JPS6048446B2 - 窒化珪素粉末の製造方法 - Google Patents
窒化珪素粉末の製造方法Info
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- JPS6048446B2 JPS6048446B2 JP56060355A JP6035581A JPS6048446B2 JP S6048446 B2 JPS6048446 B2 JP S6048446B2 JP 56060355 A JP56060355 A JP 56060355A JP 6035581 A JP6035581 A JP 6035581A JP S6048446 B2 JPS6048446 B2 JP S6048446B2
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- powder
- silicon nitride
- nitride powder
- nitriding
- amorphous silica
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
- C01B21/0685—Preparation by carboreductive nitridation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はα型窒化珪素粉末の製造方法に係り、α型の含
有率の高い微細で高純度の窒化珪素粉末の製造方法を提
供することを目的とするものてある。
有率の高い微細で高純度の窒化珪素粉末の製造方法を提
供することを目的とするものてある。
窒化珪素粉末の製造はこれまで一般には
(1)金属珪素を直接窒化する方法。
(2)含珪素合金を窒化する方法。
(3)四塩化珪素とアンモニアとの気相反応法。
(4)シリカとカーボンとの混合粉末を窒素ガス中て還
元窒化する方法。などが知られている。
元窒化する方法。などが知られている。
しかしながら、(1)の方法では、珪素の窒化が発熱反
応でその発熱制御のため一工夫を要することや、金属珪
素として比較的粗粒のものを選び、窒化後粉砕するため
粉砕過程て不純物の混入は避けられす、α型窒化珪素粉
末の純度が低下する。
応でその発熱制御のため一工夫を要することや、金属珪
素として比較的粗粒のものを選び、窒化後粉砕するため
粉砕過程て不純物の混入は避けられす、α型窒化珪素粉
末の純度が低下する。
さらにこの方法は、窒化反応に比較的長時間を要する欠
点がある。また(2)の方法は(1)の方法より窒化に
要する時間こそ短くてすむ利点があるが、Fe−Si、
Ca−Siなどの含珪素合金を用いるためFe、Caな
どが不純物として残存し、高純度α型窒化珪素粉末を得
にくい欠点がある。
点がある。また(2)の方法は(1)の方法より窒化に
要する時間こそ短くてすむ利点があるが、Fe−Si、
Ca−Siなどの含珪素合金を用いるためFe、Caな
どが不純物として残存し、高純度α型窒化珪素粉末を得
にくい欠点がある。
さらに(3)の方法は半導体素子の表面被覆および非晶
質の窒化珪素粉末の製造などには適するが、・無機耐熱
材料用α型窒化珪素物末の製造には量産的とは云えず、
従つて工業的製造方法としては不適当である。
質の窒化珪素粉末の製造などには適するが、・無機耐熱
材料用α型窒化珪素物末の製造には量産的とは云えず、
従つて工業的製造方法としては不適当である。
これらの欠点がなく、しかも公知の(4)は窒化処理時
間が長いという欠点をもつていたが、本発明フはこれら
の欠点のない窒化珪素粉末の製造方法を提供するもので
ある。
間が長いという欠点をもつていたが、本発明フはこれら
の欠点のない窒化珪素粉末の製造方法を提供するもので
ある。
すなわち、従来のシリカとカーボンとの混合粉末を窒素
気流中で処理する場合には、窒化時間を短縮するために
、シリカとカーボン粉末を微細な5ものとすることで酸
素と窒素の拡散時間の短縮が計られているが、微細な粉
末では二次粒子を形成しやすく、混合された状態に於て
も二次粒子同池の凝集体となりやすい。
気流中で処理する場合には、窒化時間を短縮するために
、シリカとカーボン粉末を微細な5ものとすることで酸
素と窒素の拡散時間の短縮が計られているが、微細な粉
末では二次粒子を形成しやすく、混合された状態に於て
も二次粒子同池の凝集体となりやすい。
発明者等はこの欠点を解決するために鋭意改良検討を加
えてきた結果本発明に至つたものである。
えてきた結果本発明に至つたものである。
’即ち本発明は、アモルファスシリカ表面にカーボン
を均一に混合する方法に関するものである。
を均一に混合する方法に関するものである。
以下図面により詳細に発明の内容を記す。第1図は高温
加熱方法の1例を示すもので、1は有機物質の蒸発器、
2はキャリア−ガスの供給管である。3はシリカ粉末で
あり、キャリア−ガスによつて運ばれた気体状の有機物
質は、高周波コイル4によつて高温に加熱されたシリカ
表面に到達するや分解し、カーボンはシリカ表面に均一
にコーティングされる。
加熱方法の1例を示すもので、1は有機物質の蒸発器、
2はキャリア−ガスの供給管である。3はシリカ粉末で
あり、キャリア−ガスによつて運ばれた気体状の有機物
質は、高周波コイル4によつて高温に加熱されたシリカ
表面に到達するや分解し、カーボンはシリカ表面に均一
にコーティングされる。
気体状有機物質は、アモルファスシリカ表面の二次凝集
体の内部まで侵入するため、カーボン粉末とアモルファ
スシリカ粉末を混合する場合に比較して、はるかによく
混合された状態となる。このようにして得られた粉末は
、N。またはNH。を主ガスとする雰囲気中で1200
〜1500℃の範囲て熱処理される。1300゜C以下
の温度で熱処理した場合には窒化速度が遅く長時間を要
し、また逆に1500℃を越える場合にはSiOの生成
がみられ高品位のα型Si3N。
体の内部まで侵入するため、カーボン粉末とアモルファ
スシリカ粉末を混合する場合に比較して、はるかによく
混合された状態となる。このようにして得られた粉末は
、N。またはNH。を主ガスとする雰囲気中で1200
〜1500℃の範囲て熱処理される。1300゜C以下
の温度で熱処理した場合には窒化速度が遅く長時間を要
し、また逆に1500℃を越える場合にはSiOの生成
がみられ高品位のα型Si3N。
粉末は得られない。本発明の特徴は、密度の小さいアモ
ルフアスシ町リカを用いることにより0,Nのシリカ内
拡散速度を上ける上で効果があり、さらに表面積が50
ボ/y以上の微細な粉末を用いることで、アモルファス
シリカ粉末の粒子内部まで短時間でかつ低温に於て完全
に窒化される。別の特徴は、粉末の3粒子径を0.01
μmに近い粒子径のものまで製作可能なことである。即
ち、先にも記した通り、窒化時間および窒化温度が低い
ため得られたSi。N。の粒成長をごく小さく押えるこ
とができるためである。微細な粉末は表面積が大きく、
かつ表面エネ3ルギーが大きいために、焼結性が改良さ
れた粉末と言うこともできる。第2図には、プラズマ中
でカーボンをアモルファスシリカ表面にコーティングす
る方法の1例であり、5はプラズマ発生用高周波コイル
であり、4ι6はアモルファスシリカの供給管である。
ルフアスシ町リカを用いることにより0,Nのシリカ内
拡散速度を上ける上で効果があり、さらに表面積が50
ボ/y以上の微細な粉末を用いることで、アモルファス
シリカ粉末の粒子内部まで短時間でかつ低温に於て完全
に窒化される。別の特徴は、粉末の3粒子径を0.01
μmに近い粒子径のものまで製作可能なことである。即
ち、先にも記した通り、窒化時間および窒化温度が低い
ため得られたSi。N。の粒成長をごく小さく押えるこ
とができるためである。微細な粉末は表面積が大きく、
かつ表面エネ3ルギーが大きいために、焼結性が改良さ
れた粉末と言うこともできる。第2図には、プラズマ中
でカーボンをアモルファスシリカ表面にコーティングす
る方法の1例であり、5はプラズマ発生用高周波コイル
であり、4ι6はアモルファスシリカの供給管である。
プラズマ中へ導入されたキャリア−ガス中の気体状の有
槻物質とアモルファスシリカ粉末が接触するや粉末粒子
表面へカーボンの核が生成し、均一なコーティングを得
ることができる。このようなりーボンのコーティング方
法は、単にSiaN4の合成の場合のみでなく、SiC
の合成にも使える。
槻物質とアモルファスシリカ粉末が接触するや粉末粒子
表面へカーボンの核が生成し、均一なコーティングを得
ることができる。このようなりーボンのコーティング方
法は、単にSiaN4の合成の場合のみでなく、SiC
の合成にも使える。
SiCの合成の場合にはカーボンのコーテi インク量
を増やし、かつ炭化温度を1500〜1800℃の中性
または還元雰囲気中で熱処理することによつて得られる
。用いる有機物質は、軽分子量の物質の方が粉末表面の
付き回り性が向上し、均一なコーテイングクとなるし、
また沸点が100゜C以下の方が有機物質のコントロー
ルが容易である。
を増やし、かつ炭化温度を1500〜1800℃の中性
または還元雰囲気中で熱処理することによつて得られる
。用いる有機物質は、軽分子量の物質の方が粉末表面の
付き回り性が向上し、均一なコーテイングクとなるし、
また沸点が100゜C以下の方が有機物質のコントロー
ルが容易である。
実施例1
有機物質としてエチルアルコールを用い、キャリア−ガ
スとしてN2を用い、この混合ガスをア丁モルフアスシ
リカ粉末が入れてあり300℃に加熱してある。
スとしてN2を用い、この混合ガスをア丁モルフアスシ
リカ粉末が入れてあり300℃に加熱してある。
第1図に示す如き加熱部へ導入した。アモルファスシリ
カ粉末の表面積は380rr1/ダであり、キャリア−
ガス中のC2H5OHの濃度は3%であつた。3紛の加
熱後、粉末をよく冷却せしめて、外部に取り出しこれを
1400℃にてN。
カ粉末の表面積は380rr1/ダであり、キャリア−
ガス中のC2H5OHの濃度は3%であつた。3紛の加
熱後、粉末をよく冷却せしめて、外部に取り出しこれを
1400℃にてN。
中で加熱した。加熱時間を変えて粉末中の窒素量を測定
した。得られた粉末の粒子径は0.1ILTrL以下で
あつた。この結果を第3図に示す。7は本発明を用いた
粉末であり、8はボールミルにより5時間混合したもの
である。
した。得られた粉末の粒子径は0.1ILTrL以下で
あつた。この結果を第3図に示す。7は本発明を用いた
粉末であり、8はボールミルにより5時間混合したもの
である。
本発明の効果として窒化に要する時間が約1/6になつ
ていることがわかる。
ていることがわかる。
実施例2
有機物質としてベンゼンを用い第2図に示す方法でカー
ボンのコーティングを行なつた。
ボンのコーティングを行なつた。
アモルファスシリカ粉末の表面積は380イ/yであり
、キャリア−ガスとしてはN2を用いた。またキャリア
−ガスN2中のベンゼンの濃度は5%であつた。プラズ
マは4MHzで出力0.5KW100TfrmHgの減
圧下で処理した。得られた粉末を1400℃にてN。
、キャリア−ガスとしてはN2を用いた。またキャリア
−ガスN2中のベンゼンの濃度は5%であつた。プラズ
マは4MHzで出力0.5KW100TfrmHgの減
圧下で処理した。得られた粉末を1400℃にてN。
中で加熱し、実施例1と同様に窒化速度を調べ第3図の
曲線9にて示す如き結果を得た。また粒子径は0.1μ
m以ドであった。預面の簡単な説明 第1図は本発明製造法の実施例1に用いた装置乃概略図
、第2図は実施例2に用いた装置の概略礼第3図はシリ
カ粉末の窒化量と時間の関係をtした図である。
曲線9にて示す如き結果を得た。また粒子径は0.1μ
m以ドであった。預面の簡単な説明 第1図は本発明製造法の実施例1に用いた装置乃概略図
、第2図は実施例2に用いた装置の概略礼第3図はシリ
カ粉末の窒化量と時間の関係をtした図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 表面積50m^2/g以上のアモルファスシリカ粉
末と、中性または還元性のガスをキャリアーとした気体
状カーボン含有物とを、100〜500℃の温度または
プラズマ流中で接触せしめ、しかる後N_2を含む気流
中で1200〜1500℃の範囲で、0.5〜3時間熱
処理することを特徴とする窒化珪素粉末の製造方法。 2 中性または還元性のガスとして、N_2、H_2、
He、Ar、COを使用することを特徴とする特許請求
の範囲1項記載の窒化珪素粉末の製造方法。 3 気体状カーボン含有物が沸点が100℃以下の有機
物質であることを特徴とする特許請求の範囲1項記載の
窒化珪素粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56060355A JPS6048446B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56060355A JPS6048446B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57175712A JPS57175712A (en) | 1982-10-28 |
JPS6048446B2 true JPS6048446B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=13139756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56060355A Expired JPS6048446B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6048446B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105712305A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-29 | 沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司 | 一种新型氮化硅粉体的合成方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01317200A (ja) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | S T K Ceramics Kenkyusho:Kk | 窒化珪素ウイスカーの製造方法 |
-
1981
- 1981-04-20 JP JP56060355A patent/JPS6048446B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105712305A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-29 | 沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司 | 一种新型氮化硅粉体的合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57175712A (en) | 1982-10-28 |
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