JPS6047896B2 - 電解コンデンサ用アルミニウム箔 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、インジウム（Ｉｎ）を含有する電解コンデン
サ用アルミニウム箔に関する。

尚、本明細書において、’’％’’及び’゛ｐμｍ’’
とあるのは、特に規定しない限り重量基準で示すものと
する。

電解コンデンサに使用されるアルミニウｌ、箔としては
、エッチング性に優れていること、耐折強度が大なるこ
と、コンデンサとした場合の静電容量が大となること等
の性能を具備することが要求される。

従来この様な性質を有するアルミニウム箔を得る為に、
高純度アルミニウムに一定量の適当な合金成分を含有さ
せることが提案されているが、いずれも種々の点で充分
満足すべきものとはいい難い。本発明者は、公知のアル
ミニウム合金箔の問題点に留意しつつ種々研究を重ねた
結果、特定量のＩｎを含有する純度９９．９％以上のア
ルミニウｌ、合金箔が、エッチング性、耐折強度、コン
デンサ特性等の点で優れた効果を奏することを見出し、
遂に本発明を完成するにいたつた。即ち、本発明は、Ｉ
ｎを０．１〜１ｐｐｍ含有するアルミニウム純度９９．
９％以上の電解コンデンサ用アルミニウム箔に係るもの
である。本発明においては、アルミニウム純度を９９．
９％以上とするとともに、エッチング特性、耐折強度、
コンデンサ特性等を総合的に勘案してＩｎ含有量を００
１〜１ｐｐｍ）より好ましくは０．２５〜０．７５ｐｐ
ｍとする。

Ｉｎ含有量が０．１ｐμｍ未満の場合には、エッチング
性の改善及びコンデンサ容量の増大が充分に行なわれず
、一方１ｐμｍを上回る場合には、コンデンサ容量が低
下する傾向がある。本発明のアルミニウム箔は、純度９
９．９％以上のアルミニウム鋳造時にＩｎを１０．１〜
１ｐｐｍ含有する様に添加し、以後常法に従い圧延を行
ない、必要に応じ４５００Ｃ以上で非酸化性雰囲気又は
真空下に焼鈍することにより得られる。

本発明のアルミニウム箔においては、Ｉｎ添加により、
その軟化後の表面酸化皮膜の欠陥部は、ヨツテイング開
始点となり、その数は著るしく増加しているものと思わ
れる。

従つて、エッチング時にＣｌ−イオン浸入は容易であり
、エッチング初期ノの段階に多数のピットが形成される
。（１００）面占有率を向上させるには、圧延時の加工
歪量の蓄積が十分に行なわれる。

必要がある。しかるにアルミニウム純度が例えば９９．
９９％にもなると、圧延時に加工軟化してしまう為、最
５終軟化時の結晶粒の粗大化が著るしい。本発明で使用
するＩｎは、圧延時の加工歪を蓄積させる効果があり、
且つ結晶粒の粗大化を防止するので、（１００）面占有
率を増加させる。実施例１ 鋳造時に９９．９９％ＮにＩｎをＯ〜１．０ｐｐｍ添加
し、常法に従つて冷間圧延により０．１ｗｔの合金箔と
した後、真空下５５０℃で３時間焼鈍する。

（イ）次いで、ＨＣｌｌ２．５ＶＯｌ％を含むエッチン
グ浴に得られた軟質箔を浸漬し、浴温８０℃、直流電流
密度３０ＡＩｄｄの条件下に所定時間エッチングを行な
う。

Ｉｎ添加量とエッチング性（ビット数）との関係を各エ
ッチング時間につき調べた結果を第１図として示す。第
１〜３図において曲線Ａは、エッチング時間３＠、曲線
Ｂは９０秒、曲線Ｃは１８（８の場合の結果を夫々示す
。第１図から明らかな如く、Ｉｎ添加量が０．１〜０．
５ｐｐｍの範囲でビット数増大の効果が顕著であり、０
．７５ｐｐｍ以上になると効果はあまり認められない。
但し、エッチング条件によつては、０．７５ｐｐｍ以上
でも添加の効果が認められる場合があることも確認され
た。（ロ）前記で得られた軟化箔におけるＩｎ添加量と
（１００）面占有率との関係を調べた結果を第２図に示
す。

Ｉｎ添加による結晶粒の微細化に伴う（１００）面占有
率の向上が顕著である。（ハ）上記（イ）で得られた各
エツチド箔を夫々１０Ｖ化成した場合のＩｎ添加量と静
容量との関係を第３図として示す。

Ｉｎ添加量が０．２５〜０．７５ｐｐｍの範囲で最も良
好な結果が得られている。

【図面の簡単な説明】

第１〜３図は、本発明によるアルミニウム箔の物性を示
すグラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ インジウムを０．１〜１ｐｐｍ含有するアルミニウ
   ム純度９９．９％以上の電解コンデンサ用アルミニウム
   箔。