JPS605030A - 高純度ガラス粉末およびこの粉末からガラス製品を製造する装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高純度ガラス粉末およびこのガラス粉末からガ
ラス製品を製造する装置および方法に関する。

透明なガラス製品は、通常多くの光学部材、例えば光学
繊維、レンズ、プリズム、フィルターまたはランプエン
ベロープの製造において出発部材として必要なものであ
る。

粉末を焼結して透明なガラス製品を製造する方法は、こ
の技術分野シておいて周仰である。米国將許第３，８０
６，３７０号に示されている１つの実施例の場合、ガラ
ス粉末は、火炎加水分解によって、高純度グラファイト
種結晶またけベートから成る支持体の表面上に、または
耐火性で膨張性の低いガラス、ガ゛ラスセラミック、ま
たは好適な結晶性セラミック種結晶上に沈着される。こ
の方法においては、沈着段階の終了後、この粉末沈着支
持体が炉内に導入され、沈着粉末粒子を焼結して透明な
ガラス製品を製造する。

米国特許第４，０６２，６６５号は、原料をノく−ナー
火。

炎から軸方向回転支持体上に沈着させることによシガラ
ス粉末を製造することについて述べておシ、この支持体
は上方ＩＣ向かつて徐々に引上げられるものである。こ
のように生成された多孔性スス′ロ：ツドは・焼結され
、引抜き可能な透明ガラス管内側を形成し、光学、繊維
を製造する。

米国特許第４，２６２．６”、８号に示されている他の
焼結方法は、ガラス管の内側においてＲＦ発生プラズマ
を使用し、このガラス管Ｇてガラス先駆物質蒸気全通過
させてガラス粒子を生成し、こめガラス粒子は粉体また
はガラスの形でガラス管内側に沈着される。この方法に
よれば、粉体の沈着時に、ガラス管は、粉体を沈着する
ＲＦ源と、焼結が行われる加熱領域との間で前後６て移
動される。得られた中空ガラス管は最終的に中実ガラス
ロンドとなシ、光学ファイバーの形に引抜かれる。米国
特許第４．２．７６，０７２号はグラファイトシリンダ
ーについて述べておシ、このグラファイトシリンダーは
、シリンダー自体の上に直接透明なガラスを沈着させる
ためにガラス蒸気先駆物質を加熱するだめの受容器とし
て作用するものである。

粉体を焼結して透明なガラス製品を製造する前記方法は
、少なくとも２つの欠点を有する。即ち、最終的に製造
されたガラスの形は支持体の形状訃よび大きさによって
制限される。さらに、これらの技術は製造効率が低い。

前記方法は支持体の形状に依存しているために、ガラス
球体全製造することができない。通常、複雑な物理的構
造を有するガラス製品は、これら先行技術によって製造
することはできない。

また、先行技術の沈着効率は不充分なものである。沈着
段階中に形成された粒子の大部分は排出ガスと共に失わ
れ、且つ支持体上に沈着されない粒体は付着室から除去
しなければならない。前記の沈着効・率は個々の方法に
よろけ几ども通常３０〜５０％である。前記ガラス焼結
方法は、効率が低く且つ高価な沈着原料が失われるため
に不経済なものとなっている。

本発明の教示によれば、トーチ内で先駆物質からガラス
粉末を生成し、この粉末を成形し、さらに最終的な製品
の形に焼結することにより、任意の形状を有する純粋の
、またはドープ処理したガラス製品が製造される。本発
明は非常に高い沈着割合で且つ非常に高い製造効率で任
意の形状のダラス製品を製造する利点を有する。本発明
に従って、粉末はトーチ内で生成され且つ沈着室内で収
集され、そこから所望の形状を有する金型に搬送される
。成形された粉末を２段階で焼結すると所望の形の透明
なガラスが製造される。

特（・て、最初蒸気または噴霧状溶液の形のガラス製造
材料の１波化物先駆物質を酸水素トーチ、酸臭化水素ト
ーチまたはプラズマトーチのようなトーチ内に導入し、
ここで前記材料を反応させることにより、ガラス粉末が
製造される。次に、この粉末は板上に且つ廃ガス線フィ
ルター内に集められる。この集められた粉末は、その後
の焼結段階Ｑておける収縮の程度全考慮した所望の最終
形状を有する金型に搬送される。さら１（、この金型は
第１温度で加熱され、粉末を不透明な硬質ガラス製品に
焼結する。この硬質製品は金型から取出され、さらに高
い温度で焼結され、光学的６Ｃ透明なガラス製品を製造
する。その後、この製品はさらに先のガラス処理、即ち
引抜操作の出発原料として利用することができる。

金型を加熱して不透明な硬質製品を製造する時、ヘリウ
ム、ヘリウムと塩素の混合物または他のパージ用物質お
よび乾燥剤のような不活性ガスがガラス製品の周囲に加
えられ、汚染を防止し且つ最終製品の純度を保持し、粉
末を確実（Ｃ乾燥させる。

本発明は添付図面に従う次の詳細な記載から充分に理解
されるであろう。

ガラス粉末生成および収集並びに粉末からの一般形状の
高純度ガラス製品の製造用の装置およびブタ法は、第１
図から第６図に示されている。第２図におい゛てステッ
プ６０によって表示されている加熱室１２　にガラス酸
化物先駆物質を運ぶために第１図内の化学物質搬送シス
テム１０が使用される。この化学物質搬送システム１０
は気泡吹込装置であシ、この装置内においてはガラス生
成化学物質が含まれ且つ加熱室への搬送用キャリヤーガ
スまたはキャリヤーガス類と混合される。他の態様の場
合、化学物質搬送システム１０は噴霧器であシ、この噴
霧器内においては、ガラス酸化物先駆物質が含′まれ且
つ不揮発性液体または溶液の形でこの場所から加熱室１
２へ運ばれる。ガラス製造化学物質、即ち酸化物先駆物
質は、化学物質搬送システム１０から送りライン１４を
経て加熱室１２内の熱源１６に送られる。

この熱源１６は通常酸水素１・−チ、酸臭化水素トーチ
またはプラズマトーチである。トーチ燃料は燃料源１８
からトーチ１６１Ｃ供給され、トーチ点火後、酸化物先
駆物質は化学物質搬送システム１０からトーチ１６に供
給される。酸水素トーチまたは酸臭化水素トーチは、燃
料源１８からトーチ１６にＨ２＋０２またはＣｎＨｘ＋
０２のトーチ燃料をそれぞれ供給し、点火することによ
って利用される。アルゴンプラズマはアルゴンをトーチ
１６に供給し且つＲＦ源から誘導されたエネルギーでア
ルゴンを点火することにより生成される。トーチ点火後
、酸素がアルゴンプラズマトーチ１６に供給される。

化学物質搬送システム１ｏから送りライン１４を経てト
ーチ１６に運ばれるガラス製造化学物質、即ち酸化物先
駆物質は、二酸化シリコン、二酸化ゲルマニウム、酸化
ホウ素、酸化アンチモン、酸化リンまたは酸化チタン、
酸化鉛のような他のガラス網状構造形成物質または中間
体、若しくはスズ、インジウムまたはそれらの混合物の
ような他の変性剤のようなガラスを製造するハロゲン化
物である。第２図に例示されている段階６２において、
ガラス酸化物先駆物質は、トーチ１６によって形成され
た加熱領域内において反応し、この結果搬送された先駆
物質はほぼ１００％の変換効率で非常に細いガラス粉末
に変換される。酸化物先駆物質をガラス粉末に変換して
いる間に、ドープ剤をトーチ１６に供給することにょシ
ドープ剤をガラス粉末に導入することができる。ガラス
粉末は純粋な酸化物または製造中ドープ剤でドープ処理
された酸化物であり、このドープ剤は、ゲルマニウム、
リン、ホウ素、チタン、アルミニウム、スズ、ジルコニ
ウム、アンチモン、ビスマス、タン−５ゲステン、モリ
ブデン、ニオブおよびタンタルを含む１つ以上の元素に
ょシドープされているガラスを生成するものである。

加熱室１２内でこのように生成された固体酸“化１物粉
末は、段階６４に従って２つの方法で沈着室２６内ＩＣ
集められる。酸化物粉末粒子全体のほぼ半分は、石英の
ような不活性な材料の面を有する収集板２ｏ上に蓄積さ
れる。収集板２ｏは移動可能な台座２２に取付けられ且
つ高さ調節手段２４によシ台座２２と一体的に垂直方向
に調節可能であシ、このためトーチ１６と収集板２ｏ上
に沈着した酸化物粉末粒子との間の距離を保持し、集め
られた粉末が不適当に加熱されないようにしである。ガ
ラス酸化物先駆物質をトーチ１６に導入することによシ
生成された酸化物粉末の残留分は、沈着室２６　から洗
気管２８を経て抜取られる。なお、この洗気管２８は真
空ライン３２を介して真空源３０１Ｃ接続されている。

フィルター３４は洗気管２８と真空ライン３２との間Ｉ
Ｃ配置され、直径約０．１ミクロンのガラス酸化物粉末
を集めることにより、洗気管２８内に吸込まれた粉末粒
子を収集するものである。

段階６４　に示されているように、粉末は収集板２０お
よびフィルター３４から収集され、所望の形の高純度ガ
ラス製品は、段階６６に従ってこれら粉末を成形するこ
とにより製造される。このためには、収集板２０および
フィルター３４　から取出されたガラス酸化物粉末が所
望の形の金型に充填される。例示的な金型は第４図から
第６図に示されている。この金型は収集粉末に対して化
学的に不活性な材料から成り、通常グラファイト、焼結
アルミナ、安定化ジルコニアまたは同様な耐火性且つ不
活性な材料から成る。粉末は加圧下で、または加圧せず
に金型内（Ｃ充填され、他の態様の場合、粉末はポリメ
タクリル酸メチルのような結合剤または同様な結合性を
有する結合剤で粉末を結合させることによシ金型内で硬
質化される。

第４図は金型を示しており、この金型の場合、円筒形の
製品が外側管４ｏと内側ロッド４２との間に形成される
。第５図は管の形の金型を例示しておシ、この管は管内
体の中に粒状粉末を加圧注入または充填することにより
中実ロンドを形成するものである。第４図および第５図
に示されている金型の端部には、それら内部に粉末を保
持するために栓が設けられている。第６図は向かい合う
金型キャビティ４６から成る金型を例示しておシ、こｎ
ら金型キャビティは球形の、はぼ球形の、または他の中
実製品を成形するものである。結合剤を用いて金型内の
ガラス粉末を硬質化する時、結合剤中の有機物質は、さ
らに先の工程に進む前に、好適な温度で充填金型を加熱
することにょシ分解される。

第３図におめで、炉５２または望ましい加熱室中ニ導入
された粉末充填金型５ｏば、パージガス源５４からのヘ
リウムのような不活性ガス５４の流れによってパージさ
れ−た環境内で加熱される。

酸水素トーチまたは酸臭化水素トーチによって生成され
た粉末の場合、炉５２はヘリウムのような不活性ガスお
よび塩素のような乾燥ガスの混合物でパージされる。

炉５２の温度は、圧縮粉末を不透明な単一物品に焼結お
よび硬質化する好適な温度で第１焼結段階６８を提供す
るように制御される。この焼結温度で加熱中、物品はい
くぶん収縮する。この収縮の量は、粉末圧縮工程中に金
型内のガラス粉末に加えられた圧力に主として左右され
る。金型は比較的低い熱膨張係数を有するので、金型内
の圧縮粉の収縮により、圧縮粉は金型の壁から分離して
取出し易くなる。第１焼結温度で生成された圧縮粉は、
硬く不透明で部分的に焼結し多孔質な物品である。

この第１焼結温度で焼結することによシ生成された硬質
物品は、第２焼結段階７０において第１焼結温度よシ高
い第２焼結温度で且つこの物品の融点以下の通常数１０
０度で加熱処理される。この第２焼結段階７ｏの間、炉
５２はヘリウムの°ような不活性ガスでパージされ、こ
の結果焼結中の反応性ガスによる物品の汚染が防止でき
る。第２焼結段階７０における第２温度の焼結にょシ、
不透明で多孔質の物品は気孔のない光学的に透明な汝ラ
スに変換される。

重く且つ大きなガラス物品は、この第２焼結段階の間、
炉内において懸吊され、望ましくない変形またはそシを
防止する。

ここに開示されたガラス粉末およびガラス製品の成形用
の方法および装置は、経済的な方法で任意の一般的な形
の高純度ガラス製品を製造する。

本発明の方法はガラス製造原料および酸化物を有効に利
用しておｐｌこの方法において使用される高価な化学物
質、ガラス製造原料および酸化物は、はんのわずかな量
が廃棄物として失われるにすぎない。

次にガラス成形用装置および方法の実施例について述べ
る。

実施例１ 第１図において、四塩化ケイ素が化学物質搬送システム
１０に対応する気泡吹込装置内で発生される。キャリヤ
ーガスとしての酸素は、気泡吹込装置から搬送ライン１
４およびトーチ１６を経て加熱室１２の加熱領域に四塩
化ケイ素を搬送する。

気泡吹込装置を通過する酸素キャリヤーガスの流量は約
２，０００１ｄ／分である。加熱領域は酸素トーチであ
るトーチ１６ＶＣよって形成される。酸水素トーチには
、４．０５　リットル７分の酸素と共に８．１リットル
／分の流量で水素を供給することにょシ燃料が供給され
る。ここで化学反応が起こり、酸素キャリヤーガスにょ
シ加熱領域６て導入された四塩仇／リコンが反応し、約
０．１ミクロンの直径を有する非常に微細なシリカ粉末
を生成する。このシリカ粉末の一部は石英表面を有する
収集板２゜上に沈着され、残シのシリカ粉末は排気管２
８から排出され、微細フィルターろ４内で捕獲される。

高さ調節手段２４に係合している台座２２に取付けられ
ている収集板２ｏは、高さ調節手段２４によって制御さ
れ、トーチ１６によつ、て形成された加熱領域と収集板
２０の石英表面との間の所定距離を保持する。シリカ粉
末は収集板２０および微細フィルター３４から取出され
、グラファイト金型に送られる。内部に圧縮粉を含む金
型全体が炉５２内で１，１５０℃に加熱される。この炉
は５　ｍｌＡの流量のヘリウムガスおよび５０１ｄ／分
の流量の塩素ガスでパージされたものである。パージガ
スにより、ガラス製造酸化物と他の気体汚染物との反応
が防止され、従って不純物が圧縮製品に混入・すること
が避けられる。パージガスはまたシリカ粉末を乾燥する
。この圧縮粉は５分以上、好ましくは３０分間　１，１
５０℃で加熱される。焼結は１，１５０℃の温度で起こ
シ、収縮が引起され、不透明なガラス物体は金型から分
離される。このようにして成形された圧縮粉は硬質のシ
リカ物品である。この物品は金型から分離され、次にヘ
リウムの不活性ガス雰囲気内で１，４００℃以上の第２
温度で、好ましくは約１．５００℃で焼結される。前記
ヘリウムは５Ｒ１１５＋の流量で炉５２に供給される。

この物品はこの第２焼結温度で３０分以上、好ましくは
９０分間焼結される。この実施例に従って製造された物
品は高純度の非多孔性で、気泡を含まず、光学的に透明
なシリカガラス製品である。

実施例２ 実施例１の方法において、トーチ１６　として酸水素ト
ーチの代りに酸臭化水素トーチが使用される。酸臭化水
素トーチには、１２．１！Ｊソトル／分の流量の酸素と
共に、天然ガスが８．１リットル／分の流量で供給され
る。

実施例３ 実施例１の方法において、トーチ１６としてプラズマト
ーチが使用され、このプラズマトーチへの燃料供給は、
１キロワット以上のＲＦ電力水準且つ１０　メガヘルツ
以上の周波数の誘導結合プラズマに約７００ｍ１／分で
アルゴンガスを通過させることによシ行われる。この時
、酸素は７００　ｍｌ／分の流量で導入される。プラズ
マトーチの加熱領域内で生成された粉末は、ヘリウムガ
スのみによシパージされた雰囲気において第１焼結温度
で炉内で加熱さ、れる。ヘリウムガスは５　ｄ／分の流
量で。

炉に導入される。

実施例４ 実施例１の方法において、四塩化ケイ素および四塩化ゲ
ルマニウムがそれぞれ２，０００ｍ１／分および１、０
００ＲＥ／分の流量で化学物質搬送システム１０の気泡
吹込装置を経て加熱室１２　に導入される。

得られたガラス物品はゲルマニウムでドープ処理されだ
シリカガラスである。

前記実施例および説明は本発明を実施する方法および装
置を単に例示するものであシ、本発明の範囲は特許請求
の範囲によってのみ限定されるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の粉末収集用装置の一般的な概略図であ
る。 第２図は本発明のガラス物品成形段階を例示するフロー
チャートである。 第６図は圧縮粉を焼結する炉の一般的な概略図である。 第４図から第６図は本発明を実施する際（（使用される
３つの代表的な金型を示している。 １０・・・化学物質搬送システム　、１２・・加熱室。 １６・・・トーチ　、１８・・・燃料源　。 ２０・・収集板　、２６・・・沈着室　。 ３０・・・真空源　、３４・・・フィルター　。 ５０・・金型　、５２・・・炉 ほか１名 手続補正書（方式） 昭和５９年７　月２５日 特許庁長官殿 （特許庁審査官　殿）１・　・ １、事件の表示 昭和５９年特許願第９３８４０号 ３、補正をする者 事件との関係　出願人 氏名（名称）　−ｃアミす°テ′”ミー−ケイン３ンズ
。 ラバーラドリーズ ４、代理人 住所　東京都港区南青山−丁目１番１号５、補正命令の
日刊（自発） ＱＱ−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　酸木菟トーチ、酸炭化水素トーチおよびプラズ
   マトーチの群から選ばれるトーチ内においてガラス製造
   原料を反応させて、公知の融点を有するガラス酸化物粉
   末を生成し： この粉末を所定の形に成形し； この成形された粉末を、この粉末の融点以下の第１温度
   で加熱して、硬質不透明物品を生成し；この硬質不透明
   物品を、前記第１温度と前記粉末の融点との間の第２温
   度で焼結して、高純度の光学的透明ガラス製品を製造す
   ることから成る高純度ガラス製品を製造する方法。 （２）　ガラス製造原料企キャリヤーガス中で蒸気の形
   で搬送する段階をさら（Ｃ含むことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 （６）　キギリャーガスが酸素であることを特徴とする
   特許請求の範囲第２項記載の方法。 （４）　ガラス製造原料を噴霧溶液の形で搬送する段階
   をさらに含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 （５）収集板上に前記ガラス粉末を収集する段階をさら
   に含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
   法。 （６）　フィルター内に前記ガラス粉末を収集する段階
   をさらに含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 （力　前記ガラス粉末の直径が約１ミクロンであること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 （８）　前記ガラス製造原料が、二酸化ケイ素、二酸化
   ゲルマニウム、酸化ホウ素、酸化アンチモンおよび酸化
   リンから成る群よシ選ばれるガラス酸化物の先駆物質で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
   。 （９）前記成形段階が、金型内で前記粉末に圧力を加え
   この粉末を圧縮する段階を含むことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 （１０）前記成形段階が、圧力の不在の下で金型に前記
   粉末を給配する段階を含むことを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の方法。 （１１）前記成形段階が、粉末に結合剤を加え、加圧せ
   ずに金型内で粉末を硬質化する段階を含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の方法。 （１２）第１温度による前記加熱段階が、前記粉末の周
   囲に不活性雰囲気を供給する段階を含むことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 （１６）第１１ｇ度による前記加熱段階が、前記粉末の
   周囲に不活性ガスおよび乾燥ガスの混合物を供給する段
   階を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   方法。 （１４）酸水素トーチ、酸炭化水素トーチおよびプラズ
   マト−チから成る群より選ばれるトーチ内においてガラ
   ス製造原料を反応させて、公知の融点を有するガラス酸
   化粉末を生成し； この粉末を所定の形に成形し： この成形された粉末を、この粉末の融点以下の第１温度
   で加熱して、硬質不透明物品を生成し；この硬質不透明
   物品を、前記第１昌度と前記粉末の融点との間の第２温
   度で焼結して、高純度の光学的透明ガラス製品を製造す
   ることから成る方法によって製造された超純粋光学透明
   ガラス製品−０（１５）前記ガラス製造原料が、二酸化
   ケイ素、二酸化ゲルマニウム、酸化ホウ素、酸化アンチ
   モンおよび酸化リンから成る群より選ばれるガラス酸化
   物の先駆物質であることを特徴とする特許請求′ｑ範囲
   第１４項の方法によって製造されたガラス製品。 （１６）ゲルマニウム、リン、ホウ素、チタン、アルミ
   ニウム、スス、ジルコニウム、アンチモン、ビスマス、
   タングステン、モリブデン、ニオブおよびタノタルの群
   から選ばれた１つ以上の元素で前記ガラス粉末をドープ
   処理する段階をさらに含むことを特徴とする特許請求の
   範囲第１４項の方法によって製造されたガラス製品。 Ｃ１７）酸水素トーチ、酸炭化水素トーチおよびプラズ
   マトーチから成る群より選ばれるトーチにガラス製造原
   料を搬送し； このトーチ内で酸化物を反応させてガラス粉末を生成し
   ； 前記トーチ内における前記ガラス製造原料の反応によっ
   て生成されたガラス粉末を収集することから成る高純度
   ガラス粉末を生成する方法。 （１８）前記搬送段階が、ガラス製造原料をキャリヤー
   ガス中に蒸気の形で前記トーチに供給する段階を含むこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の方法。 （１９）キャリヤーガスが酸素であることを特徴とする
   特許請求の範囲第１８項記載の方法。 （２０）前記搬送段階が、ガラス製造原料を噴霧溶液の
   形で供給する段階を含むことを特徴とする特許請求の範
   囲第１７項記載の方法。 （２１）前記収集段階が、収集板上にガラス粉末を収集
   する段階を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１７
   項記載の方法。 （２２）前記反応段階が反応領域内で行われ；前記収集
   段階が、収集板の位置を調節して反応領域と前記収集板
   との間に所定の間隔を保持する段階を含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第２１項記載の方法。 （２６）前記収集段階が、ガラス粉末をフィルター中に
   収集する段階を含むことを特徴とする特許請求の範囲第
   １７項記載の方法。 （２４）前記ガラス粉末の直径が約０．１ミクロンであ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の方法
   。 （２５）前記ガラス製造原料が、二酸化ケイ素、二酸化
   ゲルマニウム、酸化ホウ素、酸化アンチモンおよび酸化
   リンから成る群よｐ選ばれるガラス酸化物の先駆物質で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の方
   法。 （２６）酸水素トーチ、酸炭化水素トーチおよびプラズ
   マトーチから成る群よシ選ばれるトーチにおける加熱室
   内でガラス製造原料を反応させて、公知の融点を有する
   ガラス散化物粉末を生成する手段と； この粉末を成形する手段と； この粉末の融点以下の第１温度で前記成形粉末を加熱し
   て、硬質不透明物品を生成する手段と；この硬質不透明
   ｌ物品を前記第１温度と前記粉末の融点との間の第２温
   度で焼結して、高純度の光学的透明ガラス製品を製造す
   る手段とから成る高純度ガラス製品を製造する装置。 （２７）前記ガラス製造原料を前記トーチに搬送する手
   段をさらに含むことを特徴とする特許請求の範囲第２６
   項記載の装置。 （２８）前記搬送手段が、気泡吹込装置と、キャリヤー
   ガス内の前記ガラス製造原料を前記トーチ１ｃ搬送する
   手段とから成ることを特徴とする特許請求の範囲第２７
   項記載の装置。 （２９）前記キャリヤーガスが酸素であることを特徴と
   する特許請求の範囲第２８項記載の装置。 （３０）前記搬送手段が、噴霧器と、前記トーチに前記
   ガラス製造原料を搬送する手段とから成ることを特徴と
   する特許請求の範囲第２７項記載の装置。 （３１）前記酸化物粉末を収集する手段をさらに含むこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２６項記載の装置。 （３２）前記収集手段が、前記加熱室の下に配置された
   収集板から成ることを特徴とする特許請求の範囲第２６
   項記載の装置。 （ろ３）前記収集手段が、フィルターと、このフィルタ
   ー内に前記ガラス粉末を吸引するだめの真空状態を形成
   する手段とから成ることを特徴とする特許請求の範囲第
   ６１項記載の装置。 （３４）前記収集手段が、前記反応手段の下に位置°さ
   ・れで前記粉末の二部を受取る収集板と、フィルターと
   、真空状態を形成して前記収集板上に収集されなかった
   ガラス粉末を前記フィルター中に吸引する手段とから成
   ることを特徴とする特許請求の範囲第３１項記載の装置
   。 （６５）前記フィルターが微細、繊維フィルターである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第３４項記載の装置。 （６６）前記ガラス製造原料が、二酸化ケイ素、二酸化
   ゲルマニウム、酸化ホウ素、酸化アンチモンおよび酸化
   リンから成る群より選ばれるガラス酸化物の先駆物質で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第２６項記載の装
   置。 （６７）前記ガラス粉末の直径が約０．１ミクロンであ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第２６項記載の装置
   。