た。
本発明者らはポリエステル、ポリイミドもしくはテフロ
ンなどの可撓性基体上にスパッタリング法によシ磁気記
嫌媒体として好ましい磁気Ｓ性を有する薄い均一な磁性
酸化鉄連続薄膜を形成することができ、同ａ性は出銑連
続薄膜は高書度記録特性を有することを見い出し九。
ンなどの可撓性基体上にスパッタリング法によシ磁気記
嫌媒体として好ましい磁気Ｓ性を有する薄い均一な磁性
酸化鉄連続薄膜を形成することができ、同ａ性は出銑連
続薄膜は高書度記録特性を有することを見い出し九。
一般に磁気テープ装＊、フレキシブルディスク装置など
の可撓性磁気記録体を用いるａ気記憶装置では、その使
用状態においては磁気記録体と磁気ヘッドとは接触した
まま相対運動を行なっている・ このよう１ｋｍ気紀憧装置に前記磁性酸化鉄連続薄膜を
記録媒体とする可撓性磁気記録体を繰シ返し使用した時
、ｆｆｌ性酸化鉄連続薄膜の表面に存在する突起の付近
で同連続＊＊と磁気ヘッドとの接触状態が不安定にな夛
、その突起付近で同連続薄膜の一部が剥離することによ
）ドロップアウトが増加し、Ｉ！に同連続薄膜の摩耗め
るいは加圧による減磁により再生出力が低下することが
本発明者らにより確められた。
の可撓性磁気記録体を用いるａ気記憶装置では、その使
用状態においては磁気記録体と磁気ヘッドとは接触した
まま相対運動を行なっている・ このよう１ｋｍ気紀憧装置に前記磁性酸化鉄連続薄膜を
記録媒体とする可撓性磁気記録体を繰シ返し使用した時
、ｆｆｌ性酸化鉄連続薄膜の表面に存在する突起の付近
で同連続＊＊と磁気ヘッドとの接触状態が不安定にな夛
、その突起付近で同連続薄膜の一部が剥離することによ
）ドロップアウトが増加し、Ｉ！に同連続薄膜の摩耗め
るいは加圧による減磁により再生出力が低下することが
本発明者らにより確められた。
本発明の目的は１本発明者らの発明にかかる新規＆磁気
記録体であるａ性醒化連続薄映を記録媒体とする可撓性
磁気記録体において、同磁気紀録体を磁気ヘッドと接触
させたまま繰９返し使用し走時ドロップアウトが増加し
た夛、再生出力が低下したりしないような磁気記録体を
提供することＶＣＴｏる・ すなわち１本発明による磁気記録体は、可＊性基体上に
磁性酸化鉄連続薄膜を形成し、更に該磁性酸化鉄連続薄
膜上にテトラヒドロキシシランｍ液を塗布した後、焼成
することにより得られる珪酸重合物を保護膜として被覆
したものでみる。
記録体であるａ性醒化連続薄映を記録媒体とする可撓性
磁気記録体において、同磁気紀録体を磁気ヘッドと接触
させたまま繰９返し使用し走時ドロップアウトが増加し
た夛、再生出力が低下したりしないような磁気記録体を
提供することＶＣＴｏる・ すなわち１本発明による磁気記録体は、可＊性基体上に
磁性酸化鉄連続薄膜を形成し、更に該磁性酸化鉄連続薄
膜上にテトラヒドロキシシランｍ液を塗布した後、焼成
することにより得られる珪酸重合物を保護膜として被覆
したものでみる。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
ｆ８３図は本発明による磁気記憶体の構成を示す断面図
である。これはポリエステル、ポリイミドある匹はテフ
ロンなどの可撓性基体１０片面もしくは両面ｔｉｃ ｒ
−１＋’ｅ、 （Ｊ、 、 Ｆｅ、 ０４４るいは両者
の中間組成物を主成分とする磁性酸化鉄連続薄膜３が被
覆され、更にこの磁性識出銑連続薄ｆ１！３の上に珪酸
重合物からなる保８１１１！４が被覆されている。
である。これはポリエステル、ポリイミドある匹はテフ
ロンなどの可撓性基体１０片面もしくは両面ｔｉｃ ｒ
−１＋’ｅ、 （Ｊ、 、 Ｆｅ、 ０４４るいは両者
の中間組成物を主成分とする磁性酸化鉄連続薄膜３が被
覆され、更にこの磁性識出銑連続薄ｆ１！３の上に珪酸
重合物からなる保８１１１！４が被覆されている。
上記珪酸重合物はテトラアルコキシシランの加水分解に
よシ作られたテトラヒドロキシシランｍ液をスピンコー
ド法、浸漬法また酸スプレー法などによシ塗布した後焼
成する仁とによシ形成される。テトラヒドロキシシラン
溶液は粘性の低い液体であるので磁性薄＠３の上に存在
する突起を積いかくすことができる・また、塗布により
形成された珪酸重合物４は高す硬度を有する為、ヘッド
との接触摩擦に十分耐えることができる。塗布した後は
２００〜３００℃程度で電気炉やで焼成すれば硬化する
が、さらに硬度が必要な場合は、珪酸重合物に吸収され
易い炭酸ガスレーザー党を照射することＫより磁性４１
１３および基体１に悪影響を及ばさずにさらに硬化を進
めることができる。
よシ作られたテトラヒドロキシシランｍ液をスピンコー
ド法、浸漬法また酸スプレー法などによシ塗布した後焼
成する仁とによシ形成される。テトラヒドロキシシラン
溶液は粘性の低い液体であるので磁性薄＠３の上に存在
する突起を積いかくすことができる・また、塗布により
形成された珪酸重合物４は高す硬度を有する為、ヘッド
との接触摩擦に十分耐えることができる。塗布した後は
２００〜３００℃程度で電気炉やで焼成すれば硬化する
が、さらに硬度が必要な場合は、珪酸重合物に吸収され
易い炭酸ガスレーザー党を照射することＫより磁性４１
１３および基体１に悪影響を及ばさずにさらに硬化を進
めることができる。
次に実施例および比較例により本発明和よる磁気記録体
を詳細に説明する・ 笑ＩＩＩＡ？ｌｉｌ。
を詳細に説明する・ 笑ＩＩＩＡ？ｌｉｌ。
可撓性基体１としてポリイミドを用い、この基体ｌ上Ｗ
ｃｇ！ｉ性媒体３としてｒ−ｒｅ、（Ｊ□からなる連続
薄−を被覆し、仁の紙性媒体３の上にナト２ヒドロキシ
シランの２．０重１ｉ Ｘ Ｏ１ｍ−ブチルアルコール
浴液をスピンコード法によシ塗布した後。
ｃｇ！ｉ性媒体３としてｒ−ｒｅ、（Ｊ□からなる連続
薄−を被覆し、仁の紙性媒体３の上にナト２ヒドロキシ
シランの２．０重１ｉ Ｘ Ｏ１ｍ−ブチルアルコール
浴液をスピンコード法によシ塗布した後。
２００℃で電気炉中で２時間焼成して珪ａＸ合物からな
る保＠歇４を形成してフレキシブルディスクを作った・ 実施例λ 実施列１．と同様にして、但し１挺性媒体３として１．
ＩＣｓζからｌる連＆＊＃Ｍを用いてフレキシブルディ
スクを作り九− 実施１＃′１３゜ 実施例１．と同様にして、但し、保護膜４として珪酸重
合物を形成した後、この重合物に２５０Ｗ。
る保＠歇４を形成してフレキシブルディスクを作った・ 実施例λ 実施列１．と同様にして、但し１挺性媒体３として１．
ＩＣｓζからｌる連＆＊＃Ｍを用いてフレキシブルディ
スクを作り九− 実施１＃′１３゜ 実施例１．と同様にして、但し、保護膜４として珪酸重
合物を形成した後、この重合物に２５０Ｗ。
パワーｑＭＩＩ１３ＸＩＯＷ／６１１の炭酸ガスレーザ
ー元を照射し、焼成硬化させてフレキシブルディスクを
作った。
ー元を照射し、焼成硬化させてフレキシブルディスクを
作った。
実施例４゜
実施Ｎ３．と同様にして、但し１Ｍｉ性媒体３としてｌ
ｌ’！、（Ｊ、からなる薄膜を用いてフレキシブルディ
スクを作った。
ｌ’！、（Ｊ、からなる薄膜を用いてフレキシブルディ
スクを作った。
比較例１゜
可撓性基体ｌとしてポリイミド基体を用い、この基体ｌ
上に＠性媒体３としてγ−ｉ’ｅ、ｏ、からなる連続薄
膜を被覆してフレキシブルディスクを作った・ 比較Ｐ４２゜ 比＊ｎｉ、と同様にして、但し、＆ｉｌ性媒体３として
ｒｅ、０．からなる連続薄膜を用いてフレキシブルディ
スクを作った・。
上に＠性媒体３としてγ−ｉ’ｅ、ｏ、からなる連続薄
膜を被覆してフレキシブルディスクを作った・ 比較Ｐ４２゜ 比＊ｎｉ、と同様にして、但し、＆ｉｌ性媒体３として
ｒｅ、０．からなる連続薄膜を用いてフレキシブルディ
スクを作った・。
実ｍ例１〜４および比較ガ１，２で示した各フレキシブ
ルディスクをヘッドと接触させ九まま連続運転すること
によ）耐久試験を行なったとζろ比較９９１．２のフレ
キシブルディスクは１０万パスで磁性酸化鉄連続薄膜の
表面にある突起の付近で同連続薄膜とヘッドとの接触状
態が不安定にな）その突起付近で同連続薄膜の一部が剥
離することくよりドロップアウトが増加した・また比較
例２のフレキシブルディスクはＦｅ ｍ ０４１１１
（Ｄ加圧減磁により１万パスで再生出力かもとの５０に
以下に低下した。これに対し、実施ｆｉ１〜４のフレキ
シブルディスクは１００万パスで一ド■ツブアウトの増
加および再生出力の低下はなかった。
ルディスクをヘッドと接触させ九まま連続運転すること
によ）耐久試験を行なったとζろ比較９９１．２のフレ
キシブルディスクは１０万パスで磁性酸化鉄連続薄膜の
表面にある突起の付近で同連続薄膜とヘッドとの接触状
態が不安定にな）その突起付近で同連続薄膜の一部が剥
離することくよりドロップアウトが増加した・また比較
例２のフレキシブルディスクはＦｅ ｍ ０４１１１
（Ｄ加圧減磁により１万パスで再生出力かもとの５０に
以下に低下した。これに対し、実施ｆｉ１〜４のフレキ
シブルディスクは１００万パスで一ド■ツブアウトの増
加および再生出力の低下はなかった。
以上の実施例には可撓性基体としてポリイミドを用いた
例をあげたが、ポリエステルあるいはテフロンなど他の
可撓性基体を用いてもまったく同様で参る・ また磁性酸化鉄連続薄膜は磁気特性を変化させる為にコ
バルト、銅などの他元素を含んでも良い。
例をあげたが、ポリエステルあるいはテフロンなど他の
可撓性基体を用いてもまったく同様で参る・ また磁性酸化鉄連続薄膜は磁気特性を変化させる為にコ
バルト、銅などの他元素を含んでも良い。
まえ、非化学緻論的組成を有する磁性酸化鉄であまた上
記実施列には町纏性ａ差記録体をフレキシブルディスク
とした場合をあけたが、これを磁気テープとした場合も
まったく同様である・以上のように本発＠によれは本発
明者らの発明Ｋかかる新規な磁気記録体であるｆｆｌ性
酸化鉄出銑薄１Ｉｔ−記録媒体とする可−性繊気記一体
においてヘッドとの接触摩擦に対して十分な耐久性を有
する磁気記録体が得られる・
記実施列には町纏性ａ差記録体をフレキシブルディスク
とした場合をあけたが、これを磁気テープとした場合も
まったく同様である・以上のように本発＠によれは本発
明者らの発明Ｋかかる新規な磁気記録体であるｆｆｌ性
酸化鉄出銑薄１Ｉｔ−記録媒体とする可−性繊気記一体
においてヘッドとの接触摩擦に対して十分な耐久性を有
する磁気記録体が得られる・
第１図および菖２図は従来の磁気記録体の部分断Ｉｉｉ
図、嬉３図は本発明の磁気記録体の部分断面図である。 ｆｌｉにおいて１は可撓性基体、２は磁性膜媒体。 ３はｍ性故出銑逐ｍｅ躾、４は珪酸重合物からなる保ａ
ｉｉｉｉである・ オ １ 図 ｆ３胆 ｆｚ記
図、嬉３図は本発明の磁気記録体の部分断面図である。 ｆｌｉにおいて１は可撓性基体、２は磁性膜媒体。 ３はｍ性故出銑逐ｍｅ躾、４は珪酸重合物からなる保ａ
ｉｉｉｉである・ オ １ 図 ｆ３胆 ｆｚ記
Claims (1)
- 可ＩＩｌ性の基体上にａ性戚化鉄の連続薄膜が被穏され
、更に皺ａ！！１酸化鉄連続薄編上に珪酸重合物が被覆
されていることをｑ！＃黴とする可撓性磁気記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56103552A JPS586527A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 可撓性磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56103552A JPS586527A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 可撓性磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586527A true JPS586527A (ja) | 1983-01-14 |
Family
ID=14356981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56103552A Pending JPS586527A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 可撓性磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586527A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123626U (ja) * | 1985-01-18 | 1986-08-04 | ||
| GB2227028A (en) * | 1988-10-12 | 1990-07-18 | Dipsol Chem | Forming a ceramic coating |
| GB2347145A (en) * | 1999-02-25 | 2000-08-30 | Agency Ind Science Techn | Method for producing a metal oxide and forming a minute pattern thereof |
-
1981
- 1981-07-02 JP JP56103552A patent/JPS586527A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123626U (ja) * | 1985-01-18 | 1986-08-04 | ||
| GB2227028A (en) * | 1988-10-12 | 1990-07-18 | Dipsol Chem | Forming a ceramic coating |
| GB2227028B (en) * | 1988-10-12 | 1993-01-27 | Dipsol Chem | Forming a ceramic coating |
| GB2347145A (en) * | 1999-02-25 | 2000-08-30 | Agency Ind Science Techn | Method for producing a metal oxide and forming a minute pattern thereof |
| GB2347145B (en) * | 1999-02-25 | 2001-05-02 | Agency Ind Science Techn | Method for producing a metal oxide and method for forming a minute pattern |
| US6576302B1 (en) | 1999-02-25 | 2003-06-10 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for producing a metal oxide and method for forming a minute pattern |
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