JPS637614A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔Info
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- JPS637614A JPS637614A JP15258286A JP15258286A JPS637614A JP S637614 A JPS637614 A JP S637614A JP 15258286 A JP15258286 A JP 15258286A JP 15258286 A JP15258286 A JP 15258286A JP S637614 A JPS637614 A JP S637614A
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- aluminum foil
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Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
駁１」Ｌ悲Ｂ」Ｌ交互
本発明は、電解コンデンサ用アルミニウム箔に関する。
従来の技術とその問題点
電解コンデンサ用アルミニウム籠（以下単にＡ＋２７３
という）としては、−般にエツチングによる粗面化によ
り表面積を拡大し、もって静電８聞の向上を図っている
。従来、エツチング性の改善は、主にＡＱ箔に微量の合
金元素を添加することにより行なわれているが、同じ成
分のアルミニウム箔を用いても、製箔工程の違いによっ
て静電８母が変動することが知られ゛ている。
という）としては、−般にエツチングによる粗面化によ
り表面積を拡大し、もって静電８聞の向上を図っている
。従来、エツチング性の改善は、主にＡＱ箔に微量の合
金元素を添加することにより行なわれているが、同じ成
分のアルミニウム箔を用いても、製箔工程の違いによっ
て静電８母が変動することが知られ゛ている。
問題点を解決するための手段
本発明者は、ＡＱ箔のエツチング性に及ぼす製箔工程中
の各種要因について研究を重ねた拮果、Ｆｅ等の不純物
含有量を一定限度以下としたＡＱ箔に特定の耐電圧を有
する酸化皮膜を形成させる場合には、エツチング性の改
善とそれに伴う静電８但の増大が可能となることを見出
した。即ち、本発明は、純度９９．７％以上で、Ｆｅ０
１１７％以下、Ｓｉ ０．０７％以下かツＣｕ０．０
０５％以下のアルミニウム箔表面に皮膜耐電圧が０．５
〜１．０■である酸化度、摸を形成された電解コンデン
サ用アルミニウム箔に係る。
の各種要因について研究を重ねた拮果、Ｆｅ等の不純物
含有量を一定限度以下としたＡＱ箔に特定の耐電圧を有
する酸化皮膜を形成させる場合には、エツチング性の改
善とそれに伴う静電８但の増大が可能となることを見出
した。即ち、本発明は、純度９９．７％以上で、Ｆｅ０
１１７％以下、Ｓｉ ０．０７％以下かツＣｕ０．０
０５％以下のアルミニウム箔表面に皮膜耐電圧が０．５
〜１．０■である酸化度、摸を形成された電解コンデン
サ用アルミニウム箔に係る。
本発明で使用するＡＱ箔は、純度９９．７％以上で、Ｆ
ｅ０．１７％以下、Ｓｉ ０．０７％以下かつＣｕ
Ｏ，００５％以下であることを要する。Ｆｅ、Ｓｉ及
びＣＬＩのいずれが１種の含有量がこれ等の上限値を上
回る場合には、エツチングの際の粗面化効率が低下して
しまうこと及び電解コンデンサの安定性を阻害してしま
うという問題があり、実用性がない。
ｅ０．１７％以下、Ｓｉ ０．０７％以下かつＣｕ
Ｏ，００５％以下であることを要する。Ｆｅ、Ｓｉ及
びＣＬＩのいずれが１種の含有量がこれ等の上限値を上
回る場合には、エツチングの際の粗面化効率が低下して
しまうこと及び電解コンデンサの安定性を阻害してしま
うという問題があり、実用性がない。
また、ＡＱ箔表面に形成される酸化皮膜の耐電圧は、０
．５〜１．０ボルトであることを要する。
．５〜１．０ボルトであることを要する。
この耐電圧が０．５ボルト未満の場合には、エツチング
操作時にＡＱ箔の腐食が過度に進行するので、粗面化に
よる静電容量の増大が期待できない。
操作時にＡＱ箔の腐食が過度に進行するので、粗面化に
よる静電容量の増大が期待できない。
−方、耐電圧が１．０ボルトを上回る場合には、不純物
、特にＦｅの析出が促進されてＡＱ箔の化学溶解性が増
すため、静電容量が低下してしまう。
、特にＦｅの析出が促進されてＡＱ箔の化学溶解性が増
すため、静電容量が低下してしまう。
本発明における酸化皮膜の形成方法としては、ＡＱ箔を
約１００〜２００℃で約０．５〜２４時間保持する方法
、ＡＱ箔を陽８ｉ酸化処理する方法等が挙げられる。
約１００〜２００℃で約０．５〜２４時間保持する方法
、ＡＱ箔を陽８ｉ酸化処理する方法等が挙げられる。
なお、本発明のＡＱ箔は、常法に従って、エツチング処
理することにより、高い静電容量を呈する。また、電解
コンデンサの陽極箔又は陽極箔として使用する場合にも
、既存のＡＱ箔と同様にして使用される。
理することにより、高い静電容量を呈する。また、電解
コンデンサの陽極箔又は陽極箔として使用する場合にも
、既存のＡＱ箔と同様にして使用される。
発明の効果
本発明によれば、純度９９．７％のＡＱ陰極箔から純度
９９．９９％の中低圧陽極箔にいたる広範なコンデンサ
用ＡＱ箔の静電容量を著るしく向上させることができる
。
９９．９９％の中低圧陽極箔にいたる広範なコンデンサ
用ＡＱ箔の静電容量を著るしく向上させることができる
。
実 施 例
以下、実施例を示し、本発明の特徴とするところをより
一層明らかにする。
一層明らかにする。
実施例１
純度９９ 、’９８％、Ｆｅ Ｏ，００６％、３ｉ０
．００５％、Ｃｕ ０．００５％の圧延上りＡＱ箔（
厚さ０．１ｍｍ）を空気中種々の温度で８時間にわたり
加熱処理し、酸化皮膜を形成させた。
．００５％、Ｃｕ ０．００５％の圧延上りＡＱ箔（
厚さ０．１ｍｍ）を空気中種々の温度で８時間にわたり
加熱処理し、酸化皮膜を形成させた。
上記の様にして加熱処理したＡＱ箔をＨＣＱ１０％、Ａ
ＱＣＱ３ ・６Ｈ２０５％及びＨ３Ｐ０ｔ１％の浴にて
温度５０℃、電流密度５０Ａ／ｄｍ２で３分間交流エツ
チング処理した。
ＱＣＱ３ ・６Ｈ２０５％及びＨ３Ｐ０ｔ１％の浴にて
温度５０℃、電流密度５０Ａ／ｄｍ２で３分間交流エツ
チング処理した。
次いで、上記エツチング処理ＡＱ箔を８％ホウ酸アンモ
ニウム液中３０℃で５０Ｖの直流電流を２０分間印加し
て、化成処理した。加熱処理後のＡＱ箔の皮膜耐電圧と
得られた化成処理箔の静電容量との関係を表１に示す。
ニウム液中３０℃で５０Ｖの直流電流を２０分間印加し
て、化成処理した。加熱処理後のＡＱ箔の皮膜耐電圧と
得られた化成処理箔の静電容量との関係を表１に示す。
表 １
実施１！ｉｌｌ ２
純度９９．９８％、Ｆｅ ０．００６％、Ｓ１０．０
０５％、Ｃｕｔ ０．００５％の圧延上りＡＱ箔（厚
ざ０．１ｍ１ｌｌ）を空気中種々の温度で加熱処理し、
酸化皮膜を形成させた。
０５％、Ｃｕｔ ０．００５％の圧延上りＡＱ箔（厚
ざ０．１ｍ１ｌｌ）を空気中種々の温度で加熱処理し、
酸化皮膜を形成させた。
処理侵のＡＱ箔を２０％ＮａＣＱの浴にて温度９５℃、
電流密度５０Ａ／ｄｍ２で２分間直流エツチング処理し
た。次いで実施例１と同じ条件で化成処理した。得られ
た化成処理箔の静電容ωを測定し、その結果を表２に示
す。
電流密度５０Ａ／ｄｍ２で２分間直流エツチング処理し
た。次いで実施例１と同じ条件で化成処理した。得られ
た化成処理箔の静電容ωを測定し、その結果を表２に示
す。
表 ２
実施例３
純度９９．７５％、Ｆｅ０．１６％、Ｓｉ０．０６％、
Ｃｕｂ、００％の圧延上りＡＱ箭（厚さ０．０５ｍｍ）
を種々の温度で加熱処理し、酸化皮膜を形成させた。
Ｃｕｂ、００％の圧延上りＡＱ箭（厚さ０．０５ｍｍ）
を種々の温度で加熱処理し、酸化皮膜を形成させた。
上記の様にして加熱処理したＡＱ箔を１−１０９１０％
、ＡＱＣＱ３ ・６Ｈ２０５％及びＨａＰＯ＆１％の浴
にて温度５０℃、電流密度５０Ａ／ｄｍ２で２分間交流
エツチング処理した。
、ＡＱＣＱ３ ・６Ｈ２０５％及びＨａＰＯ＆１％の浴
にて温度５０℃、電流密度５０Ａ／ｄｍ２で２分間交流
エツチング処理した。
加熱処理後のＡＱ箔の皮膜耐電圧と得られたエツチド箔
の無化成静電容量との関係を表３に示す。
の無化成静電容量との関係を表３に示す。
表 ３
実施例４
純度９９．９８％の圧延上りＡＱ箔を５％ホウ酸浴中に
て陽極酸化を行ない、０．５〜５ｖの皮膜を付与した。
て陽極酸化を行ない、０．５〜５ｖの皮膜を付与した。
実施例１と同様にして、エツチング及び化成処理を施し
た。結果を表４に示す。
た。結果を表４に示す。
表 ４
実施例１〜４に示した如く、皮膜耐電圧が０．５〜１．
ＱＶｏｌｔの範囲内の酸化皮膜を有するＡＱ箔（純度９
９．７％以上）は、電解エツチングの際の粗面化効率が
優れでおり、高い静電容量を示すことが明らかである。
ＱＶｏｌｔの範囲内の酸化皮膜を有するＡＱ箔（純度９
９．７％以上）は、電解エツチングの際の粗面化効率が
優れでおり、高い静電容量を示すことが明らかである。
（以 上）
’、＝＝７
″；＝−−′、コ・
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 純度９９．７％以上で、Ｆｅ０．１７％以下、Ｓｉ
０．０７％以下かつＣｕ ０．００５％以下のアルミニウム箔表面に皮膜耐電圧が
０．５〜１．０Ｖである酸化皮膜を形成させた電解コン
デンサ用アルミニウム箔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152582A JP2602013B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | エッチング処理用の電解コンデンサ用アルミニウム箔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152582A JP2602013B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | エッチング処理用の電解コンデンサ用アルミニウム箔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS637614A true JPS637614A (ja) | 1988-01-13 |
| JP2602013B2 JP2602013B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=15543614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61152582A Expired - Lifetime JP2602013B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | エッチング処理用の電解コンデンサ用アルミニウム箔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2602013B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0422758U (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-25 | ||
| JPH04179110A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔 |
| JP2003100565A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Nippon Chemicon Corp | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53112452A (en) * | 1977-03-14 | 1978-09-30 | Mitsubishi Keikinzoku Kogyo | Aluminum cathode foil for electrolytic capacitor |
| JPS5649508A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrolytic condenser |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61152582A patent/JP2602013B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53112452A (en) * | 1977-03-14 | 1978-09-30 | Mitsubishi Keikinzoku Kogyo | Aluminum cathode foil for electrolytic capacitor |
| JPS5649508A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrolytic condenser |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0422758U (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-25 | ||
| JPH04179110A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔 |
| JP2602357B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1997-04-23 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔 |
| JP2003100565A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Nippon Chemicon Corp | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2602013B2 (ja) | 1997-04-23 |
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Legal Events
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