JPS6047420A - ２重回折格子による位置合わせ装置 - Google Patents
２重回折格子による位置合わせ装置Info
- Publication number
- JPS6047420A JPS6047420A JP58155093A JP15509383A JPS6047420A JP S6047420 A JPS6047420 A JP S6047420A JP 58155093 A JP58155093 A JP 58155093A JP 15509383 A JP15509383 A JP 15509383A JP S6047420 A JPS6047420 A JP S6047420A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- light
- alignment
- incident
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体装置を製造するため露光装置やバタン評
価装置に用いる２重回折格子による位置１合せ方法とそ
の装置に関するものである。
価装置に用いる２重回折格子による位置１合せ方法とそ
の装置に関するものである。
半１体ＩＣやＬＳＩの微細化に伴い、マスクパクンをウ
ェハ上に一括もしくはステップ・アンド・レピート方式
で転写する露光装置等において、マスフバタンとウェハ
とを互いに高精度に位置合せすることが要求されている
。特にサブミクロンパタンを露光、転写する装置では極
めて高い位置合せ精度が要求され、この一方法として、
例えばＪ、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈｎｏｌ、、
ｖｏｌ、 １９． Ｎｏ。４．１９８１． ｐ、 ２
１４ には０．１μｍ以下の位置合せを行う目的で、２
重回折格子を用いた位置合せ方法が紹介されている。こ
の方法は第１の物体に設けた第１の回折格子と第２の物
体に設けた第２の回折格子とを一定の間隔をおいて重ね
、これら第１および第２の回折格子にコヒーレント光も
しくは準単色光を鉛直入射させ１、両回折格子により生
じたプラスとマイナスの同次数の回折光強度を減算処理
し、その減算結果の変化によって上記第１の物体と第２
の物体との相対変位を検出して位置合せするものである
。第１図１は回折格子のピッチを２μｍとし波長０．６
３２８μｍのレーザ光を用いた場合の例であり、曲線１
．２．３はそれぞれ上記間隔を２としたときＺ＝６．１
μｍ、Ｚ＝６．２μｍ１Ｚ＝６．３μｍのときの位置ず
れ量ｄに対する位置合せ信号の変化Δｌを示すが、第１
図に示−すように上記間隔２の僅か０．１μｍの変化に
対しても大きく位置合せ信号が変化するため実用するの
は困難であった。この解決策として特願昭５７−１８７
０７８において、プラスとマイナスの回折光強度を加算
処理することにより、間隙の影響を小さくし高精度の位
置合せを行う方法が記されている。
ェハ上に一括もしくはステップ・アンド・レピート方式
で転写する露光装置等において、マスフバタンとウェハ
とを互いに高精度に位置合せすることが要求されている
。特にサブミクロンパタンを露光、転写する装置では極
めて高い位置合せ精度が要求され、この一方法として、
例えばＪ、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈｎｏｌ、、
ｖｏｌ、 １９． Ｎｏ。４．１９８１． ｐ、 ２
１４ には０．１μｍ以下の位置合せを行う目的で、２
重回折格子を用いた位置合せ方法が紹介されている。こ
の方法は第１の物体に設けた第１の回折格子と第２の物
体に設けた第２の回折格子とを一定の間隔をおいて重ね
、これら第１および第２の回折格子にコヒーレント光も
しくは準単色光を鉛直入射させ１、両回折格子により生
じたプラスとマイナスの同次数の回折光強度を減算処理
し、その減算結果の変化によって上記第１の物体と第２
の物体との相対変位を検出して位置合せするものである
。第１図１は回折格子のピッチを２μｍとし波長０．６
３２８μｍのレーザ光を用いた場合の例であり、曲線１
．２．３はそれぞれ上記間隔を２としたときＺ＝６．１
μｍ、Ｚ＝６．２μｍ１Ｚ＝６．３μｍのときの位置ず
れ量ｄに対する位置合せ信号の変化Δｌを示すが、第１
図に示−すように上記間隔２の僅か０．１μｍの変化に
対しても大きく位置合せ信号が変化するため実用するの
は困難であった。この解決策として特願昭５７−１８７
０７８において、プラスとマイナスの回折光強度を加算
処理することにより、間隙の影響を小さくし高精度の位
置合せを行う方法が記されている。
第２図にその位置合せ信号の一例を示す。これはマスク
とウェハ上に作製されたピッチが２０μｍの回折格子と
波長が０．６３２８μｍのレーザ光を用い、上記間隔２
を６．１μｍから６．３μｍに変化させた場合の例で、
曲線４．５．６はそれぞれＺ＝６．１μｍ、Ｚ＝６．２
μｍ、 Ｚ＝５．３μｍの場合を示している。位置合せ
の制御は上記曲線に沿って行われ回折光強度の和ΣＩが
最小になった点、すなわちマスクとウェハの相対変位ｄ
が零になった点で完了する。位置合せ完了後に外乱によ
って第３図に示すＡ点に位置がずれた場合、位置合せ信
号の強度Σ■は零から８１人に変化するが、この値は相
対変位ｄの０軸に対して対称な位置ずれ点Ｂに対する値
に等しい。
とウェハ上に作製されたピッチが２０μｍの回折格子と
波長が０．６３２８μｍのレーザ光を用い、上記間隔２
を６．１μｍから６．３μｍに変化させた場合の例で、
曲線４．５．６はそれぞれＺ＝６．１μｍ、Ｚ＝６．２
μｍ、 Ｚ＝５．３μｍの場合を示している。位置合せ
の制御は上記曲線に沿って行われ回折光強度の和ΣＩが
最小になった点、すなわちマスクとウェハの相対変位ｄ
が零になった点で完了する。位置合せ完了後に外乱によ
って第３図に示すＡ点に位置がずれた場合、位置合せ信
号の強度Σ■は零から８１人に変化するが、この値は相
対変位ｄの０軸に対して対称な位置ずれ点Ｂに対する値
に等しい。
したがってΣＩの値だけからではＡ点にずれたのかＢ点
にずれたのかを判定することが不可能であった。このた
め通蕾はマスクバタンかウェハのいずれかを一定方向に
移動してＡ点からさらに位置ずれΔｄを生じさせ、ΣＩ
値が増加するか減少するかを観測し位置ずれ方向を判定
していた（Ａ点に位置ずれしていた場合はΣＩが増加し
Ｂ点に位置ずれしていた場合にはΣＩが減少する）。す
なわち位置ずれ方向を判定する八めにマスクバタンまた
はウェハを載せているテーブルを移動しなければならず
、かつこの判定のための移動によって位置ずれ量がΔ（
Σ■）だけさらに大きくなるという欠点があった。また
ずれ方向判定のために時間が余分にかかり位置合せ時間
が長くなるので、スループット向上を図る転写には適さ
なかった。
にずれたのかを判定することが不可能であった。このた
め通蕾はマスクバタンかウェハのいずれかを一定方向に
移動してＡ点からさらに位置ずれΔｄを生じさせ、ΣＩ
値が増加するか減少するかを観測し位置ずれ方向を判定
していた（Ａ点に位置ずれしていた場合はΣＩが増加し
Ｂ点に位置ずれしていた場合にはΣＩが減少する）。す
なわち位置ずれ方向を判定する八めにマスクバタンまた
はウェハを載せているテーブルを移動しなければならず
、かつこの判定のための移動によって位置ずれ量がΔ（
Σ■）だけさらに大きくなるという欠点があった。また
ずれ方向判定のために時間が余分にかかり位置合せ時間
が長くなるので、スループット向上を図る転写には適さ
なかった。
本発明は位置合せ制御を短時間で簡単に行うことができ
、しかも高精度が得られる２重回折格子による位置合せ
方法とその装置を得ることを目的とする。
、しかも高精度が得られる２重回折格子による位置合せ
方法とその装置を得ることを目的とする。
上記の目的を達成するために本発明による２重回折格子
による位置合せ方法とその装置は、一定間隔で重ね合わ
された第１の物体に設けた第１の回折格子と、第２の物
体に設けた第２の回折格子に入射したコヒーレント光も
しくは準単色光により生じる回折光の強度変化によって
、第１の物体と第２の物体の相対位置を検出する２重回
折格子による位置合せ方法とその装置において、」−記
コヒーレント光もしくは準単色光を相異なる２つの入射
角で上記回折格子に入射させ、第１および第２の回折格
子により生じるプラスとマイナスの同次数の回折光の強
度を加算処理し、第１の入射角に対する加算強度から第
２の入射角に対する加算強度を減算した演算結果の変化
により、第１の物体と第２の物体との相対位置を検出す
ることによって位置合せ制御を行うものである。
による位置合せ方法とその装置は、一定間隔で重ね合わ
された第１の物体に設けた第１の回折格子と、第２の物
体に設けた第２の回折格子に入射したコヒーレント光も
しくは準単色光により生じる回折光の強度変化によって
、第１の物体と第２の物体の相対位置を検出する２重回
折格子による位置合せ方法とその装置において、」−記
コヒーレント光もしくは準単色光を相異なる２つの入射
角で上記回折格子に入射させ、第１および第２の回折格
子により生じるプラスとマイナスの同次数の回折光の強
度を加算処理し、第１の入射角に対する加算強度から第
２の入射角に対する加算強度を減算した演算結果の変化
により、第１の物体と第２の物体との相対位置を検出す
ることによって位置合せ制御を行うものである。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する・。
第４図は本発明の回折格子による位置合せ装置の一実施
例の構成を示す図、第５図は上記実施例における回折格
子マーク部を示す拡大断面図、第６図は上記実施例にお
ける位置合せ方法の説明図、第７図は本発明の回折格子
による位置合せ装置の他の実施例の構成を示す図である
。第４図においてレーザ光源７から放射されたコヒーレ
ント光はガルバノメータや光偏向素子等からなる入射角
偏向ミラー８によって周期的にレーザ光線の方向が振ら
れ、球面ミラー９によって反射され真空吸着マスクホル
ダ１０に保持されるバタンマスク１１上の同一点に入射
する。バタンマスク１１に作製された回折格子マーク１
２に入射したレーザ光は、移動テーブル１３上に保持さ
れるウェハ１４上に作製された回折格子マーク１５で反
射され再度回折格子マーク１２を通過する。バタンマス
ク１１およびウェハ１４上に作製された回折格子マーク
１２および１５は第５図に拡大して示すように、前者は
透過形でバタンマスク１１を構成する透明基板もしくは
透明薄膜２１上に不透明薄膜２２によって回折格子バタ
ンを形成したものであり、後者は反射形でウニノ為８上
に無反射薄膜２３により回折格子パタンを形成したもの
である。これらの両回折格子１２．１５により入射レー
ザ光に対して対称的な方向に回折されたプラス、マイナ
ス１次の回折光は、ハーフミラ−１６によって反射され
、さらに集光レンズ１７によりそれぞれ光検出器１８．
１９に導かれる。プラス、マイナス１次の回折光は光検
出器１８．１９によって回折強度Ｉ＋１と１．とに光電
変換され、信号処理制御部２０によって加算処理されΣ
工となる。第４図の実線で示されるレーザ光線は回折格
子に鉛直入射する光線”で、図中破線で示されるレーザ
光は ２Ｐｓｉｎａ／λ＝ｍ （ｍ：奇数） を満足する入射角αで、回折格子に斜めに入射する光線
である。Ｐは回折格子のピッチで、λはレーザ光の波長
である。これらのレーザ光は入射角偏向ミラー８を鉛直
入射と斜め入射に対する角度に切換えることによって得
られる。鉛直入射および斜め入射時の回折光強度の加算
強度Σ■０２４およびΣＩα２５は第６図に示すように
相対変位ｄに関してＰ／２だけ位相が異なる。したがっ
て鉛直入射時の加算強度Σ■０２４を斜め入射時の加算
強度ΣＩα２５から減算した演算結果ΔＩ−ΣＩα−Σ
Ｉｏ、（点線で示す曲線２６）は、士旦点でΣｌ＝Ｃ１
軸をゼロクロスする曲線となりゼロクロス点で位置合せ
が可能である。
例の構成を示す図、第５図は上記実施例における回折格
子マーク部を示す拡大断面図、第６図は上記実施例にお
ける位置合せ方法の説明図、第７図は本発明の回折格子
による位置合せ装置の他の実施例の構成を示す図である
。第４図においてレーザ光源７から放射されたコヒーレ
ント光はガルバノメータや光偏向素子等からなる入射角
偏向ミラー８によって周期的にレーザ光線の方向が振ら
れ、球面ミラー９によって反射され真空吸着マスクホル
ダ１０に保持されるバタンマスク１１上の同一点に入射
する。バタンマスク１１に作製された回折格子マーク１
２に入射したレーザ光は、移動テーブル１３上に保持さ
れるウェハ１４上に作製された回折格子マーク１５で反
射され再度回折格子マーク１２を通過する。バタンマス
ク１１およびウェハ１４上に作製された回折格子マーク
１２および１５は第５図に拡大して示すように、前者は
透過形でバタンマスク１１を構成する透明基板もしくは
透明薄膜２１上に不透明薄膜２２によって回折格子バタ
ンを形成したものであり、後者は反射形でウニノ為８上
に無反射薄膜２３により回折格子パタンを形成したもの
である。これらの両回折格子１２．１５により入射レー
ザ光に対して対称的な方向に回折されたプラス、マイナ
ス１次の回折光は、ハーフミラ−１６によって反射され
、さらに集光レンズ１７によりそれぞれ光検出器１８．
１９に導かれる。プラス、マイナス１次の回折光は光検
出器１８．１９によって回折強度Ｉ＋１と１．とに光電
変換され、信号処理制御部２０によって加算処理されΣ
工となる。第４図の実線で示されるレーザ光線は回折格
子に鉛直入射する光線”で、図中破線で示されるレーザ
光は ２Ｐｓｉｎａ／λ＝ｍ （ｍ：奇数） を満足する入射角αで、回折格子に斜めに入射する光線
である。Ｐは回折格子のピッチで、λはレーザ光の波長
である。これらのレーザ光は入射角偏向ミラー８を鉛直
入射と斜め入射に対する角度に切換えることによって得
られる。鉛直入射および斜め入射時の回折光強度の加算
強度Σ■０２４およびΣＩα２５は第６図に示すように
相対変位ｄに関してＰ／２だけ位相が異なる。したがっ
て鉛直入射時の加算強度Σ■０２４を斜め入射時の加算
強度ΣＩα２５から減算した演算結果ΔＩ−ΣＩα−Σ
Ｉｏ、（点線で示す曲線２６）は、士旦点でΣｌ＝Ｃ１
軸をゼロクロスする曲線となりゼロクロス点で位置合せ
が可能である。
すなわちΔ■が零に近づ（ようにマスクホルダー０また
は移動テーブル１３を移動させて、Δ■−０の点にきた
とき停止するという方法により簡単に位置合せ制御がで
きる。またΔＩの正負判定によってマスクホルダー０ま
たは移動テーブル１３を動かすことなく、容易に位置ず
れ方向を判定することかでき、かつゼロクロス点におけ
るΔ■曲線２６の勾配は極めて大きいので、Σ■の最小
点で位置合せを行う方法に比して位置合せ感度を高（で
きる利点がある。さらにΔ■曲線２６はλｚ／Ｐ２＝２
を満たす間隔において最も単純な曲線となり勾配も大き
くなる。
は移動テーブル１３を移動させて、Δ■−０の点にきた
とき停止するという方法により簡単に位置合せ制御がで
きる。またΔＩの正負判定によってマスクホルダー０ま
たは移動テーブル１３を動かすことなく、容易に位置ず
れ方向を判定することかでき、かつゼロクロス点におけ
るΔ■曲線２６の勾配は極めて大きいので、Σ■の最小
点で位置合せを行う方法に比して位置合せ感度を高（で
きる利点がある。さらにΔ■曲線２６はλｚ／Ｐ２＝２
を満たす間隔において最も単純な曲線となり勾配も大き
くなる。
上記の実施例では±１次の回折光を利用した場合につい
てだけ記したが、±２次、±３次等の回折光を利用して
も同様の効果が得られる。また入射光としてはコヒーレ
ント光を利用した例を記したが、準単色光を用いてもほ
ぼ同様の結果が得られる。さらに鉛直入射光の代りに２
Ｐｓｉｎα／λ＝ｋ（ｋ：偶数）を満たす角度αの斜め
入射光を利用しても同様の効果が得られる。
てだけ記したが、±２次、±３次等の回折光を利用して
も同様の効果が得られる。また入射光としてはコヒーレ
ント光を利用した例を記したが、準単色光を用いてもほ
ぼ同様の結果が得られる。さらに鉛直入射光の代りに２
Ｐｓｉｎα／λ＝ｋ（ｋ：偶数）を満たす角度αの斜め
入射光を利用しても同様の効果が得られる。
上記の実施例では入射角偏向ミラー８によって鉛直入射
と斜め入射とを交互に切換え、その特待られる加算強度
ΣＩＯとΣＩαとの差Δ■によって位置合せする方法を
示したが、第７図に示すようにレーザ光源７から放射し
たレーザ光をビームスプリッタ２７により鉛直入射およ
び斜め入射用光線に分割し、チョッパ２８により交互に
これらのレーザ光を遮断して、一方のレーザ光だけを回
折格子」二に導くことにより、鉛直入射光と斜め入射光
とによる回折ｊ光強度の加算強度ΣＩＯとΣ■・とを交
互に・連続的に得て位置合せすることも可能である。
と斜め入射とを交互に切換え、その特待られる加算強度
ΣＩＯとΣＩαとの差Δ■によって位置合せする方法を
示したが、第７図に示すようにレーザ光源７から放射し
たレーザ光をビームスプリッタ２７により鉛直入射およ
び斜め入射用光線に分割し、チョッパ２８により交互に
これらのレーザ光を遮断して、一方のレーザ光だけを回
折格子」二に導くことにより、鉛直入射光と斜め入射光
とによる回折ｊ光強度の加算強度ΣＩＯとΣ■・とを交
互に・連続的に得て位置合せすることも可能である。
上記のように本発明の２重回折格子による位置合せ方法
とその装置は、一定間隔で重ね合わされた第１の物体に
設けた第１の回折格子と、第２の物体に設けた第２の回
折格子に入射したコヒーレント光もしくは準単色光によ
り生じる回折光の変化によって、第１の物体と第２の物
体との相対位置を検出する２重回折格子による位置合せ
方法とその装置において、上記コヒーレント光もしくは
準単色光を相異なる２つの入射角で上記回折格子に入射
させ、第１および第２の回折格子により生じるプラスと
マイナスの同次数の回折光の強度を加算処理し、第１の
入射角に対する加算強度から第２の入射角に対する加算
強度を減算した演算結゛果の変化により、第１の物体と
第２の物体との相対位置を検出することによって位置合
せ制御を行うものであるから、位置合せ制御を短時間で
簡単に行うことができ、しかも位置ずれ方向を容易に判
定でき、かつ勾配が極めて大きい曲線のゼロクロス点で
位置合せを行うため高精度の位置合せが可能である。
とその装置は、一定間隔で重ね合わされた第１の物体に
設けた第１の回折格子と、第２の物体に設けた第２の回
折格子に入射したコヒーレント光もしくは準単色光によ
り生じる回折光の変化によって、第１の物体と第２の物
体との相対位置を検出する２重回折格子による位置合せ
方法とその装置において、上記コヒーレント光もしくは
準単色光を相異なる２つの入射角で上記回折格子に入射
させ、第１および第２の回折格子により生じるプラスと
マイナスの同次数の回折光の強度を加算処理し、第１の
入射角に対する加算強度から第２の入射角に対する加算
強度を減算した演算結゛果の変化により、第１の物体と
第２の物体との相対位置を検出することによって位置合
せ制御を行うものであるから、位置合せ制御を短時間で
簡単に行うことができ、しかも位置ずれ方向を容易に判
定でき、かつ勾配が極めて大きい曲線のゼロクロス点で
位置合せを行うため高精度の位置合せが可能である。
第１図は従来の２重回折格子による位置合せ方・法にお
いて回折格子の間隔と位置合せ信号の変化・・との間係
を示す図、第２図は」二記従来方法において得られる±
１次回折光の減算強度、加算強度と相対変位との関係を
示す図、第３図は上記従来方法における位置ずれ方向の
説明図、第４図は本発明の２重回折格子による位置合せ
装置の一実施例の構成を示す図、第５図は上記実施例に
おける回折格子マーク部を示す拡大断面図、第６図は上
記実施例における位置合せ方法の説明図、第７図は本発
明の２重回折格子による位置合せ装置の他の実施例の構
成を示す図である。 １１・・・第１の物体（バタンマスク）１２・・−第１
の回折格子 １４・・・第２の物体（ウェハ）。 １５・・・第２の回折格子 １８．１９・・・光検出器
２０・・・信号制御部 特許出願人 日本電信電話公社 代理人弁理士 中村純之助 ｉＰｌ 図 ＩＦ５図 イ装置１ド１１量ｄＪンｉＹ喧ン 才３図 卆４図 第５胸 上場２ ６ 図 ′Ａ’ ７図 −１【
いて回折格子の間隔と位置合せ信号の変化・・との間係
を示す図、第２図は」二記従来方法において得られる±
１次回折光の減算強度、加算強度と相対変位との関係を
示す図、第３図は上記従来方法における位置ずれ方向の
説明図、第４図は本発明の２重回折格子による位置合せ
装置の一実施例の構成を示す図、第５図は上記実施例に
おける回折格子マーク部を示す拡大断面図、第６図は上
記実施例における位置合せ方法の説明図、第７図は本発
明の２重回折格子による位置合せ装置の他の実施例の構
成を示す図である。 １１・・・第１の物体（バタンマスク）１２・・−第１
の回折格子 １４・・・第２の物体（ウェハ）。 １５・・・第２の回折格子 １８．１９・・・光検出器
２０・・・信号制御部 特許出願人 日本電信電話公社 代理人弁理士 中村純之助 ｉＰｌ 図 ＩＦ５図 イ装置１ド１１量ｄＪンｉＹ喧ン 才３図 卆４図 第５胸 上場２ ６ 図 ′Ａ’ ７図 −１【
Claims (2)
- （１）一定間隔で重ね合わされた第１の物体に設けた第
１の回折格子と、第２の物体に設けた第２の回折格子に
入射したコヒーレント光もしくは準単色光により生じる
回折光の変化によって、第１の物体と第２の物体との°
相対位置を検出する２重・回折格子による位置合わせ方
法において、上記コヒーレント光もしくは準単色光を相
異なる２つの入射角で上記回折格子に入射させ、第１お
よび第２の回折格子により生じるプラスとマイナスの同
次数の回折光の強度を加算処理し、第１の入射角に対す
る加算強度から第２の入射角に対する加算強度を減算し
た演算結果の変化により、第１の物体と第２の物体との
相対位置を検出することを稍徴とする２重回折格子によ
る位置合わせ方法。 - （２）一定間隔で重ね合わされた第１の物体に設−けた
第１の回折格子と、第２の物体に設けた第２の回折格子
に入射したコヒーレント光もしくは準単色光により生じ
る回折光の変化によつ−て、第１９物体と第２の物体と
の相対位置を検出する２重回折格子による位置合わせ装
置において、上記コヒーレント光もしくは準単色光を回
折格子に異なる２つの入射角で入射させる手段と、上記
回折格子による回折光をそれぞれ検出する光検出器と、
該検出器から得られる信号を演算処理する信号制御部と
を備えたことを特徴とする２重回折格子による位置合せ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155093A JPS6047420A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２重回折格子による位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155093A JPS6047420A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２重回折格子による位置合わせ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6047420A true JPS6047420A (ja) | 1985-03-14 |
| JPS6355858B2 JPS6355858B2 (ja) | 1988-11-04 |
Family
ID=15598481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58155093A Granted JPS6047420A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２重回折格子による位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047420A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03115706U (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-29 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53137673A (en) * | 1977-05-03 | 1978-12-01 | Massachusetts Inst Technology | Device for and method of matching plate position |
| JPS5617017A (en) * | 1979-07-20 | 1981-02-18 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Positioning device using bidirectional diffraction grating |
-
1983
- 1983-08-26 JP JP58155093A patent/JPS6047420A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53137673A (en) * | 1977-05-03 | 1978-12-01 | Massachusetts Inst Technology | Device for and method of matching plate position |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03115706U (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-29 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6355858B2 (ja) | 1988-11-04 |
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