JPH1125452A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH1125452A JPH1125452A JP17926597A JP17926597A JPH1125452A JP H1125452 A JPH1125452 A JP H1125452A JP 17926597 A JP17926597 A JP 17926597A JP 17926597 A JP17926597 A JP 17926597A JP H1125452 A JPH1125452 A JP H1125452A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた潤滑性能が長期にわたって得られる磁
気記録媒体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 潤滑剤層を形成した後、酸素雰囲気下で
加熱処理し、その後紫外線照射処理を行う。
気記録媒体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 潤滑剤層を形成した後、酸素雰囲気下で
加熱処理し、その後紫外線照射処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録装置に用い
られる磁気ディスクなどの磁気記録媒体において、長期
にわたって耐摩耗性および耐久性に優れた磁気記録媒体
の製造方法に関する。
られる磁気ディスクなどの磁気記録媒体において、長期
にわたって耐摩耗性および耐久性に優れた磁気記録媒体
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータなどの情報処理装置の記憶
装置として用いられるハードディスク装置は、情報の記
録再生用の磁気ヘッドと記録媒体である磁気ディスクと
からなる。この装置では、情報の記録、再生方式とし
て、磁気ディスクの一定高速回転中に風圧により磁気ヘ
ッドが磁気ディスクから浮上した際に、記録再生が行な
われ、磁気ディスクの停止時および起動時には磁気ヘッ
ドと磁気ディスクとは摺動状態にあるというＣＳＳ方式
（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏｐ）が一般に用
いられている。従って、この方式では磁気ディスク表面
の耐摩耗性や潤滑特性が不十分な場合、この接触、摺動
が繰り返されることによってディスク表面が摩耗し、つ
いには磁性層が破壊され、情報の記録、再生が不可能な
状態になってしまう。この対策として、磁性層上にカー
ボン系保護膜が形成され、保護膜上にパーフルオロポリ
エーテル系潤滑剤層を設けることが一般に行なわれてい
る。
装置として用いられるハードディスク装置は、情報の記
録再生用の磁気ヘッドと記録媒体である磁気ディスクと
からなる。この装置では、情報の記録、再生方式とし
て、磁気ディスクの一定高速回転中に風圧により磁気ヘ
ッドが磁気ディスクから浮上した際に、記録再生が行な
われ、磁気ディスクの停止時および起動時には磁気ヘッ
ドと磁気ディスクとは摺動状態にあるというＣＳＳ方式
（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏｐ）が一般に用
いられている。従って、この方式では磁気ディスク表面
の耐摩耗性や潤滑特性が不十分な場合、この接触、摺動
が繰り返されることによってディスク表面が摩耗し、つ
いには磁性層が破壊され、情報の記録、再生が不可能な
状態になってしまう。この対策として、磁性層上にカー
ボン系保護膜が形成され、保護膜上にパーフルオロポリ
エーテル系潤滑剤層を設けることが一般に行なわれてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの間のＣＳＳ時の長期にわたる潤滑性能の維持
は、潤滑剤層を厚くすることや、潤滑剤分子を高分子量
とすることで可能であるが、厚い（多量の）潤滑剤層の
存在によってヘッドとディスクとの間にスティクション
と呼ばれる吸着現象が生じ、ＣＳＳ時の摩擦係数が高く
なるという問題が生じる。そこで、非常に薄い潤滑剤層
を保護膜層上に形成しなければならない。潤滑剤層の形
成方法として一般に行なわれているのが、パーフルオロ
ポリエーテル系に代表される潤滑剤を溶媒で希釈し、ス
ピンコート、ディップコートなどの方法によって１〜１
０ｎｍ程度の膜厚の非常に薄い潤滑剤層を作製してい
る。しかしながら保護膜と潤滑剤との結合力が弱いため
に、ＣＳＳを繰り返すと徐々に潤滑剤分子が飛散して潤
滑性能が低下し、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の摩
擦力が増加して、磁気ディスクが損傷してしまい、十分
な耐摩耗性、耐久性が得られていなかった。
ッドとの間のＣＳＳ時の長期にわたる潤滑性能の維持
は、潤滑剤層を厚くすることや、潤滑剤分子を高分子量
とすることで可能であるが、厚い（多量の）潤滑剤層の
存在によってヘッドとディスクとの間にスティクション
と呼ばれる吸着現象が生じ、ＣＳＳ時の摩擦係数が高く
なるという問題が生じる。そこで、非常に薄い潤滑剤層
を保護膜層上に形成しなければならない。潤滑剤層の形
成方法として一般に行なわれているのが、パーフルオロ
ポリエーテル系に代表される潤滑剤を溶媒で希釈し、ス
ピンコート、ディップコートなどの方法によって１〜１
０ｎｍ程度の膜厚の非常に薄い潤滑剤層を作製してい
る。しかしながら保護膜と潤滑剤との結合力が弱いため
に、ＣＳＳを繰り返すと徐々に潤滑剤分子が飛散して潤
滑性能が低下し、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の摩
擦力が増加して、磁気ディスクが損傷してしまい、十分
な耐摩耗性、耐久性が得られていなかった。
【０００４】そこで、潤滑剤と保護膜層との結合力を増
すために、各種処理を施すことが試みられている。その
代表的な方法は、潤滑剤塗布前あるいは塗布後の紫外線
処理であり、特開平８−１２４１４２公報には潤滑剤塗
布後に１５０〜１８０ｎｍの波長の紫外線を照射する方
法が、また特開平７−８５４６１公報にも潤滑剤層を形
成した後に紫外線照射する方法が提案されている。たと
えば炭素質保護膜への紫外線照射の場合、光のエネルギ
によってＣ−Ｃ結合の解離をもたらし、表面官能基を増
加させ、それが活性部位となって潤滑剤と保護膜との結
合力を増加させることを目的としたものである。
すために、各種処理を施すことが試みられている。その
代表的な方法は、潤滑剤塗布前あるいは塗布後の紫外線
処理であり、特開平８−１２４１４２公報には潤滑剤塗
布後に１５０〜１８０ｎｍの波長の紫外線を照射する方
法が、また特開平７−８５４６１公報にも潤滑剤層を形
成した後に紫外線照射する方法が提案されている。たと
えば炭素質保護膜への紫外線照射の場合、光のエネルギ
によってＣ−Ｃ結合の解離をもたらし、表面官能基を増
加させ、それが活性部位となって潤滑剤と保護膜との結
合力を増加させることを目的としたものである。
【０００５】しかしながら、これらの方法は潤滑剤を塗
布してから、紫外線照射処理までの間に何の処理も施し
ていないため、潤滑剤塗布後に潤滑剤層中に残存してい
る溶媒が紫外線処理によって悪影響を及ぼす。つまり残
存溶媒が保護膜、潤滑剤の結合解離による吸着力の増加
を阻害する。また、カーボン保護膜のように表面に酸化
物などの官能基を持たない材料では、潤滑剤との濡れ性
が悪く保護膜と潤滑剤の接している面積が小さいため、
紫外線照射処理による保護膜、潤滑剤間の結合解離によ
る吸着力の向上をもたらすという目的に対しては不十分
な構造である。
布してから、紫外線照射処理までの間に何の処理も施し
ていないため、潤滑剤塗布後に潤滑剤層中に残存してい
る溶媒が紫外線処理によって悪影響を及ぼす。つまり残
存溶媒が保護膜、潤滑剤の結合解離による吸着力の増加
を阻害する。また、カーボン保護膜のように表面に酸化
物などの官能基を持たない材料では、潤滑剤との濡れ性
が悪く保護膜と潤滑剤の接している面積が小さいため、
紫外線照射処理による保護膜、潤滑剤間の結合解離によ
る吸着力の向上をもたらすという目的に対しては不十分
な構造である。
【０００６】さらに詳しく説明する。一般に用いられる
潤滑剤はＦｏｍｂｌｉｎ Ｚ−Ｄｏｌ（日本モンテジソ
ン社製）などのパーフルオロポリエーテル系潤滑剤であ
り、通常、溶媒としては沸点が５０〜１００℃程度の値
を持つフロン系の溶剤を用いている。磁気ディスク上に
１ｎｍ程度の膜厚の潤滑剤層を形成するためには、非常
に希薄な潤滑剤溶液（約０．１体積パーセント程度の濃
度）を調整し、たとえばディップコート法などによって
塗布する。このようにして得られた磁気ディスク上の潤
滑剤層中には多量の溶媒を含んでいる。従って、潤滑剤
を塗布した後に何の処理も施さずに紫外線照射処理を行
なうと、含まれている溶媒の分解物が残存し、それが潤
滑剤および保護膜材料それぞれに吸着すること、また溶
媒が紫外線光を吸収してしまう為に潤滑剤、保護膜材料
に十分な紫外線が照射されない、などの欠点を持つ。
潤滑剤はＦｏｍｂｌｉｎ Ｚ−Ｄｏｌ（日本モンテジソ
ン社製）などのパーフルオロポリエーテル系潤滑剤であ
り、通常、溶媒としては沸点が５０〜１００℃程度の値
を持つフロン系の溶剤を用いている。磁気ディスク上に
１ｎｍ程度の膜厚の潤滑剤層を形成するためには、非常
に希薄な潤滑剤溶液（約０．１体積パーセント程度の濃
度）を調整し、たとえばディップコート法などによって
塗布する。このようにして得られた磁気ディスク上の潤
滑剤層中には多量の溶媒を含んでいる。従って、潤滑剤
を塗布した後に何の処理も施さずに紫外線照射処理を行
なうと、含まれている溶媒の分解物が残存し、それが潤
滑剤および保護膜材料それぞれに吸着すること、また溶
媒が紫外線光を吸収してしまう為に潤滑剤、保護膜材料
に十分な紫外線が照射されない、などの欠点を持つ。
【０００７】従って残存溶媒の存在によって紫外線照射
処理の目的である潤滑剤と保護膜との結合力の増加およ
び優れたＣＳＳ耐久性の向上、が得られ難くなってしま
う。
処理の目的である潤滑剤と保護膜との結合力の増加およ
び優れたＣＳＳ耐久性の向上、が得られ難くなってしま
う。
【０００８】また、潤滑剤を塗布してから紫外線照射処
理するまでに、長時間自然放置することによっても残存
溶媒を取り除くことはできるが、その方法では磁気ディ
スク製造時間が長くなり、従って製造コストの増加をも
たらす。さらには自然放置であるため溶媒除去の目的に
対しては不完全である。また、自然放置ではカーボン保
護膜表面に酸化物などの官能基はほとんど生成されない
ため、潤滑剤の保護膜に対する濡れ性も向上しない。本
発明はこのような従来の問題を解決すべく、優れた潤滑
性能が長期にわたって得られる磁気記録媒体の製造方法
を提供することを目的とする。
理するまでに、長時間自然放置することによっても残存
溶媒を取り除くことはできるが、その方法では磁気ディ
スク製造時間が長くなり、従って製造コストの増加をも
たらす。さらには自然放置であるため溶媒除去の目的に
対しては不完全である。また、自然放置ではカーボン保
護膜表面に酸化物などの官能基はほとんど生成されない
ため、潤滑剤の保護膜に対する濡れ性も向上しない。本
発明はこのような従来の問題を解決すべく、優れた潤滑
性能が長期にわたって得られる磁気記録媒体の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、鋭意検討を重ねた結果、磁性層上にカーボン保護膜
を形成した基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を
フロン系溶媒に溶解させた溶液にディップして保護膜上
に潤滑剤層を形成し、この基板を酸素雰囲気中で加熱し
て潤滑剤層中に含まれる溶媒を完全に除去すると同時
に、保護膜表面に炭素酸化物の官能基を生成して潤滑剤
との濡れ性を向上させ、その後紫外線照射を行なうこと
によって潤滑性能が長期にわたって維持される磁気記録
媒体を得ることができた。
め、鋭意検討を重ねた結果、磁性層上にカーボン保護膜
を形成した基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を
フロン系溶媒に溶解させた溶液にディップして保護膜上
に潤滑剤層を形成し、この基板を酸素雰囲気中で加熱し
て潤滑剤層中に含まれる溶媒を完全に除去すると同時
に、保護膜表面に炭素酸化物の官能基を生成して潤滑剤
との濡れ性を向上させ、その後紫外線照射を行なうこと
によって潤滑性能が長期にわたって維持される磁気記録
媒体を得ることができた。
【００１０】以下、本発明をさらに具体的に説明する。
非磁性基板上に少なくとも１つ以上の磁性層を持つ基板
上にカーボン保護膜層を成膜する。このカーボン保護膜
層はアモルファスカーボンあるいは水素化カーボンなど
いずれでもよい。非磁性基板としては、たとえばポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、
ポリスルフォンなどの高分子材料、ガラス、セラミッ
ク、カーボンなどの無機材料、ならびにアルミニウム合
金などの金属材料を用いることができる。磁性層は１層
又は２層以上であることができる。
非磁性基板上に少なくとも１つ以上の磁性層を持つ基板
上にカーボン保護膜層を成膜する。このカーボン保護膜
層はアモルファスカーボンあるいは水素化カーボンなど
いずれでもよい。非磁性基板としては、たとえばポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、
ポリスルフォンなどの高分子材料、ガラス、セラミッ
ク、カーボンなどの無機材料、ならびにアルミニウム合
金などの金属材料を用いることができる。磁性層は１層
又は２層以上であることができる。
【００１１】磁性層を構成する材料には特に制限はない
が、たとえばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の合金や、Ｃｏ−Ｎｉ
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｔａ
合金、あるいはこれらの合金にＡｌ等の金属や酸素、窒
素、酸化物、窒化物などを含有させたものが挙げられ
る。保護膜層としては、上記非晶質カーボン膜、ダイア
モンド状カーボン膜および水素化カーボン膜等のカーボ
ン保護膜の他、二酸化珪素膜およびジルコニア膜等の酸
化物膜を用いることができる。
が、たとえばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の合金や、Ｃｏ−Ｎｉ
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｔａ
合金、あるいはこれらの合金にＡｌ等の金属や酸素、窒
素、酸化物、窒化物などを含有させたものが挙げられ
る。保護膜層としては、上記非晶質カーボン膜、ダイア
モンド状カーボン膜および水素化カーボン膜等のカーボ
ン保護膜の他、二酸化珪素膜およびジルコニア膜等の酸
化物膜を用いることができる。
【００１２】また、保護膜層の表面が凹凸形状であるこ
とがヘッドのディスクへの吸着を防止するという観点か
ら好ましい。保護膜層の凹凸表面は基板や基板上の下地
膜層の表面を凹凸状にすることや保護膜層に微粒子を含
有させることによっても形成できる。潤滑剤としては、
たとえばパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を用いるこ
とができる。ここで、パーフルオロポリエーテル系潤滑
剤をフロン系の溶媒に溶解しディップコート、スピンコ
ートなどによって塗布して保護膜上に潤滑剤層を成膜す
る。形成する潤滑剤層の厚さとしては、たとえば０．１
〜１０（ｎｍ）であり、好ましくは０．５〜２（ｎｍ）
の範囲になるようにする。
とがヘッドのディスクへの吸着を防止するという観点か
ら好ましい。保護膜層の凹凸表面は基板や基板上の下地
膜層の表面を凹凸状にすることや保護膜層に微粒子を含
有させることによっても形成できる。潤滑剤としては、
たとえばパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を用いるこ
とができる。ここで、パーフルオロポリエーテル系潤滑
剤をフロン系の溶媒に溶解しディップコート、スピンコ
ートなどによって塗布して保護膜上に潤滑剤層を成膜す
る。形成する潤滑剤層の厚さとしては、たとえば０．１
〜１０（ｎｍ）であり、好ましくは０．５〜２（ｎｍ）
の範囲になるようにする。
【００１３】次に、使用する潤滑剤およびフロン系溶媒
の組み合わせによるが、溶媒の沸点温度付近から潤滑剤
の分解温度以下の温度範囲の中で５〜１２０分間程度酸
素含有雰囲気下で加熱する。潤滑剤の熱的劣化を考慮す
れば、溶媒の沸点の温度で加熱すれば良い。また、生産
性を考慮すれば、加熱処理時間としては１０〜６０分間
程度の時間が好ましい。たとえば、パーフルオロポリエ
ーテル系潤滑剤（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＯＬ）の場合、分解温度は約３００（℃）であ
り、沸点５０（℃）のフロン系溶剤を用いた場合、約５
０（℃）で３０分程度の加熱処理を行なう。
の組み合わせによるが、溶媒の沸点温度付近から潤滑剤
の分解温度以下の温度範囲の中で５〜１２０分間程度酸
素含有雰囲気下で加熱する。潤滑剤の熱的劣化を考慮す
れば、溶媒の沸点の温度で加熱すれば良い。また、生産
性を考慮すれば、加熱処理時間としては１０〜６０分間
程度の時間が好ましい。たとえば、パーフルオロポリエ
ーテル系潤滑剤（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＯＬ）の場合、分解温度は約３００（℃）であ
り、沸点５０（℃）のフロン系溶剤を用いた場合、約５
０（℃）で３０分程度の加熱処理を行なう。
【００１４】その後、低圧水銀ランプ、高圧水銀ラン
プ、エキシマランプ、のいずれかを用い磁気記録媒体表
面での照射強度が０．５〜１００（ｍＷ／ｃｍ2 ）、好
ましくは１〜５０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の範囲内において
０．１〜３０分程度、ディスク表面に紫外線を照射す
る。潤滑剤層と保護膜層との結合力を増加させるために
は、高い光エネルギが得られる波長２６０ｎｍ以下の低
波長光のスペクトルを持つランプが好ましく、その点
で、低圧水銀ランプ、エキシマランプを用いることが好
ましい。また、紫外線によって大気中の酸素がオゾンに
分解してしまい、活性化されたオゾンが多量に含まれる
と潤滑剤分子および保護膜分子の分解、破壊をもたらし
てしまうため、紫外線照射中の雰囲気としては窒素ガス
雰囲気やアルゴンガス雰囲気、又は真空中、など無酸素
雰囲気で行なうことが好ましい。
プ、エキシマランプ、のいずれかを用い磁気記録媒体表
面での照射強度が０．５〜１００（ｍＷ／ｃｍ2 ）、好
ましくは１〜５０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の範囲内において
０．１〜３０分程度、ディスク表面に紫外線を照射す
る。潤滑剤層と保護膜層との結合力を増加させるために
は、高い光エネルギが得られる波長２６０ｎｍ以下の低
波長光のスペクトルを持つランプが好ましく、その点
で、低圧水銀ランプ、エキシマランプを用いることが好
ましい。また、紫外線によって大気中の酸素がオゾンに
分解してしまい、活性化されたオゾンが多量に含まれる
と潤滑剤分子および保護膜分子の分解、破壊をもたらし
てしまうため、紫外線照射中の雰囲気としては窒素ガス
雰囲気やアルゴンガス雰囲気、又は真空中、など無酸素
雰囲気で行なうことが好ましい。
【００１５】本発明において潤滑剤塗布後の加熱処理に
よって残存溶媒が取り除かれると、カーボン保護膜上に
潤滑剤が島状に存在することになる。そこで、大気中な
ど酸素含有雰囲気下で加熱処理しているため、カーボン
保護膜上に炭素酸化物が形成される。通常のカーボン保
護膜では表面に官能基が存在しないため潤滑剤との濡れ
性は悪いが、本発明のように表面に炭素酸化物が形成さ
れると、これが官能基となって潤滑剤との濡れ性を向上
させ、島状に分布していた潤滑剤が保護膜上にほぼ均一
に広がる。この状態で、紫外線照射処理を行なうため、
保護膜と潤滑剤の接触している面積が大きくなり、保護
膜と潤滑剤との結合力をさらに効果的に向上させること
ができる。酸素含有雰囲気としては酸化ガスを導入する
ことでも良いが、大気中に含まれる酸素量でも十分であ
る。この方法によって潤滑性能の優れた磁気ディスクを
得ることができる。
よって残存溶媒が取り除かれると、カーボン保護膜上に
潤滑剤が島状に存在することになる。そこで、大気中な
ど酸素含有雰囲気下で加熱処理しているため、カーボン
保護膜上に炭素酸化物が形成される。通常のカーボン保
護膜では表面に官能基が存在しないため潤滑剤との濡れ
性は悪いが、本発明のように表面に炭素酸化物が形成さ
れると、これが官能基となって潤滑剤との濡れ性を向上
させ、島状に分布していた潤滑剤が保護膜上にほぼ均一
に広がる。この状態で、紫外線照射処理を行なうため、
保護膜と潤滑剤の接触している面積が大きくなり、保護
膜と潤滑剤との結合力をさらに効果的に向上させること
ができる。酸素含有雰囲気としては酸化ガスを導入する
ことでも良いが、大気中に含まれる酸素量でも十分であ
る。この方法によって潤滑性能の優れた磁気ディスクを
得ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を実施例
によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
【００１７】（実施例１）非磁性基板上に磁性層、さら
に上層に非晶質カーボンからなる保護膜層が形成された
基板を作成した。この基板はガラスディスク上にアルミ
ニウムからなる凹凸形成層（平均膜厚５〜３０ｎｍ）を
形成し、次いでＣｒからなる下地層（平均膜厚８０ｎ
ｍ）、ＣｏＰｔＣｒからなる磁性層（平均膜厚２０ｎ
ｍ）およびカーボン保護膜（平均膜厚１３ｎｍ）を順次
形成して得た。
に上層に非晶質カーボンからなる保護膜層が形成された
基板を作成した。この基板はガラスディスク上にアルミ
ニウムからなる凹凸形成層（平均膜厚５〜３０ｎｍ）を
形成し、次いでＣｒからなる下地層（平均膜厚８０ｎ
ｍ）、ＣｏＰｔＣｒからなる磁性層（平均膜厚２０ｎ
ｍ）およびカーボン保護膜（平均膜厚１３ｎｍ）を順次
形成して得た。
【００１８】この基板をパーフルオロポリエーテル系潤
滑剤（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＮ Ｚ ＤＯ
Ｌ）をフロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で
溶かした溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎ
ｍ）を形成した。この基板を、５０（℃）のオーブンに
入れ３０（ｍｉｎ）間大気中で加熱処理した。その後、
基板をオーブンから取り出し、低圧水銀ランプを用い、
基板表面での紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）
の条件下で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外
線照射して磁気ディスクを作製した。
滑剤（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＮ Ｚ ＤＯ
Ｌ）をフロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で
溶かした溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎ
ｍ）を形成した。この基板を、５０（℃）のオーブンに
入れ３０（ｍｉｎ）間大気中で加熱処理した。その後、
基板をオーブンから取り出し、低圧水銀ランプを用い、
基板表面での紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）
の条件下で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外
線照射して磁気ディスクを作製した。
【００１９】得られたディスクのＣＳＳ試験を温度２５
℃湿度４０％の環境下で行なった。
℃湿度４０％の環境下で行なった。
【００２０】ＣＳＳ試験として薄膜ヘッド（材質：Ａｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ、ヘッド荷重：３ｇｆ）を用い、ヘッド
をディスク上の半径２０ｍｍの位置になるよう設置し
た。次にディスクを３６００回転／ｍｉｎまで４（ｓｅ
ｃ）で立ち上げ、３６００回転／ｍｉｎで１（ｓｅｃ）
間保持、０回転まで４（ｓｅｃ）で立ち下げ、をＣＳＳ
１回とし、２０，０００回までのヘッドとディスク間で
発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。ＣＳ
Ｓ時における摩擦係数の変化を図１中の実施例１に示
す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく
優れた潤滑性能を維持していることがわかる。
2 Ｏ3 −ＴｉＣ、ヘッド荷重：３ｇｆ）を用い、ヘッド
をディスク上の半径２０ｍｍの位置になるよう設置し
た。次にディスクを３６００回転／ｍｉｎまで４（ｓｅ
ｃ）で立ち上げ、３６００回転／ｍｉｎで１（ｓｅｃ）
間保持、０回転まで４（ｓｅｃ）で立ち下げ、をＣＳＳ
１回とし、２０，０００回までのヘッドとディスク間で
発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。ＣＳ
Ｓ時における摩擦係数の変化を図１中の実施例１に示
す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく
優れた潤滑性能を維持していることがわかる。
【００２１】（実施例２）実施例１と同様に磁性層、さ
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．１（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした溶
液中にディップして潤滑剤層（膜厚約２ｎｍ）を形成し
た。この基板を、５０（℃）のオーブンに入れ３０（ｍ
ｉｎ）間大気中で加熱処理した。その後、基板をオーブ
ンから取り出し、エキシマランプを用い、基板表面での
紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下で、
窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線照射して磁
気ディスクを作製した。
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．１（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした溶
液中にディップして潤滑剤層（膜厚約２ｎｍ）を形成し
た。この基板を、５０（℃）のオーブンに入れ３０（ｍ
ｉｎ）間大気中で加熱処理した。その後、基板をオーブ
ンから取り出し、エキシマランプを用い、基板表面での
紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下で、
窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線照射して磁
気ディスクを作製した。
【００２２】得られたディスクの温度２５℃湿度４０％
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスク間
で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。Ｃ
ＳＳ時における摩擦係数の変化を図１中の実施例２に示
す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく
優れた潤滑性能を維持していることがわかる。
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスク間
で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。Ｃ
ＳＳ時における摩擦係数の変化を図１中の実施例２に示
す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく
優れた潤滑性能を維持していることがわかる。
【００２３】（実施例３）実施例１と同様に磁性層、さ
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、１００（℃）のオーブンに入れ３０
（ｍｉｎ）間大気中で加熱処理した。
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、１００（℃）のオーブンに入れ３０
（ｍｉｎ）間大気中で加熱処理した。
【００２４】その後、基板をオーブンから取り出し、低
圧水銀ランプを用い、基板表面での紫外線照射強度が約
１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下で、窒素ガス雰囲気中で
３００（ｓｅｃ）間紫外線照射して磁気ディスクを作製
した。得られたディスクの温度２５℃湿度４０％の環境
下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行なった。
そして２０，０００回までのヘッドとディスク間で発生
する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。ＣＳＳ時
における摩擦係数の変化を図１中の実施例２に示す。Ｃ
ＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく優れた
潤滑性能を維持していることがわかる。
圧水銀ランプを用い、基板表面での紫外線照射強度が約
１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下で、窒素ガス雰囲気中で
３００（ｓｅｃ）間紫外線照射して磁気ディスクを作製
した。得られたディスクの温度２５℃湿度４０％の環境
下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行なった。
そして２０，０００回までのヘッドとディスク間で発生
する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定した。ＣＳＳ時
における摩擦係数の変化を図１中の実施例２に示す。Ｃ
ＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化は小さく優れた
潤滑性能を維持していることがわかる。
【００２５】（比較例１）実施例１と同様に磁性層、さ
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、１００（℃）のオーブンに入れ３０
（ｍｉｎ）間、酸素を全く含まない窒素ガス雰囲気中で
加熱処理した。この基板を、低圧水銀ランプを用い、基
板表面での紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の
条件下で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線
照射して磁気ディスクを作製した。
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、１００（℃）のオーブンに入れ３０
（ｍｉｎ）間、酸素を全く含まない窒素ガス雰囲気中で
加熱処理した。この基板を、低圧水銀ランプを用い、基
板表面での紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の
条件下で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線
照射して磁気ディスクを作製した。
【００２６】得られたディスクの温度２５℃湿度４０％
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例１に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が比較
的大きく潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例１に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が比較
的大きく潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
【００２７】（比較例２）非磁性基板上に磁性層、さら
に上層に非晶質カーボンからなる保護膜層が形成された
基板を作成した。この基板をパーフルオロポリエーテル
系潤滑剤をフロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃
度で溶かした溶液中にディップコートによって塗布して
潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を作成した。
に上層に非晶質カーボンからなる保護膜層が形成された
基板を作成した。この基板をパーフルオロポリエーテル
系潤滑剤をフロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃
度で溶かした溶液中にディップコートによって塗布して
潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を作成した。
【００２８】得られたディスクの温度２５℃湿度４０％
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例２に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が大き
く、長期にわたる潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例２に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が大き
く、長期にわたる潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
【００２９】（比較例３）実施例１と同様に磁性層、さ
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、低圧水銀ランプを用い、基板表面で
の紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下
で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線照射し
て磁気ディスクを作製した。
らに非晶質カーボン保護膜層からなるディスクを作成し
た。この基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤をフ
ロン系の溶剤に０．０５（ｖｏｌ％）の濃度で溶かした
溶液中にディップして潤滑剤層（膜厚約１ｎｍ）を形成
した。この基板を、低圧水銀ランプを用い、基板表面で
の紫外線照射強度が約１０（ｍＷ／ｃｍ2 ）の条件下
で、窒素ガス雰囲気中で６０（ｓｅｃ）間紫外線照射し
て磁気ディスクを作製した。
【００３０】得られたディスクの温度２５℃湿度４０％
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例３に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が大き
く潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
の環境下でのＣＳＳ試験を実施例１と同様の条件で行な
った。そして２０，０００回までのヘッドとディスクと
の間で発生する最大摩擦力（最大摩擦係数）を測定し
た。ＣＳＳ時における摩擦係数の変化を図２比較例３に
示す。ＣＳＳ２０，０００回まで摩擦係数の変化が大き
く潤滑性能の特性が悪いことがわかる。
【００３１】（潤滑剤と保護膜との結合力評価）潤滑剤
と保護膜との結合力として、ウォッシュオフ（Ｗａｓｈ
ＯＦＦ）という方法で評価した。これは、作製した磁
気ディスクをフロン系の溶媒にディップして保護膜層上
の潤滑剤を洗い流す方法であり、ウォッシュオフ前後の
潤滑剤の膜厚比、つまりウォッシュオフ後の潤滑剤残存
率を求めることにより潤滑剤、潤滑剤と保護膜との吸着
力評価ができる。表１に実施例１から３および比較例１
から３の、ウォッシュオフ前の潤滑剤膜厚に対するウォ
ッシュオフ後の潤滑剤膜厚の割合（潤滑剤残存率）の値
を示す。
と保護膜との結合力として、ウォッシュオフ（Ｗａｓｈ
ＯＦＦ）という方法で評価した。これは、作製した磁
気ディスクをフロン系の溶媒にディップして保護膜層上
の潤滑剤を洗い流す方法であり、ウォッシュオフ前後の
潤滑剤の膜厚比、つまりウォッシュオフ後の潤滑剤残存
率を求めることにより潤滑剤、潤滑剤と保護膜との吸着
力評価ができる。表１に実施例１から３および比較例１
から３の、ウォッシュオフ前の潤滑剤膜厚に対するウォ
ッシュオフ後の潤滑剤膜厚の割合（潤滑剤残存率）の値
を示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】この結果、紫外線照射処理した磁気ディス
クの潤滑剤と保護膜との吸着力が、紫外線照射処理しな
かった磁気ディスクより高いことが示され、尚且つ潤滑
剤塗布した後に酸素含有雰囲気下で加熱処理を加えてか
ら紫外線照射処理した方がさらに吸着力が高いことがわ
かった。この吸着力の相違がＣＳＳ耐久性で示される潤
滑性能の向上の要因となっていることがわかる。
クの潤滑剤と保護膜との吸着力が、紫外線照射処理しな
かった磁気ディスクより高いことが示され、尚且つ潤滑
剤塗布した後に酸素含有雰囲気下で加熱処理を加えてか
ら紫外線照射処理した方がさらに吸着力が高いことがわ
かった。この吸着力の相違がＣＳＳ耐久性で示される潤
滑性能の向上の要因となっていることがわかる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の製造方法による
と、潤滑剤を塗布した後に加熱処理し、その後紫外線照
射処理を施すことにより優れた潤滑性能が得られ、さら
に長期にわたって潤滑効果が維持している磁気記録媒体
を得ることができる。
と、潤滑剤を塗布した後に加熱処理し、その後紫外線照
射処理を施すことにより優れた潤滑性能が得られ、さら
に長期にわたって潤滑効果が維持している磁気記録媒体
を得ることができる。
【図１】実施例１〜３のＣＳＳ時の摩擦係数の変化を示
す図。
す図。
【図２】比較例１〜３のＣＳＳ時の摩擦係数の変化を示
す図。
す図。
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性基板上に磁性層、カーボン保護膜
層および潤滑剤層を順次積層形式する磁気記録媒体の製
造方法において、 前記潤滑剤層の形成後に所望温度で加熱処理を行った
後、紫外線照射処理を行うことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項２】 非磁性基板上に磁性層、カーボン保護膜
層および潤滑剤層を順次積層形式する磁気記録媒体の製
造方法において、 前記潤滑剤層の形成後に酸素含有雰囲気下で所望温度で
加熱処理を行った後、紫外線照射処理を行うことを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方
法において、前記紫外線照射処理は低圧水銀ランプ、エ
キシマランプ、高圧水銀ランプを用いて行なわれること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１乃至３に記載の磁気記録媒体の
製造方法において、前記所望温度は潤滑剤中の溶媒の沸
点以上で潤滑剤の分解温度以下とすることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17926597A JPH1125452A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17926597A JPH1125452A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1125452A true JPH1125452A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16062832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17926597A Pending JPH1125452A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1125452A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012009090A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-01-12 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
-
1997
- 1997-07-04 JP JP17926597A patent/JPH1125452A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012009090A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-01-12 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
| US8920872B2 (en) | 2010-06-22 | 2014-12-30 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Method of producing a magnetic recording disc |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041029 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041109 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050308 |