JPS6036099B2 - 半導体基板の洗浄方法 - Google Patents
半導体基板の洗浄方法Info
- Publication number
- JPS6036099B2 JPS6036099B2 JP6879777A JP6879777A JPS6036099B2 JP S6036099 B2 JPS6036099 B2 JP S6036099B2 JP 6879777 A JP6879777 A JP 6879777A JP 6879777 A JP6879777 A JP 6879777A JP S6036099 B2 JPS6036099 B2 JP S6036099B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- water
- container
- semiconductor substrates
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体基板の洗浄方法に関する。
一般に半導体ゥェハプロセスには各種の薬品処理工程と
各薬品処理工程後の洗浄工程とが伴う。
各薬品処理工程後の洗浄工程とが伴う。
洗浄工程は各薬品処理工程後にその都度必要でありその
ため洗浄工程の簡略化及び良否は作業時間を短縮しよう
とする場合の大きな要因となると共に製品の歩溜りに大
きな影響を及ぼす。従来は洗浄を完全に行うために複数
個の洗浄槽を配置して順次これらに浸潰していく方法が
とられているがこれは装置の大型化と共に水量の増大並
びに占有床面積の増大をきたしていた。また洗浄槽の数
を減らすためには一糟内での洗浄時間を長くしなければ
ならなかった。また特に超音波洗浄の場合には洗浄を一
様に行うために被洗浄物を上下動させて液面からの距離
を変化させる必要があった。本発明の目的は上記の欠点
を解消する点にある。
ため洗浄工程の簡略化及び良否は作業時間を短縮しよう
とする場合の大きな要因となると共に製品の歩溜りに大
きな影響を及ぼす。従来は洗浄を完全に行うために複数
個の洗浄槽を配置して順次これらに浸潰していく方法が
とられているがこれは装置の大型化と共に水量の増大並
びに占有床面積の増大をきたしていた。また洗浄槽の数
を減らすためには一糟内での洗浄時間を長くしなければ
ならなかった。また特に超音波洗浄の場合には洗浄を一
様に行うために被洗浄物を上下動させて液面からの距離
を変化させる必要があった。本発明の目的は上記の欠点
を解消する点にある。
以下、図面に従って説明する。
本発明によれば、上下部に夫々給水口１３及び排水ロー
５を有し、洗浄水（純水）が矢印で示す如く給水ロー３
から容器１内を流れて排水口１５から排水されるように
構成された洗浄容器１が使用される。
５を有し、洗浄水（純水）が矢印で示す如く給水ロー３
から容器１内を流れて排水口１５から排水されるように
構成された洗浄容器１が使用される。
好ましくは上方に浮いた不浄物を流し出すために洗浄水
の一部をオーバフローさせる。そして該洗浄容器１の底
部７の下方には別の補助容器３が設けられ容器３の底部
に超音波振動子５が配置される。補助容器３内には常時
水が満たされる。そして半導体基板２０等の被洗浄物は
適当な保持臭（図示せず）に保持されて容器１内に浸潰
される。前記給水口１３及び排水口１５には夫々弁９，
１１が設けられる。
の一部をオーバフローさせる。そして該洗浄容器１の底
部７の下方には別の補助容器３が設けられ容器３の底部
に超音波振動子５が配置される。補助容器３内には常時
水が満たされる。そして半導体基板２０等の被洗浄物は
適当な保持臭（図示せず）に保持されて容器１内に浸潰
される。前記給水口１３及び排水口１５には夫々弁９，
１１が設けられる。
該弁９，１１は公知の電磁弁が使用される。このような
構成において、電磁弁９，１１は交互に作動される。ま
ず電磁弁１１が“閉”とし電磁弁９を“開”にして洗浄
水を給水し続けながらオーバフロ−させる。所定時間後
に電磁弁９を“閉”にして電磁弁１１を“開”にする。
このとき超音波振動子５は常に作動させたま）とする。
電磁弁９が“開”位置になると洗浄水は排水ロー５から
排出されると共に液面が段々下降してくる。即ち超音波
振動子から液面までの距離が少しづつ変化するので超音
波の反射振幅が変化し半導体基板２０は均一に洗浄され
ることになる。即ち、水面高さを一定にして被洗浄物を
上下に動かしていた従来技術と全く同様の効果が達成さ
れるわけである。洗浄水が完全に排出されるかあるいは
所望の水位まで排出された後、再び電磁弁１１が閉じら
れ、電磁弁９が開かれて新らたな洗浄水が注入される。
電磁弁９，１１の切換の交番回数は洗浄時間に応じて適
宜選定される。またリレー等を用いてこの切換を自動化
することも勿論可能である。以上に記載した如く本発明
によれば単一の洗浄容器を用いて従来に劣らぬ洗浄効果
を達成し得るのみならず、水面レベルの変化により超音
波が均一に被洗浄物にあたるようになり特別な被洗浄物
用の上下駆動装置等が不要である。
構成において、電磁弁９，１１は交互に作動される。ま
ず電磁弁１１が“閉”とし電磁弁９を“開”にして洗浄
水を給水し続けながらオーバフロ−させる。所定時間後
に電磁弁９を“閉”にして電磁弁１１を“開”にする。
このとき超音波振動子５は常に作動させたま）とする。
電磁弁９が“開”位置になると洗浄水は排水ロー５から
排出されると共に液面が段々下降してくる。即ち超音波
振動子から液面までの距離が少しづつ変化するので超音
波の反射振幅が変化し半導体基板２０は均一に洗浄され
ることになる。即ち、水面高さを一定にして被洗浄物を
上下に動かしていた従来技術と全く同様の効果が達成さ
れるわけである。洗浄水が完全に排出されるかあるいは
所望の水位まで排出された後、再び電磁弁１１が閉じら
れ、電磁弁９が開かれて新らたな洗浄水が注入される。
電磁弁９，１１の切換の交番回数は洗浄時間に応じて適
宜選定される。またリレー等を用いてこの切換を自動化
することも勿論可能である。以上に記載した如く本発明
によれば単一の洗浄容器を用いて従来に劣らぬ洗浄効果
を達成し得るのみならず、水面レベルの変化により超音
波が均一に被洗浄物にあたるようになり特別な被洗浄物
用の上下駆動装置等が不要である。
また使用すべき洗浄水の量が低減されると同時に洗浄時
間の短縮も図れる。なお、前記補助容器３は必ずしも必
要とされず、洗浄容器１の底部に直接超音波振動子を配
設してもよい。
間の短縮も図れる。なお、前記補助容器３は必ずしも必
要とされず、洗浄容器１の底部に直接超音波振動子を配
設してもよい。
第１図は本発明に係る超音波洗浄装置の構成の概略を示
す断面図である。 １……洗浄容器、５・・・・・・超音波発振器、９，１
１・・・・・・電磁弁、１３・・・・・・給水口、１５
・・・・・・排水口、２０・・・・・・半導体ウェハ。
す断面図である。 １……洗浄容器、５・・・・・・超音波発振器、９，１
１・・・・・・電磁弁、１３・・・・・・給水口、１５
・・・・・・排水口、２０・・・・・・半導体ウェハ。
Claims (1)
- １ 洗浄水の給水口及び排水口を具備した洗浄容器の底
部に設置した超音波発振器により該洗浄容器内の洗浄水
に振動を与え、該洗浄水に浸漬された半導体基板を洗浄
する洗浄方法において、前記給水口及び排水口に夫々弁
を設けてこれらを交互に作動させることを特徴とする半
導体基板の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879777A JPS6036099B2 (ja) | 1977-06-13 | 1977-06-13 | 半導体基板の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879777A JPS6036099B2 (ja) | 1977-06-13 | 1977-06-13 | 半導体基板の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS544071A JPS544071A (en) | 1979-01-12 |
| JPS6036099B2 true JPS6036099B2 (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=13384059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6879777A Expired JPS6036099B2 (ja) | 1977-06-13 | 1977-06-13 | 半導体基板の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036099B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230061352A (ko) | 2020-09-03 | 2023-05-08 | 도요보 가부시키가이샤 | 2축 배향 폴리에스테르 필름 롤 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4543130A (en) * | 1984-08-28 | 1985-09-24 | Rca Corporation | Megasonic cleaning apparatus and method |
| US6033994A (en) * | 1997-05-16 | 2000-03-07 | Sony Corporation | Apparatus and method for deprocessing a multi-layer semiconductor device |
-
1977
- 1977-06-13 JP JP6879777A patent/JPS6036099B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230061352A (ko) | 2020-09-03 | 2023-05-08 | 도요보 가부시키가이샤 | 2축 배향 폴리에스테르 필름 롤 및 그 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS544071A (en) | 1979-01-12 |
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